bande di energia in un conduttore la banda di energia più alta è parzialmente vuota livello di...
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bande di energia in un conduttore
La banda di energia più alta è parzialmente vuota livello di Fermi
g(E) va a zero sia al bordo inferiore che a quello superiore della banda
Overlap di bande di energia in un conduttore
bande di energia nel sodio
la banda 3s è parzialmente vuota; l’overlap con la banda 3p estende la banda permessa in cui già cade EF
bande di energia nel magnesio
EF
la banda 3s è totalmente occupata, ma l’overlap con la banda 3p fa sì che EF cada in una zona di energie permesse
bande di energia in un isolante
EF
bande di energia in un semiconduttore
energy gap
Energy gap
diamante 5,3 eV isolante
silicio 1,1 eV semiconduttore
germanio 0,7 eV semiconduttore
EF
conduzione elettrica nei metalli
Modello classico: Drude e Lorentz, 1905il problema: la legge di Ohm
V=RI suggerisce una proporzionalità tra forza (campo elettrico) e velocità (intensità di corrente)
il modello:• gli elettroni in un conduttore si comportano come un “gas” di particelle
quasi libere che si muovono con velocità disordinata di agitazione termica in tutte le direzioni, secondo la distribuzione di Boltzmann (velocità termica vt )
• in presenza di un campo elettrico gli elettroni vengono accelerati in direzione opposta al campo, acquistando una velocità media ordinata in questa direzione (velocità di deriva vd )
• negli urti anelastici contro gli ioni del reticolo perdono l’energia in più acquistata nell’accelerazione e ripartono con l’energia termica media (il che spiega l’effetto Joule)
• la velocità media di deriva è quindi la velocità media acquistata sotto l’azione del campo elettrico nel tempo medio fra un urto e il successivo (tempo di rilassamento)
moto “viscoso”
lSI
V
conduzione elettrica nei metalli
legge di Ohm V=RI
lSI
VE
mneanevneJ
JSS
llEJS
S
llE
d
2
;
resistività
2
2;
1
ne
m
m
ne
quanto vale ?m
Tk
m
Ev
v
l Btt
t
urti 32;
urti
B
lne
Tmk2
3
inoltre: EEm
evd
m
e
mobilità ne
cammino libero medio fra urti successivi
Nell’urto si ristabilisce l’equilibrio energetico, quindi in media l’elettrone cede all’atomo l’energia acquistata a spese del campo elettrico (effetto Joule)
Il modello di Drude
spiega perché si genera il moto viscoso e quindi la velocità limite di deriva• spiega perché la resistività aumenta con la temperatura• fornisce valori ragionevoli della resistività a temperatura ambiente
però:• non spiega l’effetto forte della presenza di impurezze (regola di Mathiessen)• non riproduce la corretta dipendenza dalla temperatura (ad alta temperatura è lineare in T e non in T, a bassa temperatura è lineare in T5) • non è compatibile con il comportamento quantistico dell’elettrone nel solido
0
5
10
15
20
25
30
35
0 5 10 15 20 25 30temperatura
100*
R/R
(290
)
R/R290
secondo il modello di
Drude
dati di misura
un calcolo di resistività secondo il modello di Drude
lurti 1 nm ; n 1029 m-3
m104mVA104
105
102,0
10310106,110
03,0105,03
3
818
119
3
18919329
6
2
2
seCm
eV
msmCem
eVeV
clne
Tkmc
urti
B
il modello quantistico di Sommerfeld
L’elettrone è descritto da un “pacchetto di onde di Bloch” che si muove sotto l’azione del campo elettrico esterno secondo l’equazione classica del moto:
che, risolta rispetto a vd, fornisce la soluzione: EEm
evd
Eedt
vdm d
ottenuta con il modello di Drude.
