pembuatan vcm

8/15/2019 Pembuatan Vcm

1/24

TEKNOLOGI PEMBUATAN VINYL CHLORIDE MONOME

DI SUSUN OLEH :NURUL EKA RAMADHINI (3335131696)

TUTI ANDRIYANI (3335130)


2/24

POHON INDUSTRI

Kl!"#$%"

M"#&$'

M#$*

E*&l#

Ol+"#N$+*$K"l$#, M"#&$'

VCM (VINIL CHLORIDE

MONOMER)D"-*l!*&l#

-!$-'"#,

A#$!$ H.l.


3/24

SI/AT /ISIK DAN KIMIA BAHAN BAK


4/24

SI/AT /ISIK DAN KIMIA PRODUK


5/24

SI/AT /ISIK DAN KIMIA PRODUK SAMPING


6/24

Diagram Proses Pembuatan VCM


7/24

DATA UNTUK REAKTOR JENIS : REAKTOR ALIR PIPA DENGAN BOX-TYPE FURNACE

☻KONDISI OPERASI

• SUHU: 450-550°C

• TEKANAN: 5 ATM

• SIFAT REAKSI: ENDOTERMIS

• KONDISI PROSES: NON ISOTERMAL - NON ADIABATIS

• PEMANAS: PEMBAKARAN LANGSUNG BAHAN BAKAR DALAM FURNACE

☻ KINETIKA REAKSI

( BERDASARKAN : CHEMICAL REACTOR DESIGN FOR PROCESS PLANTS; HOWARD F. RASE., 1977 )

PERSAMAAN KECEPATAN REAKSI:

RA = K.C

A

HARGA KONSTANTA KECEPATAN REAKSI DIBERIKAN DENGAN:

K = 4.717 1014 EP ! -7""40 # R.T $DENGAN:

• RA = KECEPATAN REAKSI% KMOL# M&. DETIK

• CA = KONSENTRASI EDC% KMOL# M&

• K = KONSTANTA KECEPATAN REAKSI% DETIK-1


8/24

EMPAT METODE UNTUK MEMPRODUKSI VCM

R$'%" A-&l# (CH) #,$#H&!,# C*l!" (HCl)

R$'%" M"l K*l!" CH3Cl #,$#M*&l# C*l!" CHCHCl

C!$-'"#, E"l# D"'*l!" (EDC)

H&!-*l!#$"# 1212T!"-*l!*$# (CHCl3)


9/24

R$'%" M"l K*l!" CH3Cl #,$# M*&l# C*l!"

CHCHCl

H&!-*l!#$"# 1212 T!"-*l!

R$'%" A-&l# (CH) #,$# H&!,# C*l!" (HCl)

C!$-'"#, E"l# D"'*l!"


10/24


11/24


12/24

PEMILIHAN TEKNOLOGI

P!%% $-'! 4 C*" GH

T'#l,"H-*%

T'#l," PP$# M"%."


13/24

PROSES 7ACKER 4CHEMIE GMBH

• MENGGUNAKAN PIROLISIS DENGAN PEMURNIAN PADA TEMPERATURE 400°C SAMTEKANAN 10-&' BAR ABSOLUTE.

• PEMANASAN A(AL 1%" ) DICLOROETHANE CAIR PADA SUHU 1"5*-155*C% DALAM CSECTION DALAM CRACKING FURNACE PADA TEKANAN CAIRAN 15-&1 BAR ABSOLUT HAMKE TITIK DIDIH.

• SEPARATING 1%" ) DICLOROETHANE PADA SUHU 4"5 *- 455 *C DAN PADA TEKANAN 10-1'


14/24


15/24

TEKNOLOGI HOECHST

• REAKSI PEMBENTUKAN VCM: "C H , CL , O ₂ ₄ ₂ ₂ "C H CL , H O , /!"7' K₂ ₃ ₂ $

A. DIRECT CHLORINATION

UNTUK MEMPRODUKSI EDC DARI PROSES KLORINASI ETILEN PADA FASEGAS DALAM REACTOR.

