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半導體製程化學品

作者：蘇漢儒

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有機溶劑化學品：

1. 二甲苯 ( Xylene ) C6H4(CH3)22. 甲苯 ( Toluene ) C6H5CH33. 三氯乙烯 ( Trichloroethylene )4. 丙酮 ( Acetone ) (CH3)2CO5. 甲醇 ( Methyl Alcohol ) CH3OH

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有機溶劑化學品：

5. 異丙醇( Isopropanol ) 6. 光阻劑 ( Photoresist Developer ) 7. N - 丁基醋酸鹽

( N - Butyl Acetate )

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酸性有毒化學氣體：

1. 氯化氫 ( Hydrogen Chloride ) HCl 2. 氨 ( Ammonia ) 3. 二氯矽烷 ( Bichlorosilance ) SiH2Cl2 4. 矽烷 ( Silane ) 5. 磷化氫 ( Phosphine ) PH3

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酸性有毒化學液體：

1. 氧化物蝕刻緩衝劑( Buffered Oxide Etch )

2. 鹽酸 (Hydrochloric Acid ) HCl3. 氫氟酸 ( Hydrofluoric Acid ) HF4. 硝酸 ( Nitric Acid ) HNO3

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5. 硫酸 ( Sulfuric Acid ) H2SO46. 過氧化氫

( Hydrogen Peroxide ) H2O27. 氟化氨

( Ammonia Fluoride ) NH4F

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8. 金屬蝕刻溶劑( Metal Etch Solution )

9. 打線區蝕刻溶劑( Bonding Pad Etch Solution )

10. 醋酸 ( Acetic Acid ) CH3COOH

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半導體製程化學品簡介

A – 30 ：A – 30 是一種商用化學品的名稱，晶片完成蝕刻製程之後，

應用A – 30 去除晶片表面的光阻層，亦可應用於去除金屬層。

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醋酸 ( Acetic acid )：醋酸是一種屬弱酸的化學液體，

常與強酸混合之後，應用於晶

片潔淨製程的潔淨劑或蝕刻製

程的蝕刻劑。

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氨氣( Ammonia，NH3 )：氨氣是一種屬酸性的有毒化學

氣體，常應用氨氣與矽晶片反

應，生產氮化矽 ( Silicon nitride )的製程。

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氟化氨 ( Ammonia fluoride，NH4F )：氟化氨是一種有毒化學液體，

常應用氟化氨與氫氟酸反應，

當作二氧化矽 ( Silicon dioxide ) 蝕刻製程的緩衝劑。

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砷化三氫 ( Arsine，AsH3 )：砷化三氫是一種有毒化學氣體，

經常應用砷化三氫，作為砷的

原料，當作 N 型摻雜元素，應用於生產 N 型半導體的製程。

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王水 (Aqua regia )：王水是一種具有腐蝕性的有毒

化學液體，是硝酸與氫氟酸的

混合物，經常應用於潔淨矽晶

片的製程。

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三氯化硼 ( Boron trichloride，BCl3 )：三氯化硼是一種化學氣體，經

常應用三氯化硼作為硼的原料，

當作 P 型摻雜元素，應用於生產 P 型半導體的製程。

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硼乙烷 ( Diborane，B2H6 )：硼乙烷是一種化學氣體，經常

應用硼乙烷作為硼的原料，當

作 P 型摻雜元素，應用於生產P 型半導體的製程。

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氫氣( Hydrogen，H2 )：氫氣是一種無色臭的氣體比空

氣輕能自燃，經常應用氫氣作

為高溫反應製程，生長磊晶矽

的傳輸氣體 ( Carrier gas ) 。

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鹽酸 ( Hydrochloric acid，HCl )：鹽酸屬氯化氫的水溶液，是一

種強酸的化學液體，經常應用

鹽酸於潔淨矽晶片的製程。

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氫氟酸 ( Hydrofluoric acid，HF )：氫氟酸是一種屬強酸的化學液

體，經常應用稀釋的氫氟酸當

作二氧化矽 ( Silicon dioxide )蝕刻製程的蝕刻劑。

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過氧化氫

( Hydrogen peroxide，H2O2 )：過氧化氫是一種強烈的氧化劑

與漂白劑，經常與硫酸 ( Sulfuric acid ) 一起應用，去除已經曝光的光阻層。

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異丙醇 ( Isopropyl alcohol )：異丙醇是一種化學溶劑，應