È lecito il calcolo classico purché: - si usi per m la “massa efficace”,
- si verifichi che la larghezza del “pacchetto” in posizione e quantità di moto sia sufficientemente piccola, in modo che il moto possa essere trattato classicamente nel tratto fra due collisioni successive, sufficientemente grande, in modo che le interazioni fra elettrone e reticolo siano ben descritte dalla massa efficace
2
2
211
dk
Ed
m
il modello quantistico di Sommerfeld
k k
in assenza di campo elettrico esterno in presenza di campo elettrico esterno
Eevm
k d
*
nello spazio k, la velocità di drift vd legata alla corrente elettrica genera uno spostamento k dell’intera distribuzione degli elettroni nel senso contrario alla direzione del campo elettrico:
il modello quantistico di Sommerfeld
meccanismi di urto:
- riguardano solo gli elettroni vicino al livello di Fermi, perché sono gli unici ad avere disponibili livelli energetici non occupati
- preferenzialmente lo scattering è all’indietro dove ci sono più stati liberi a energia minore
- l’urto non è contro gli ioni del reticolo, perché la funzione d’onda di Bloch tiene già conto del potenziale periodico
- gli urti possibili sono con ciò che non è periodico:
- urti con le impurità
- urti con i fononi (vibrazioni reticolari)
collisioni nel modello quantistico
probabilità di collisione nell’unità di tempo:
fon
F
imp
F
fonimpfonimpcoll l
v
l
vPPP
11
cammino libero medio per urti con le impurità
cammino libero medio per urti con i fononi
velocità dell’elettrone di energia prossima a quella del livello di Fermi
(rispetto al calcolo di Drude, vF> vt però anche limp e lfon sono maggiori di lurti!)
fonimp
Ffonimp llne
vm 112
*
collisioni con le impurezzeLa probabilità di collisione con le impurezze, 1/limp -è direttamente proporzionale alla densità di impurità, nimp , (la costante di proporzionalità Simp è chiamata “sezione d’urto”):
Simp
limp
nimp
- è praticamente indipendente dalla temperatura
- quindi anche il contributo delle collisioni con le impurezze è indipendente dalla temperatura (nei metalli, vF , m*
, e la densità elettronica n sono praticamente costanti)
1/limp = Simp nimp
m1010103106,110
106105,01 11141819329
36
2
*
m
msCem
eV
lcne
cvm
imp
Fimp
ceV
eVc
mc
EcvmmmSn
lF
Fimpimpimp
362
142203295 106105,0
202;10101010
1
Es.: supponiamo una frazione di impurità dell’ordine di qualche parte su un milione e una sezione d’urto “geometrica” ( 10-20 m2)
il contributo alla resistività delle impurità è dell’ordine del permille RRR = T=300K / T
impimpF
imp
Fimp Sn
ne
vm
lne
vm2
*
2
*
collisioni coi fononiprobabilità di collisione con i fononi:
-1/lfon è direttamente proporzionale alla densità di fononi, nfon,con costante di
proporzionalità Sfon pari alla “sezione d’urto elettrone-fonone”: 1/lfon = Sfon nfon
'elk
elk
fonk
urto elettrone-fonone
conservazione dell’energia
fonelel EE '
fonelel kkk
'
conservazione della quantità di moto
- nfon dipende dalla temperatura: la distribuzione in
energia dei fononi a una data T si ottiene da quella
dei fotoni (spettro di corpo nero) sostituendo “vfon” a
“c” e tenendo conto che l’ max è limitato a Debye:
Debye
B
Debye
B
Debye
B TkTkfon
Tkfone
dC
e
d
ve
dgn
0/
2
0/
2
30
/ 1
)(
1
)(
)(
12
1
)(
Tke BTkB /1/
TTk
CdTkCn DebyeBBfon
Debye
2
2
0
ad alta temperatura:
quindi la densità numerica di fononi è proporzionale a T
