elektroforetska depozicija mg-silikatnih prevlaka · nanocevi u nanostrukturne biomaterijale i...
TRANSCRIPT
Univerzitet u Nišu
Prirodno-matematički fakultet
Departman za hemiju
Elektroforetska depozicija Mg-silikatnih prevlaka
na nerđajućem čeliku u cilju poboljšanja
biokompatibilnosti
Master rad
Mentor: Kandidat:
Doc. dr Marjan Ranđelović Jelena Čović
Niš, oktobar 2016.
Прилог 5/1
ПРИРОДНO - MАТЕМАТИЧКИ ФАКУЛТЕТ
НИШ
КЉУЧНА ДОКУМЕНТАЦИЈСКА ИНФОРМАЦИЈА
Редни број, РБР:
Идентификациони број, ИБР:
Тип документације, ТД: монографска
Тип записа, ТЗ: текстуални / графички
Врста рада, ВР: мастер рад
Аутор, АУ: Јелена Човић
Ментор, МН: Марјан Ранђеловић
Наслов рада, НР: Електрофоретска депозиција Мг-силикатних превлака на нерђајућем челику у циљу побољшања биокомпатибилности
Језик публикације, ЈП: српски
Језик извода, ЈИ: енглески
Земља публиковања, ЗП: Р. Србија
Уже географско подручје, УГП: Р. Србија
Година, ГО: 2016.
Издавач, ИЗ: ауторски репринт
Место и адреса, МА: Ниш, Вишеградска 33.
Физички опис рада, ФО: 6 поглавља/ 55 страна/ 11 цитата/ 5 табела/ 27 слика и графика
Научна област, НО: Хемија
Научна дисциплина, НД: Примењена хемија
Предметна одредница/Кључне речи,
ПО:
Мг-силикат, клиноенстатит, електрофоретска деппозиција, биокомпатибилност
УДК 543.545.2 : [691.714.018 + 553.676]
Чува се, ЧУ: библиотека
Важна напомена, ВН: Рад је рађен у лабораторији за Примењену и индустријску хемију
ПМФ-а у Нишу и на Институту за нуклеарне науке „Винча” у
Београду
Извод, ИЗ: Главни предметни проблем који ће бити постављен и решен у овом мастер раду је налажење оптималних параметара за електрофоретску депозицију Мг-силикатног материјала на супстрат од нерђајућег челика (тип 304), у циљу остваривања биокомпатибилности. Мг-силикатни материјали су познати по својој биоактивости и биокомпатибилности. Циљ рада је да се најпре добије стабилна суспензија Мг-силикатног материјала у одговарајућем растварачу из које може да се добије глатка и униформна превлака. Такође, биће установљене оптималне вредности напона и време трајања електрофоретске депозиције за добијање превлаке жељене дебљине. Дебљина превлаке биће одређена оптичком микроскопијом, а кристална структура техником рендгеноструктурном анализом (XRD). Након калцинације превлаке на 900 °С, очекује се формирање кристалне фазе клиноенстатита, као коначног биокомпатибилног материјала на површини челика.
Датум прихватања теме, ДП:
Датум одбране,ДО:
Чланови комисије,КО: Председник:
Члан:
Члан,ментор
Прилог 5/2
ПРИРОДНО - МАТЕМАТИЧКИ ФАКУЛТЕТ
НИШ
KEY WORDS DOCUMENTATION
Accession number, ANO:
Identification number, INO:
Document type, DT: monograph
Type of record, TR: textual / graphic
Contents code, CC: University Master degree thesis
Author, AU: Jelena Čović
Mentor, MN: Marjan Ranđelović
Title, TI: Electrophoretic deposition of Mg-silicate coatings onto stainless steel for
biocompatibility improvement
Language of text, LT: Serbian
Language of abstract, LA: English
Country of publication, CP: Republic of Serbia
Locality of publication, LP: Serbia
Publication year, PY: 2016
Publisher, PB: author’s reprint
Publication place, PP: Niš, Višegradska 33.
Physical description, PD: (chapters/pages/ref./tables/pictures/graphs/appendixes)
6 chapters/ 55 pages/ 11 ref/ 5 tables/ 27 pictures and graphs
Scientific field, SF: Chemistry
Scientific discipline, SD: Applied Chemistry
Subject/Key words, S/KW: Mg-silicate, clinoenstatite, electrophoretic deposition, biocompatibility
UC 543.545.2 : [691.714.018 + 553.676]
Holding data, HD: library
Note, N: Done in laboratories of Faculty of Science and Mathematics in Nis and in Vinča Institute of Nuclear Sciences
Abstract, AB: The main present problem that will be set up and solved in this master work is to find the optimal parameters for the electrophoretic deposition of Mg-silicate material onto stainless steel substrates (type 304) for biocompatibility improvement. Mg-silicate materials are known for their bioactivity and biocompatibility. The aim of this study was to first give a stable suspension of Mg-silicate material in a suitable solvent from which can be obtained by a smooth and uniform coating. There were also be established optimum values of voltage and the duration of electrophoretic deposition to obtain the desired coating thickness. The thickness of coating will be determined by optical microscopy and by XRD technique. After the calcination of the coating at 900 °C, it is expected the formation of clinoenstatite crystal phases, as the final biocompatibile material to the surface of the steel.
