IEMN

Unité Mixte de recherche CNRS 8520Unité Mixte de recherche CNRS 8520

Journées RTVideb b28 septembre au 1er octobre 2010

Jean‐Luc LORRIAUX

INSTITUTE CREATED JANUARY 1st, 1992

IEMN is a joint research unit betweenj

Centre National

CNRSCNRS UVHCUVHCUniversité de Centre National 

de la RechercheScientifique

Institut Supérieurd’Electronique

ISENISENUniversitéUniversitéLille 1Lille 1Des Sciences et T h l i

Valenciennes et du Hainaut Cambrésis

d Electroniqueet du Numérique

Technologies

ONE CENTRAL LABORATORY AND 4 UNITS

OUR MISSIONS

EducationEducation

• Master, PhD and post doc• Master, PhD and post doc

ResearchResearch

• Multidisciplinary research with emphasis on nanosciences, micro and nanotechnologies, telecommunications and acoustics

• Multidisciplinary research with emphasis on nanosciences, micro and nanotechnologies, telecommunications and acoustics

ResearchResearch

telecommunications and acoustics telecommunications and acoustics 

I tiI ti

• Scientific policy in agreement with socio‐economic problems,

• Scientific policy in agreement with socio‐economic problems,

InnovationInnovation

socio economic problems,• Partnership either with large companies 

or SMEs  • Actor of the regional economic development

socio economic problems,• Partnership either with large companies 

or SMEs  • Actor of the regional economic development

IEMN STAFF

> 500 people> 500 people

255 permanent  255 non permanent ppositions

155 researchers 100 ing and

ppositions

160 phd155 researchersand professors

110 f

100 ing. and tech.

160 phdstudents

30 t

30 post doc

5 i it d110 professors ‐associate professors 45 CNRS 30 master 

students5 invitedprofessors

30 trainees

100 F i i f 20 diff t t i100 Foreigners coming from 20 different countries

TOTAL BUDGET ~ 29 M€

21 M€ of annual support(French government)

19 M€ for salaries of permanents positions

2 M€ To support the research (Investment, running cost…)

21 M€ of annual support(French government)

8 M€ from contracts (agencies, EU, industry)

28%

65%7%

%

65%

RESEARCH POLICY

L t30  %30  % 50 %50 %

Mid term Sh t t20 % 20 % 

Basic phenomena

Long termResearch

Mid termResearch

Short termResearch

Support of industrial R&D Answer to industrial needs Basic phenomena Search of breakthroughand innovative solutions

Support of industrial R&D Design, fabrication andcharacterization of devices

Answer to industrial needs Design and fabricationof demonstrators andprototypes• Micro and nanosystems p yp Complete systems• Material for ICT

‐ Semiconductors‐ Organic, polymer

Micro and nanosystems

• Micro and nanoelectronics

• Optoelectronics • SensorsT l i i

• Nanostructures‐ Nanotubes, nanowires‐ Quantum dots

• Acoustics

• Microfluidics

h

‐ Telecommunications‐ Bio‐health applications‐ Non destructive control

Q‐ Nanodevices • Thermics

• Packaging

INTERNATIONAL RELATIONS

Worldwide collaborations

• Many EU projects with European Institutes and Companies

• European Associated Laboratory with the GPI of Russian Academy of Sciences ( li ti )

Worldwide collaborations

(nonlinear acoustics) 

• Cooperation agreement with NTU (Singapore)

• Dual master degree with Georgia Tech (Atlanta)

• Education program with UC Irvine

IMPORTANT LINKS WITH ASIA

Scientific organization

5 Scientific Departments and 18 research groups

Dpt 1 Dpt 2 Dpt 3 Dpt 4 Dpt 5pt__________MATERIALS ANDNANOSTRUCTURES

pt___________MICRO AND NANO SYSTEMS

pt 3___________MICRO NANO AND OPTOELECTRONICS

pt___________COMMUNICATIONS CIRCUITS AND SYSTEMS

pt 5___________ACOUSTICS

D. Stievenard V. Senez G.Dambrine P.A. Rolland B. Dubus

EPIPHYX Wallart

BIOMEMSV Senez

PUISSANCEJ C Dejaeger

CSAMP A Rolland

ACOUSTIQUEA C HladkyX. Wallart V. Senez J.C. Dejaeger P.A. Rolland A.C. Hladky

NCMD.Vuillaume

NAM6B.Legrand

ANODEF.Danneville

MITECT. Lasri

ULTRASONSM. Ouaftouh

Physique AIMAN DOME COMNUM AIMANy qC.Delerue P. Pernod D. Lippens F.X. Coudoux Pernod

MITECT. Lasri

Microélec SiE. Dubois

TELICEM.Lienard

OPTO Microélec SiOPTOD. Decoster

Microélec SiE. Dubois

SILPHYDEJ.L. Thobel

EPIPHYX. Wallart

THEME OF RESEARCH

M t i l d t tMaterials and nanostructures

MBE growth, arsenides, phosphides, antimonides, nanocrystals, high K materials, Si‐organic molecules interfaces, surface science for bio screening molecularsurface science for bio‐screening, molecular electronics, nanotubes, nanowires