用於半導體沖洗和乾燥製程。

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J-100：J-100 是一種商用化學品的名稱，晶片完成蝕刻製程之後，應用

J-100 去除晶片表面已經曝光的光阻層，亦可應用於去除金屬層。

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甲醇 ( Methanol alcohol )：甲醇是一種有毒的合成化學溶劑

，又稱為木醇或木精，應用於半

導體沖洗製程，去除晶片表面殘

留的其它化學溶劑晶矽。

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硝酸 ( Nitric acid ，HNO3 )：硝酸是一種有毒的強氧化酸化

學液體，應用於晶片潔淨製程

或金屬蝕刻製程。

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氮氣 ( Nitrogen，N2 )：氮氣是一種惰性的氣體，不與

其它物質起化學反應，經常應

用氮氣作為半導體製程的傳輸

氣體 ( Carrier gas ) 。

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氧氣 ( Oxygen，O2 )：氧氣是一種氣體，與矽反應成

二氧化矽，經常應用氧氣作為

氣相沉積氧化膜 ( Vapor deposition oxide ) 的製程。

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磷化氫 ( Phosphine，PH3 )：磷化氫是一種氣體，經常應用

磷化氫作為磷的原料，當作 N 型摻雜元素，應用於生產 N 型半導體的製程。

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氧化氯磷 ( Phosphorus oxychloride ，POCl3 )：氧化氯磷是一種化學液體，經常

應用氧化氯磷作為磷的原料，當

作 N 型摻雜元素，應用於生產 N 型半導體的製程。

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矽烷 ( Silane，SiH4 )：矽烷是一種易燃性化學氣體，與

空氣混合會自燃，經常應用矽烷，

與氨氣反應，生產氮化矽、與氧

氣反應，生產二氧化矽，它亦常

使用於沉積磊晶矽。

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四氯化矽 ( Silicon tetrachloride，SiCl4 )：四氯化矽是一種化學氣體，與氫

氣混合反應，產生矽與氯化氫氣

，它亦常使用於沉積磊晶矽。

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硫酸 ( Sulfuric acid，H2SO4 )：硫酸是一種屬強酸的化學液體，

應用於晶片潔淨製程或去除晶片

表面的光阻層。

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三氯乙烯 ( Trichloroethylene，CHCl )：三氯乙烯是一種有機化學溶劑，

應用於潔淨製程去除晶片、晶舟

、石英爐管或其它製程設備表面

的油脂或臘。

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二甲苯

( Xylem， C6H4(CH3)2 )：二甲苯是一種有機化學溶劑，

常應用於半導體製程去除晶片

表面未曝光的光阻層。

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Hen-Zu Su’s ResumeE-mail：[email protected] Country：TaiwanEducation：

Hen-Zu Su was graduated from Electronic Engineering of CHIENHSIN Junior College of Technology (1980 Taiwan). Hen-Zu Su holds a Bachelor of Science in Electrical Engineering from Ching Yun University (2002 Taiwan) and a Master of Science in Electronic Engineering from Chung Yuan Christian University (2006 Taiwan).

Affiliation：1. Hen-Zu Su is a permanent member of Chinese Institute of Electrical Engineering

(CIEE), 2002 - present.2. Hen-Zu Su is a permanent member of Chinese Institute of Engineers (CIE), 2003 –

present.Work experience：1. June 1974 - March 1976：Junior technician of electronic, television VHF/UHF

tuner division, Taiwan General Electronic corporation.2. March 1976 - April 1977：Analyst, television division, Taiwan RCA Electronic

corporation.3. December 1977 - March 1979：Technician of electronic, electronic organ division,

Tafong music instrument corporation. 4. March 1979 - June 1981：Technician leader of electrical & electronic, electrical

& electronic facility maintenance division, Shinjon chemical textile corporation.5. June 1981 - February 1984：Research engineer of Semiconductor device, Dawong

electronic devices corporation.6. March 1984 - April 2005：Senior technician of electrical & electronic, Data &

Telecommunication research division, Chung-Shan Institute of Science & Technology Armaments Bureau, Ministry of National Defense.

7. 1996 - present：Vocational Training Tutor, Taoyan Training Center, Bureau of Employment and Vocational Training.

8. 1999 - 2000：A public construction judge, Public Construction Commission Executive Yuan.

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