第8回新技術望遠鏡技術検討会 2007 年 1 月 6 日 名古屋大学
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これまでの試験研削について. 第8回新技術望遠鏡技術検討会 2007 年 1 月 6 日 名古屋大学. 名古屋大 所 仁志. クリアセラム 1 回目( 2006.7 ) - 平面 - ワックスを用いて固定 クリアセラム 2 回目( 2006.11 ) - 平面 - 治具で挟み込んで固定 FMOS 用シュミットプレート( 2006.12 ) - 溶融石英 - 非球面非軸対称. Y. X. Z. クリアセラム 1 回目( 1 ). 超精密平面研削盤 SGU-52 - PowerPoint PPT PresentationTRANSCRIPT
第8回新技術望遠鏡技術検討会
2007 年 1 月 6 日
名古屋大学
これまでの試験研削について
名古屋大 所 仁志
• クリアセラム 1 回目( 2006.7 )- 平面- ワックスを用いて固定
• クリアセラム 2 回目( 2006.11 )- 平面- 治具で挟み込んで固定
• FMOS 用シュミットプレート( 2006.12 )- 溶融石英- 非球面非軸対称
クリアセラム 1 回目( 1 )• 超精密平面研削盤 SGU-52
• #325 、 1,200 、 4,000 、 8,000 ( ELID ) レジンボンドダイヤモンド砥石
• ワークサイズ 120×120×60
• 平面研磨面をワックス接着
XZ
Y
SGU-52
クリアセラム 1 回目( 2 )• #8,000 研削後の研削面形状
研削方向
PV: 4.5 m
クリアセラム 1 回目( 3 )• #8,000 研削後の裏面形状
研削方向
PV: 14.1 m
クリアセラム 1 回目( 4 )• #8,000 研削後の研削面表面粗さ
PV: 33 nm
rms: 4.7 nm
• 裏面に反り( 14 m 凸)- 平面研磨面の反り?- ワックスの影響?- “ モグラたたき型”ワーク支持冶具
クリアセラム 1 回目( 5 )
• Rq = 44 nm (#4,000), 4.7 nm (#8,000) - セグメントの要求仕様 30 nm OK
クリアセラム 2 回目( 1 )• 超精密平面研削盤 SGU-52
• #325 、 1,200 、 4,000 レジンボンドダイヤモンド砥石
• コラムに載せ、治具で挟んで固定
• 研削条件
X Z
Y
<#325 粗加工 > 主軸: 2000 rpmテーブル送り: 14 m/min砥石送り: 50 mm/min切込み: 0.5 m/pass<#4,000 仕上げ > 主軸: 1000 rpmテーブル送り: 3 m/min砥石送り: 1 mm/min切込み: 0.1 m/pass
クリアセラム 2 回目( 2 )• #4,000 研削後の研削面形状
研削方向
PV: 1.0 m、端タレ除くと 0.3 m程度
クリアセラム 2 回目( 3 )• #4,000 研削後の裏面形状
研削方向
PV: 1.0 m
クリアセラム 2 回目( 4 )• #4,000 研削後の研削面表面粗さ
PV: 600 nm
rms: 33 nm
クリアセラム 2 回目( 5 )
• 裏面の反りは無くなった 0.76 1.0 m PV
• 研削面形状 ~0.3 m PV (端タレ除く)- セグメントの要求仕様 0.2 m PV あと一息- 研削面に極力ストレスが加わらない固定方法• より効率的な加工条件- 粗: 80 時間 /1mm 仕上げ: 2 時間 /0.1m- セグメント: 18 mm 凹
FMOS 用シュミットプレート( 1 )• 超精密成形平面研削盤 ナノセンター N2C-53U
• #1,500 、 3,000 レジンボンドダイヤモンド砥石- 直交ドレッサーで断面 R33 mm
• 溶融石英、治具で挟んで固定• 研削条件
Z
X
Y
砥石<#1,500> 主軸: 800 rpm送り: 400 mm/minピッチ: 1 mm切込み: 10 m/pass<#3,000 仕上げ > 主軸: 800rpm送り: 200 mm/minピッチ: 0.125 mm切込み: 5 m/pass
FMOS 用シュミットプレート( 2 )
• Z 方向にスジ有り
• 表面粗さ Rq ~ 40 nm溝部を除くと ~8 nm
• 砥粒の浮き出し- “ 硬い”溶融石英では研削熱が大 耐熱性レジンボンド
• 形状精度 : 0.2 m
Z
X
Y
砥石
250 m: 砥粒の軌跡と一致
600 m
まとめ
• 表面粗さ Rq ~ 40 nm (#4,000) 研磨
• 形状精度 0.3 m PV 機機機機
• 裏面の反り ~ 1 m PV ワーク支持冶具
• 研削条件・砥石の吟味
• クリアセラムへの R=10m 球面加工