Circuite IntegrateLitografia
Un circuit integrat este o colecie de dispozitive active i componente pasive interconectate electric, realizate pe acelai substrat de siliciu.
Componenta de baz a circuitelor integrate este tranzistorul. Iniial BIPOLAR apoi MOS în final BiCMOS.
Indiferent de tipul de tranzistor, acesta se compune dintr-o succesiune de straturi diferit impurificate.
Procedeul tehnic folosit pentru realizarea acestor straturi succesive i a legturilor dintre ele este LITOGRAFIA mai precis FOTOLITOGRAFIA
Fotolitografia se bazeaz pe acoperirea siliciului cu o substan fotosensibil i expunerea selectiv la ultraviolete prin nite mti.
Handout 5 -
Year
unde:
k1 este un parametru de proces (uzual 0.4~0.8);
NA este apertura numeric a sistemului de lentile (uzual între 0.16~0.6);
l este lungimea de und a luminii utilizate.
Handout 5 -
Lungimea de und a surselor de lumin folosite în litografie
F2 (157 nm)
Deep UV light
Handout 5 -
Fotolitografia
Utilizeaz lumin pentru a expune un strat de fotorezist depus pe substrat prin intermediul unei mti.
Masca este o plac de 2mm de sticl, pe care sunt depuse regiuni opace de film de câiva mm sau chiar mai puin.
Fotorezistul este un polimer sensibil la lumina ultraviolet. Expunerea la lumin determin fie creterea (rezist pozitiv) fie reducerea solubilitii (rezist negativ) în anumii solveni.
Rezistul pozitiv asigur rezoluie mai bun, cel negativ ader mai bine la metal i la SiO2.
Handout 5 -
Handout 5 -
Prin contact
Rezoluie bun
161.psd
163.psd
164.psd