DALAM TEKNOLOGI HOECHST DIRECT CHLORINATION TIDAKBERGANTUNG PADA OPERASI OXYCHOLIRINATION


16/24

. OXYCHOLIRINATION

UNTUK MEMPRODUKSI EDC% ANG MERUPAKAN HASIL REAKSI ETILEN%OKSIGEN DAN HCL ANG BERASAL DARI UNIT CRACKING EDC DAN

INCINERATOR.KATALIS ANG DIGUNAKAN DISINI ADALAH KATALISHIDROGENASI KHUSUS ANG DIKEMBANGKAN OLEH HOECHST DANDEGUSSA% ASETILEN TERSEBUT KEMUDIAN DIKON+ERSI MENADI ETILEN.REAKSI ENG BERLANGSUNG MERUPAKAN REAKSI EKSOTERMIK DENGANMENGGUNAKAN COPPER CHLORIDE ALUMINA DALAM REAKTOR BERENISFLUDI!ED ED.


17/24

C. CRACKING EDC

D. PURIFIKASI EDC ! DISTILASI $

E. INCINERATOR


18/24


19/24

TEKNOLOGI PPG DAN MITSUI

PADA TEKNOLOGI INI PROSES TERBAGI ATAS EMPAT PLANT AITU: OXYHYDROCHLORINAEDC PALNT ! OHC-EDC PLANT $% LI/UID PHASE EDC PLANT !LP-EDC PLANT$% +CM PLANT INCINERATOR PLANT


20/24


21/24

LIMBAH INDUSTRI VCM

P$$ G$% C$


22/24

PENGOLAHAN LIMBAH

• PADAT MENGGUNAKAN INSINERATOR PADA SUHU "100° C PROSES INSINERATOR AKAN

BERALAN SEMPURNA.

• GAS MENGGUNAKAN PROSES DILUTE DENGAN STEAM

• CAIR ( WASTE WATER TREATMENT )MENGGUNAKAN BEBERAPA TREATMENT SEPERTI :

1. COD TREATMENT". ORGANIC TREATMENT&. CU DAN SLUDGE TREATMENT4. PH ADUSTMENT


23/24

DARI BEBERAPA METODE PEMBUATAN +CM DI ATAS% DIPEROLEH KESIMPULAN BAH(ACKER)CHEMIE GMBH ADALAH METODE ANG TERBAIK KARENA MEMILIKI KESEBAGAI BERIKUT :

• REAKSINA TIDAK MEMERLUKAN KATALIS SEHINGGA TIDAK DIPERLUKAN (AKTU RKARENA LEBIH RENDAH DILIHAT DARI SEGI IN+ESTASI.• MENGHASILKAN PRODUK SAMPING HCL SEHINGGA DARI SEGI EKONO

MENGUNTUNGKAN.

• MEMBUTUHKAN TEKANAN DAN TEMPERATUR ANG LEBIH RENDAH AITU &0 ATM KARENA IKA TEMPERATUR OPERASI DIATAS 450OC% MAKA +CM AKAN TERDEKOMPOS

MENGHASILKAN ASETLENE DAN HCL.


24/24

Satu pengembangan terbaru dalam bidang gosokan gas adalah venturi scrubber, yang mana telah ditemukan bermanf

asam belerang berkabut. Metode pemisahan venturi didasarkan atas kecepatan gas yang tinggi pada bagian yang disempitk

gas akan bersentuhan dengan butir air yang dimasukkan didaerah sempit tersebut.

Alat ini dapat memisahkan partikel hingga ukuran 0,1 mikron dan gas yang larut di dalam air. Venturi scrubber meng

rendah sekitar ! lb"s#. $n % pada lorong venturi dengan kecepatan &00 ' (00 ft"sec. Air, produk, dan gas buang dikumpu

pemisah separator % dengan metode siklon yang ada pada bgian lorong venturi itu. )ressure dropnya sebesar 1! inch. *tr den

sebesar ( gal"mnt tiap po+er 10 hp.

pembuatan vcm

Documents