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Química Si-F: efeito de adição de O2
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Corrosão de Si com carbofluoretos:
corrosão vs. polimerização, como função de razão F/C
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CF4/H2: seletividade de corrosão Si/SiO2
Adição de H2 aumenta polimerização, o que
• diminui a taxa de corrosão de Si (dificultando transporte dos reagentes e dos produtos de corrosão),
• mas quase não afeta a taxa de corrosão de SiO2 (a presença do filme de carbofluoretos na superfície de óxido é favorável para corrosão dele, através das reações C + n O CO, CO2 (n=1,2)
SiFx + m F SiF4
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Corrosão de Si e fotorresiste em misturas contendo Cl e F
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Loading effect (a taxa de corrosão depende da área corroída)
Origem do efeito: escassez de átomos de F que estão sendo consumidos em reação com Si
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Rugosidade de corrosão
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Ruptura de estruturas finas no final de corrosão de porta de transistor MOS
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Diagnóstico de plasmas reativos (end point): espectroscopia óptica de emissão
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Diagnóstico de plasmas reativos (end point):
espectroscopia óptica e reflectometria
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Diagnóstico de plasmas reativos (end point):
espectrometria de massas
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Reatores de plasma: plasma remoto e barril
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Reatores de plasmas planares:
plasma etching vs. reactive ion etching
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Reator planar RF : distribuição de potencial
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Reator industrial RF (RIE) , configuração do hexodo