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レチクル露光
歩留まり解析
ウエーハ製造
レチクル現象/エッチング/洗浄
イオン注入
酸化/成膜
CMP
露光/現像
レジスト塗布
レチクル出荷
レチクル
エッチング/洗浄
プローバ検査
ウエーハソート
571 ヤマト科学 www.yamato-net.co.jp 0120-405-525
恒温・乾燥器/恒温恒湿器
産業機器
プラズマ装置
高温炉・パージガス
恒温培養器
凍結乾燥・冷却トラップ
滅菌器
純水製造装置
恒温液槽
恒温水循環装置
濃縮器
減圧・加圧ポンプ乳化・撹拌・振とう器造粒乾燥装置
洗浄器
送液ポンプ
加熱器
天秤
pH計
内部観察装置分光・発光・蛍光装置
物性計測装置微生物・細胞関連装置遠心分離機冷凍庫・冷蔵庫
合成・前処理装置
試験機器
電池・半導体・LED関連装置
計測機器
環境・プロセス関連装置
液体/ガスクロマトグラフ
フィルター
❸
表面観察装置
分析・計測・試験機器
●仕様および外観は改良のため予告なく変更することがありますのでご了承ください。製品カラーは、撮影・印刷インキの関係で実際の色と異なって見えることがあります。
Semiconductor Test Equipment
半導体製造検査装置ケーエルエー・テンコール製品
プロセスパラメータ管理ソリューション�正確かつ高速の薄膜測定とプロファイリングは、�各種プロセスを管理し、ウエアファブの生産性向上に欠かせない技術です。
RS-2004探針シート抵抗測定装置
SpectraFx200高性能光学式薄膜計測
先端リソグラフィー工程制御ソリューション�最高のレチクル品質を得るためには、マスクメーカーで完全な検査と分析、ウエーハファブでは露光プロセスでの品質保証と品質管理が必要不可欠です。
Spectra CD200インライン分光CD計測
Archer300重ね合わせ検査装置
半導体業界標準の KLA-Tencor 製品が、生産性向上のための最高 レベルのトータルソリューションを提供いたします。
歩留まり管理統合ソフトウェア Klarity Defect�歩留まりの低下を早期に発見し、データを解析、レポートを行い、歩留まり低下につながる欠陥発生のメカニズムを抽出・特定し、継続的な欠陥削減プログラムを確立するのに役立つデータの統合化を実現します。
自動Decision Flow Analysisレシピは、複雑な条件付きエンジニアリング解析手法を簡単な解析フローチャート内に取り込みます。
ビットマップ解析ソフトウェアBit Powerにより、ビットマップデータは量産テスト時に収集され、不良ビットパターンを自動的に抽出できます。
インテリジェント・ラインモニタ�ウエーハ製造からデバイス�プロセス歩留まり管理まで、トータルソリューションを提供します。
SP2XPモニタウエーハ異物検査装置
9550パターン付ウエーハ異物検査装置
2830パターン付ウエーハ欠陥検査装置
iADC自動欠陥分類システム
eDR5210欠陥レビューSEM
Klarity ACE XP高性能相関解析エンジン
Klarity Defect欠陥データ管理ソフトウェア