collisioni con i fononi
Si può determinare la costante di proporzionalità tenendo conto che, a differenza di ciò che avviene per i fotoni, il numero di oscillazioni possibili è fisso, pari a 3nat, cioè a 3 oscillazioni per atomo (due trasversali e 1 longitudinale)
a bassa temperatura (T < D ), nfon T 3
quindi nfon, ad alta temperatura, è
- direttamente proporzionale a T
- direttamente proporzionale alla densità atomica nat
- inversamente proporzionale alla temperatura di Debye D , che è caratteristica del cristallo (legata alla massima frequenza delle oscillazioni fononiche)
B
DebyeD
Datfon k
Tnn
;2
9
320
2
0
23
0
9;3)()(
)(
12)(
Debye
atat
fon
nCndCd
vdg
DebyeDebyeDebye
da cui si ottiene, ad alta temperatura:
dipendenza della resistività
dalla temperatura
A bassa temperatura (T < D ), nfon T 3, inoltre Sfon diminuisce come T2, quindi
fon diminuisce come T5
Introducendo 1/lfon nell’espressione della resistività, si ottiene (nei metalli, vF , m*
, e la densità elettronica n sono praticamente costanti)
)()()(2
*
2
*
TSTnne
vm
lne
vmT fonfon
F
fon
Ffon
Ad alta temperatura, Sfon è costante, perché i fononi hanno praticamente la frequenza max, Debye, nfon è proporzionale a T, quindi
d /dT = dfon /dT Sfon
la variazione di con la temperatura misura l’accoppiamento elettrone-fonone
accoppiamento debole buon conduttore
un accoppiamento sufficientemente forte può indurre comportamenti superconduttivi
le due componenti della resistività
“temperatura di Debye”B
DebyeD k
superconduttori
Esperimento storico di Kamerlingh Omnes (1911): transizione superconduttiva di Hg a 4,2 K
Figura 21. Grafico della resistenza in funzione della temperatura
Bor86_ann700
-0,1
0
0,1
0,2
0,3
0,4
0,5
0,6
0,7
0,8
0 50 100 150 200 250 300
T (K)
R (
)I = -500 A
Tc,onset = 34,5 K
Tc,zero = 31,1 K
RRR = 1,25
transizione superconduttiva di Mg B2 (HTCS: High Critical Temperature Superconductor )
temperatura critica
semiconduttoriCaratteristiche a 0K:- banda di valenza completamente occupata - banda di conduzione completamente vuota- piccolo gap di energie proibite Eg= 1,1 eV (Si); 0,7 eV (Ge); 1,4 eV (GaAs)
a T>0K:- un elettrone può essere eccitato dalla banda di valenza a quella di conduzione- ogni elettrone che passa in banda di conduzione lascia un posto vuoto (buca) in banda di valenza- anche la buca in banda di valenza è “mobile”, perché può essere occupata da un elettrone che lascia a sua volta una buca e così via - sotto l’azione di un campo elettrico esterno il moto di deriva avviene sia in banda di conduzione che in banda di valenza- l’elettrone in banda di valenza è in una zona “di massa efficace negativa” e il suo moto può essere equiparato a quello di una particella con massa positiva e carica elettrica positiva
Egap
Ec
Ev
buca
conducibilità elettrica nei semiconduttori
due contributi alla conducibilità:
pn pene
contributo degli elettroni in banda di conduzione
contributo delle buche in banda di valenza
masse efficaci molto piccole
heavy hole
light hole
conducibilità elettrica nei semiconduttori
semiconduttore intrinseco: n=p
Calcolo di n e di p:
TkEEBe BFcTkm
n /)(2/3
2e
22
TkEEBh BvF
Tkmp /)(
2/3
2e
22
TkEBhe BgapTkmmnp
/3
2e
24
legge dell’azione di massa
0
/2/33
3//
3
3
/)(3
3
ee)(28
)(ee28
1e
)(28),()(
dxxTkh
mdEEE
h
m
dEEE
h
mdETEfEgn
xTkEB
e
E
cTkETkEe
E ETkEE
ceF
BF
c
BBF
c c
BF
Livello di Fermi
