エーエムアール株式会社〒152-0031 東京都目黒区中根2-13-18 Tel 03-5731-2281/Fax 03-5731-2283http://www.amr-inc.co.jp/

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SunCollectMALDIイメージング用スプレイヤー

SunChrom

装置特徴

高い均一性のあるマトリックス塗布

オプション組織上での酵素消化システム SunDigest　

ウォーターリザーバーにより、消化のための湿度を確保

湿度の飽和状態を迅速に達成し、98%～100%の湿度をキープ

スライドグラスにのせた組織上での酵素消化（スライドは 2×5 枚）

スライドグラス

酵素とマトリックスの溶液も、同様に扱うことが可能

マルチレイヤー技術により、ターゲット化合物の高い抽出効率と高い空間分解能を達成

マトリックスのレイヤーは分単位で複数重ねていくことが可能

装置のパラメータは、サンプルに応じて容易に最適化可能

Base Temp. Cover Temp. Inner Temp. HumidityTime

06:3006:0005:3005:0004:3004:0003:3003:0002:3002:0001:3001:0000:30

Tem

pera

ture

(°C

)

46

45

44

43

42

41

40

39

38

37

36

35

34

33

32

Hum

idity (%)

104

102

100

98

96

94

92

90

88

86

84

82

80

78

76

74

72

Base Temp. = Temperature of the bo�om plateCover Temp. = Temperature of the cover lidInner Temp. = Temperature right next to the slides

マトリックスを塗布する上での難点

溶媒揮発時間

遅い早い

ターゲット化合物が移動しやすい

マトリックスの結晶が大きくなる

抽出効率が上がる○××空間分解能が上がる

マトリックスの結晶が小さくなる

抽出効率が下がる

○○

組織ターゲット化合物マトリックス溶媒

これらの因子も影響

SunCollectの特徴

以下のパラメータを操作可能 マトリックス塗布の最適化が可能

スプレーヤーの組織サンプルからの高さ

スプレーヤーの移動速度

マトリックス各層ごとの、スプレーヤー移動方向

スプレーする列間の距離

マトリックスの流速

1

2

3

4

5 1

2

3

マトリックス塗布面を上から見た図 スプレーヤーと組織接地面

Layer 1 Layer 2

5

4

SunCollectによるマトリックス塗布後の結晶

HCCAが130-140 nmで均一に結晶化している。SunCollectによるマトリックス塗布が、均一で、小さな結晶を作成することがわかる。

■使用可能マトリックス DHB CHCA SA 9-AA Etc. 含水溶媒でも可

×

10 μm

2 μm

SunCollectによるマトリックス塗布の均一性を示す実験

シリンジB

シリンジA

DHBマトリックスAngiotensin Ⅰ

DHBマトリックスAngiotensin Ⅱ

スライドグラス 1000 1500 2000m/z

Intensity

0

10

20

30

40

50

60

70

80

90

100

Ang Ⅱ

1046.5416

Ang Ⅰ

1296.6847

10 20 30 40 50 60 70 80 90Spot No.

0.6

0.8

1.0

1.2

1.4

Ratio Ang Ⅱ/ Ang Ⅰ

異なるペプチド（Angiotensin I、II）を予めミックスしたマトリックスを、それぞれ3層ずつ塗布

Ang ⅠとAng Ⅱの強度はほぼ等しい

10μl/min

10μl/min

塗布されたマトリックス上のあらゆすスポットにおいて、Ang ⅠとAng Ⅱの比率は等しい

SunCollect前処理による指紋の分析

直後に

4時間後に

24時間後に

MALDI MSコカイン（分子量303.35）を指に付着させる

コカインを付着させた指をステンレス板へつける

そのステンレス版にSunCollectでマトリックス塗布

コカイン由来のピーク

コカイン付着直後の指紋サンプル

コカイン付着から4時間後の指紋サンプル

コカイン付着から24時間後の指紋サンプル

24時間経過後の指紋サンプルも、MALDI イメージングでコカインが指紋上に同定できている。