THEME OF RESEARCH

h l dMicrotechnology and microsystems

Microactuators, SDAs, RF‐MEMS, Microfluidics, Bio‐MEMs, Magnetic Mechanical Microsystems THzMechanical Microsystems, THz Microsystems, acoustic bioMEMs

THEME OF RESEARCH

d lMicro nano and optoelectronics

Device modeling, advanced MOS , III‐V devices for mm, sub‐mm and THz applications, power devices Si mm wave circuits photonic crystalsdevices, Si mm‐wave circuits, photonic crystals, left‐handed materials, microwave photonics, nanophotonicsa op oto cs

THEME OF RESEARCH

dCircuits and communication systems

Smart object communication indoor broadbandSmart object communication, indoor broadband wireless communications, telecommunications for transportation systems, electromagnetic compatibility, re‐configurable mobile communications RF interface, smart antennas, i th t d di tmicrowave thermometry and radiometry

THEME OF RESEARCH

Acoustics

Electro‐active devices, power ultrasonics, picosecond acoustics, 

lnonlinear acoustics, NDC, antenna modeling, propagation of acoustic waves in complex mediawaves in complex media

THE COMMON FACILITIES

Micro and NanoFabrication clean‐room

Near field microscopy platform

Measurement TelecomMeasurement facilities

Telecom platform

Micro and Nano Fabrication clean‐room

1600 square meters clean room devoted to micro and nanotechnology

Staff: 26 Ing/Tech

Equipment: about 20 M€

Two e‐beam machine  EBPG 5000+ 100kV

Main equipments

Focused ion beam

3 Solid source MBE machines,  MBE 32

Ion  Implanter GA3204 

6 Oxidation/diffusion furnaces. Nanowire furnace

Several deposition equipments (evaporation, sputtering)

Several etching and plasma deposition machines (RIE, ICP,  PECVD)

Organic material platform.

Micro and Nano Fabrication clean‐room

Measurement facilities

Devoted to high speed‐high frequency device characterization

Staff :  4 Ing/Tech

Equipment: 2,5 M€

45 MHz ‐ 325 GHz  networks analyzers

Main equipments

y

THz measurements using electro‐optic sampling

Noise measurements

Low temperature Microwave measurements

High temperatures microwave measurements

Nonlinear measurements

MEMS and NEMS characterization

Measurement facilities

Carry out the full electrical characterization of electronic devices :Carry out the full electrical characterization of electronic devices :

• over a wide frequency range up to 325GHz.

• over a wide temperature range from 4.5K to 600K.p g

• For low current level such as several fA.

Perform the technology feedback

Near field microscopy platform

Staff :  3 Ing/Techg/

Equipment: 3,3 M€

Ultra high vacuum STM, ambiant T°

Main equipments

g ,

Ultra high vacuum AFM/STM at variable T°

LT‐STM, (4K)

3 open air AFM 

Open air STM 

Four probes STM

Telecom platform

Staff :  3 Ing/Techg/

Equipment: 2,5 M€

Complex signal generators

Main equipments

p g g Complex modulation schemes High data rate systems 

characterization WLAN UWB

THEME OF RESEARCH

Micro nano and optoelectronics

THEME OF RESEARCH

Micro nano and optoelectronics

NANOPHOTONICS

Le réseau RENATECH

FEMTO

Lille++ Micro‐nano‐opto‐electronics III‐V+ MEMS‐NEMS RF FEMTO 

(Besançon), 

FMNT‐INAC (G bl )

Orsay/ Marcoussis

 MEMS NEMS RF

(Grenoble),

IEF (Orsay)

IEMN (Lille),

Besançon++ Nanophotonics III‐V et Si++ Devices and circuits for spintronics+ optoelectronic devices

++ Micro‐Nano Acoustics IEMN (Lille), 

LAAS (Toulouse), 

Grenoble

++ Micro Nano Acoustics+ Micro‐Nano Optics

LPN (Marcoussis) Toulouse

++ Si nanoelectronics+ Spintronic devices

++ System integration (Energy, RF & Photonics)+ Micro and Nanosystems for biology health & environment

Les missions de RENATECHLes missions de RENATECH

Coordonner les ressources technologiques de six grandes centrales afin d’optimiser les investissements lourds nationaux et créer une infrastructure de recherche au meilleur niveau international.

Mettre ces moyens à la disposition de l’ensemble des laboratoires et des entreprises ayant des activités en micro‐ et nanotechnologies et favoriser ainsi le développement des recherches dans ces domaines.

Une procédure d’accueil identique pour toutes les

RENATECH en 2010 Une procédure d accueil identique pour toutes les 

centrales Une équipe technique dédiée pour l’accueil des projets exogènes: 

lid ti t h i é l ti d ût t d l d ivalidation technique, évaluation du coût et du calendrier. Accord sur le coût du projet entre le demandeur et la centrale. Définition d’un programme de formation (chercheur doctorant) 

éventuel.

Les outils de RENATECH: Un site web bilingue français anglais: www rtb cnrs fr Un site web bilingue français‐anglais: www.rtb.cnrs.fr Un intranet et une plateforme de travail collaborative Un  alias mail unique pour la répartition des projets et l’envoi dans 

toutes les centrales  (rtb‐accueil@cnrs‐dir.fr)

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