Calcolo del livello di Fermi per il
semiconduttore intrinseco - ni = pi
- si assume me mh=m*
TkEB BgapTkmn
2/2/3
2
*e
22
TkEEBe BFcTkm
n /)(2/3
2e
22
Stima di ni a 300K:
EFEgap
- da confrontarsi con 1029m-3 per i conduttori- inoltre dipendenza esponenziale dalla temperatura
316182/3216
1032/1.12/3
27
2262/
2/3
2
2*
1010
)102(6
)(103105,02,02e
)(22
2
mem
eeVm
eV
c
Tkcmn
TkEBi
Bgap
dal rapporto: Ec-EF = Egap/2 EF = Ec - Egap/2
“drogaggio”
drogaggio tipo “n” con un atomo pentavalente (fosforo)
EF
livello del donatore
donatore
livello dell’accettore
EF
drogaggio tipo “p” con un atomo trivalente (Al)
accettore
conducibilità elettrica in semiconduttori drogati
“n”
EF
livello del donatore
livello dell’accettore
EF
“p”
edn en
con un drogaggio di tipo “n”, la conducibilità è dovuta praticamente solo alla densità nd dei donatori (portatori di maggioranza)
con un drogaggio di tipo “p”, la conducibilità è dovuta praticamente solo alla densità na degli accettori (portatori di minoranza)
hap en
resistenza elettrica in semiconduttori debolmente drogati
zona “estrinseca”: tutti i portatori di maggioranza sono in banda di conduzione, la resistenza elettrica cresce linearmente con T perché cala la mobilità
zona “intrinseca”: i portatori “intriseci” cominciano a passare con crescente probabilità in banda di conduzione, la resistenza elettrica diminuisce esponenzialmente con T perché cresce la densità n di portatori
la giunzione diodo
V=0
- i livelli di Fermi si allineano
- la densità di elettroni con E>Ecp è la
stessa nei due lati della giunzione essendo
proporzionale a exp-(Ecp-EF)/kBT
- il flusso di cariche (pn) dal lato “p”
verso il lato “n” è uguale al flusso (np)
in senso opposto
- la densità di corrente è nulla
zona di “svuotamento”
(pn)
(np)
Ecn
Ecp
Evp
Evn
il diodoV>0 (bias positivo)
- si riduce la differenza (Ecp - Ecn) fra i due
livelli base della banda di conduzione; i livelli di Fermi non sono più allineati, il livello EFn dal lato n è più alto
- la densità di elettroni con E>Ecp è
maggiore nel lato n della giunzione che nel lato p: infatti nel lato n è proporzionale a exp-(Ecp-EFn)/kBT, mentre
nel lato p è rimasta allo stesso valore che aveva in assenza di bias, proporzionale a exp-(Ecp-EFp)/kBT
- il flusso di cariche (np) dal lato “n” verso il lato “p” è maggiore del flusso (pn) in senso opposto
- c’è una densità netta di corrente da p a nzona di “svuotamento”
(pn)
(np)
Ecn
Ecp
Evp
Evn
EFn EFp
il diodo V<0 (bias negativo)
- cresce la differenza (Ecp - Ecn) fra i due
livelli base della banda di conduzione; i livelli di Fermi non sono più allineati, il
livello EFn dal lato n è più basso
- la densità di elettroni con E>Ecp è
minore nel lato n della giunzione che nel lato p: infatti nel lato n è proporzionale a
exp-(Ecp-EFn)/kBT, mentre nel
lato p è rimasta allo stesso valore che aveva in assenza di bias, cioè
proporzionale a exp-(Ecp-EFp)/kBT
- il flusso di cariche (np) dal lato “n” verso il lato “p” è minore del flusso (pn) in senso opposto
- c’è una debole densità di corrente da n verso p
zona di “svuotamento”
(pn)
(np)
Ecn
Ecp
Evp
Evn
EFn
EFp
La caratteristica del diodoCalcolo del flusso di elettroni:
TkEEo
BFpcpAenp/)(
)(
TkeVo
TkeVEETkEE BBFpcpBFncp eAeAepn //)(/)()(
)1()( / TkeVoo
BeCCJ
Calcolo della densità di corrente:
Caratteristica del diodo:
)1( / TkeVo
BeJJ