ME587R

微影技術概論

2007/2/27

志聖工業 高啟清博士

Charles Kao, Ph.D

Tel: 02-2601-0700

Mobile: 0939-268-725

cckao@csun.com.tw

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高啟清 Charles Kao Ph.D• 學歷：

– 2008 清華大學 EMBA– 1995 美國賓州州立大學機械系 博士碩士– 1985 台灣大學機械系 學士– 1981 師大附中 422 班

• 現任：– 志聖工業研發中心協理– 台灣電路板協會技術發展委員會委員

• 專長：– 影像移轉製程及曝光設備 ,電漿蝕刻設備– 研發管理 ,行銷企劃– 自動控制 ,影像處理 ,系統分析

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課程目標1. 學習在 PCB, LCD, IC 製程中微影技術

( 曝光 , 影像轉移 ) 的基本概念

2. 研討微影 ( 曝光 ) 技術之相關材料 , 設備 , 流程 , 控制方法及發展趨勢

3. 準備更進階的學習

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微影技術概論 – 課程進度 20071. Electronic industry development 2 次

• 2/27, 3/6

2. Photolithography overview 2 次• 3/13, 3/20

3. Statistics for equipment development 1 次• 3/27, (4/3 清明停課 )

4. MLB & HDI PCB image transfer technology 3 次• 4/10, (4/17, 4/24 期中考 ), 5/1, 5/8

5. LCD image transfer technology and trend 1 次• 5/15

6. IC lithography process & equipment 3 次• 5/22, 5/29, 6/5

7. IC,LCD,PCB technology roadmap & market trend 2 次• 6/12, (6/19 端午 ), 6/26, (7/3 期末考結束 )

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評量標準

• 分組：研究所二人一組 , 大學部四人一組• 上課心得報告七篇 30%

每組一份1~2 頁

• 期中報告 30%每組一份，針對題目提出分析報告

• 期末報告 30%每人一份，自選微影相關主題

• 出席 10%

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期中報告題目 (2004)

1. 光罩• 找出光罩廠商三家 , 列出其可製作光罩種類 , 並提

出規格比較表 ( 最少六種 )

2. 光阻• 找出在台灣的乾膜製造廠三家 , 各找出其二種乾膜

做說明 , 並提出這六種乾膜規格比較表3. 曝光機

• 找出歐美日系曝光機廠商各一家 , 各找出其二種主要機種做說明 , 並提出這六種機型規格比較表

4. PCB 製造廠商• 找出台灣前三十大 PCB 製造廠六家 , 找出其產品發

展 Roadmap, 並提出這六家技術發展比較表

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期中報告題目 (2006)

各位研發部的優秀工程師• 本公司將要導入 BGA 板內層 2/2 線路製程

• 請評估線路製程上應要求的各項規格，並計算達成 2/2 規格可行性

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期中報告交卷方式 , 評分標準• 交卷方式

– 以 Power point 檔交卷– e-mail 到 cckao@csun.com.tw 註明王大明期中報告– 列出參考書目 , 文章 , 網站 ,…

• 評分標準 : 由 80 分開始計算– 交期 : 晚一天扣 5 分– 內容完整性

• 需說明項目少一項扣 5 分• 說明完整的加分 1~5 分

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期末報告題目 ( 舉例 )

1. 主題： Lithography 發展 ( 光罩 , 光阻 , 設備 )

• 193 nm ArF immersion lithography

• 157 nm F2 lithography

• E-Beam Lithography (EPL, SCALPEL,..)

• EUV lithography

• 其他怪招2. 網站

• www.semiconductorfabtech.com

• www.future-fab.com

• developer.intel.com/technology/itj/index.htm

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參考書目 - PCB1. Coombs, Printed Circuits Handbook, 5th Ed., McGraw-Hill, 2

001, ISBN: 0-07-135016-0.

2. Dietz, Dry Film Photoresist Processing Technology, Electrochemical Pub., 2001, ISBN: 0-901150-39-8.

3. 林定皓 , 多層與高密度電路板全覽 , 亞洲智識 ,2002.

4. 林定皓 , 電子構裝載板技術 , 台灣電路板協會 , 2003.

5. 林定皓 , 軟性電路板技術 , 台灣電路板協會 , 2003.

6. 林定皓 , 電路板機械加工技術 , 台灣電路板協會 , 2004.

7. 林定皓 , 高密度印刷電路板技術 , 台灣電路板協會 , 2004.

8. 林定皓 , 電路板影像轉移技術 , 台灣電路板協會 , 2004.

9. 林定皓 ,

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參考書目 - FPD1.顧鴻壽等 , 光電平面面板顯示器基本概論 , 高利圖書 , 20

04, ISBN: 986-412-001-8.

2.苗村省平 , 液晶 Display 技術現況 , 工業調查會 , 2004, ISBN: 4-7693-1231-8. ( 日文 )

2007/2/27 12/12

參考書目 - IC1. Sheats, Smith, Microlithography-Science and Technology, Mar

cel Dekker, 1998, ISBN: 0-8247-9953-4.

2.蕭宏原著 , 半導體製程技術導論 , 台灣培生 , 2003, ISBN:957-2054-84-8.

3.張勁燕 , 半導體製程設備 , 五南 , 2002, ISBN:957-11-2566-0.

4.龍文安 , 半導體微影技術 , 五南 , 2004, ISBN:957-11-3726-X.

5.岡崎信次等 , 半導體微影技術現況 , 工業調查會 , 2003, ISBN: 4-7693-1224-5. ( 日文 )

6. Silverman, Intel Lithography Roadmap, Intel Technology Journal, Vol. 6 Issue 2, 2002 May, ISSN:1535766X.