ww

w.m

icro

resi

st.co

m

Ormocore

Ormocomp Ormocore

K mpp 06 -1 100 - 130 ppm K-1

1.5181.513

1.553 1.543

Ormocomp

UV

UV

Ormostamp

glass / quartz

master stamp

ready to useworking stamp

*

• •

* in collaboration with Laser Zentrum Hannover e. V.

@ 355 nm, 10 ps, 100 MHz

(Courtesy of Laser Zentrum Hannover e.V.)

2 3

Orm

ocer

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ybri

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Mic

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ptic

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Orm

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Mic

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ptic

s R R微小光学用途のOrmocer

硬化マテリアルの特性

熱安定性 重量減量< 5 %（270 ℃ (5 K min-1)まで）

硬化マテリアルの特性 デュロメリック

収縮（硬化中） 容量で5 - 7 % 容量で3 – 5 %

CTE (20 - 100 ℃)

屈折率 @ 635 nm @ 800 nm

ガラス基板

波長

光透過性Ormocomp

吸光

度

6μm硬化Ormocompのガラス基板

Ormocomp複製10x10マイクロレンズアレイ

ウェハー基盤での複製ゾル・ゲル屈折マイクロレンズ

（Avalon提供）

光格子（FSU-Jena提供）

インプリント、モールド、従来リソグラフィー用UV硬化マテリアル

トランスペアレントスタンプ製造

直接プロトタイプ化およびマイクロパターン化テクノロジー：3Dの層別UV直接プロトタイプ化および2光子ポリメリゼーション

微小光学部品&マイクロシステム用ハイブリッドポリマー

最低350nmまでの高いトランスペアレンシー

UVパターン化可能（リソグラフィー／モール

ド）

100nm以下のライン幅の高い解像度

露光：i-line、h-line、広帯域

高速硬化

吸水度< 0.5 %

表面粗度2 – 4 nm

6か月保存期間

270 ℃までの熱安定性

無溶液

・

・

・

・

・

・

・

・

・

・

UVパターン化可能

データコムおよびテレコム用波長での高度な

トランスペアレンシー

270 ℃までの熱安定性

高速硬化

無溶剤

・

・

・

・

・

成形格子

マイクロレンズ

マイクロレンズアレイ

光カプラーおよびコネクター

プリズム

・

・

・

・

・

主用途

光センサーおよびセンサーシステムディスプレイ光測定システム単一エレメントまたはウェハースケール

・

・・・

主用途

プロセスフロー　UVモールドトランスペアレントスタンプ

プロセスフロー　UVモールド不透明スタンプ

スタンプ

スタンプ

Ormocer ：革新的テクノロジー

シリカスタンプに代わる高いコスト効率

マスタースタンプの高度な忠実性

可視光に対して高度なトランスペアレンシー（最低350nmまで）

100nm未満のライン幅という高度な解像度

標準リソグラフィー装置による便利な処理

機械的安定性

優れた熱安定性

1ステップまたは2ステップでの生成が可能

・

・

・

・

・

・

・

・

接着促進剤1.基盤準備

2.スタンプ生成

A.Ormostamp沈着

B.Ormostampプロセス

3.固着防止層

作業用スタンプの使用可能

マスタースタンプ

ガラス／水晶

Ormostamp

UV光

固着防止層

モールドでインプリントされたmr-UVCur06ナノ構造

Ormostampで作成したスタンプで複製されたマイクロ構造

レーザ：355nm、20mW、100Mhz

スキャナ：100nm焦点距離、スキャニングエ

リア50x50mm

解像度：10 μm　垂直5 μm側面

圧電アクチュエータでのポジショニング

・

・

・

・

HRミラー @ 355 nm

ビーム拡大器

減衰器

直流スキャナ+焦点目標

AOモジュレータ

樹脂処理チャンバ+ローラコースター

圧電アクチュエータ

準cwUVレーザ源

原理設定

3D層別UV直接プロトタイプ化

主要技術応用

微小機械、マイクロセンサー、マイクロフルイディクス

2光子ポリメリゼーションで作成された光子クリスタル

2光子ポリメリゼーションで作成された光子クリスタル

3D層別UV直接プロタイプ化で作成された微小アイテム（チェスタワー）

3D層別UV直接プロタイプ化で作成された風車（歯車接続のフルイディクメ

Gesellschaft für chemische Materialien spezieller Photoresistsysteme mbH

®s

ww

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icro

resi

st.co

m

®

®

© micro resist technology GmbH | design by MANATEA mediendesign | 23 June 2008

Ormocer® - Registered trademark of the Fraunhofergesellschaft zur Förderung der Angewandten Forschung in Deutschland e. V.4

ww

w.m

icro

resi

st.c

om

Ormocore and Ormoclad

Ormocore Ormoclad

< 0.5 %

100 - 130 ppm K-1

2 - 4 nm

2 - 5 % by volume

435.1355.1

635 nm

OrmocladOrmocore

830 nm1310 nm

1550 nm

1.545

1.550

1.555

1.530

1.535

1.540

1.525

1.520

0.4 0.6 0.8 1.00.20.0

Ormoclad

Ormoclad

Ormocore

Orm

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Orm

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s平面光導波路用のOrmocer

硬化ポリマーの特性

熱安定性

膜品質

重量減量< 5 %（270 ℃ (5 K min-1)まで）

優れた平坦化特性

吸水性

CTE (20 - 100 ℃)

Rms粗度

収縮（硬化中）

屈折率 @ 635 nm

シリコン上でのマルチモード導波路のアンダークラッディング／コア（ACREO提供）

複層光ファンアウト（FHG-OIF/Jena提供）

光パターン化可能な無機／有機ハイブリッドポリマー

UVパターン化可能（リソグラフィー／モールド）

露光：i-line、h-line、広帯域

調節可能屈折率（コア／クラッド）

データコム波長での少ない光損失

270 ℃までの熱安定性

6か月保存期間

・

・

・

・

・

・

単一モード導波路

マルチモード導波路

ビームスプリッタ

熱光学スイッチ

・

・

・

・

主用途

Ormocladの重量分立

屈折率調節

光導波路用プロセスフロー

基盤

Ormocladのコーティング、プリベーク

フラッド露光、禁止層のPEB除去

Ormocoreのコーティング、プリベーク

導波路パターン化、PEB

生成

上位クラッディングのコーティング、プリベーク、フラッド露光

PEB,禁止層の除去、ハードベーク

微小光学用Ormocer（ハイブリッドポリマー）

Ormocomp、Ormocore、Ormoclad、Ormostamp、

ダイレクトプロトタイプ化用マテリアルの特徴

優れたトランスペアレンシー

優れた機械的特性

高い化学的／物理的安定性

優れたパターン転写忠実性

すぐに使用可能なソルーション

無溶剤

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・

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〒590-0023 大阪府堺市堺区南三国ケ丘町2-2-74

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