Accepted by the Scientific Board on, ASB:
Defended on, DE:
Defended Board, DB: President:
Member:
Member, Mentor:
Eksperimentalni deo ovog master rada urađen je u istraživačkoj laboratoriji Katedre
za primenjenu i industrijsku hemiju (Departman za hemiju, Prirodno-matematički fakultet,
Univerzitet u Nišu) i u laboratoriji na Institutu za nuklearne nauke „Vinčaˮ (Beograd).
Veliku i iskrenu zahvalnost upućujem svom mentoru prof. dr Marjanu Ranđeloviću na
prihvatanju saradnje, ukazanom poverenju i razumevanju, izdvojenom vremenu i stručnoj
pomoći tokom izrade i pisanja ovog rada.
Zahvaljujem se svim kolegama, prijateljima, a posebno svojoj porodici i drugarici Aleksandri
Krstić na pruženoj bezgraničnoj podršci, ljubavi i motivaciji tokom studiranja.
Sadržaj
1. UVOD I CILJEVI RADA...................................................................................... 1
2. TEORIJSKI DEO................................................................................................. 4
2.1. Kratka istorija elektroforetskog taloženja..................................................... 5
2.2. Elektroforetsko taloženje – teorijske osnove................................................. 5
2.2.1. EFD parametri............................................................................ 8
2.2.1.1. Parametri koji se odnose na suspenziju.............................. 8
2.2.1.2. Parametri koji se odnose na proces.................................. 13
2.3. Kinetika elektroforetskog taloženja........................................................... 15
2.4. DLVO teorija i stabilnost suspenzija.......................................................... 17
2.5. Mehanizmi elektroforetskog taloženja ....................................................... 22
2.5.1. Mehanizam flokulacije nagomilavanjem čestica............................. 23
2.5.2. Mehanizam neutralizacije naelektrisanja na čestici.......................... 23
2.5.3. Mehanizam elektrohemijske koagulacije čestica............................. 23
2.5.4. Distorzija električnog dvojnog sloja i mehanizam istanjivanja........... 24
2.5.5. Mehanizam lokalizacije pH......................................................... 25
2.5.6. Mehanizam elektroforetskog taloženja na poroznim neprovodnim
supstratima................................................................................ 25
2.6. Industrijska primena procesa elektroforetskg taloženja................................. 26
2.7. Hidrotermalna tehnologija - primena, definicija........................................... 27
2.7.1. Mineralizatori........................................................................... 28
2.7.2. Uređaji za hidrotermalno procesiranje........................................... 29
2.8. Biomaterijali.......................................................................................... 31
2.9. Tipovi biomaterijala................................................................................ 31
2.9.1. Metali...................................................................................... 31
2.9.2. Keramika................................................................................. 32
2.9.3. Polimeri................................................................................... 32
2.10. Mg-silikat i klinoenstatit kao biomaterijali................................................ 33
2.11. Metode karakterizacije........................................................................... 33
2.11.1. Skenirajuća elektronska mikroskopija......................................... 33
2.11.2. Digitalni mikroskop (Motic D-EL1) ........................................... 35
2.11.3. Difrakcija rendgenskih zraka (XRD) .......................................... 36
3. EKSPERIMENTALNI DEO................................................................................. 38
3.1. Metodološki pristup eksperimentalnoj proceduri.......................................... 39
3.2. Pribor, hemikalije i instrumenti................................................................. 39
3.3. Sinteza materijala................................................................................... 40
3.4. Elektroforetsko taloženje materijala........................................................... 40
3.4.1. Priprema suspenzije................................................................... 40
3.4.2. Priprema supstrata za EFD.......................................................... 41
3.4.3. Uticaj različitih parametara EFD procesa....................................... 41
3.5. Karakterizacija materijala........................................................................ 42
3.6. Ispitivanje biokompatibilnosti.................................................................. 42
4. REZULTATI I DISKUSIJA.................................................................................. 45
4.1. Uticaj parametara na masu deponovanog Mg-silikata................................... 46
4.2. Morfološke karakteristike mikropovršine supstrata...................................... 49
4.3. XRD analiza.......................................................................................... 50
5. ZAKLJUČAK.................................................................................................... 52
6. LITERATURA................................................................................................... 54
2
Elektroforetsko taloženje ili depozicija (EFD) je dobro poznati postupak dobijanja
prevlaka na provodnim supstratima. EFD se zasniva na primeni električnog polja pod čijim
uticajem, u pogodnoj tečnoj fazi, dolazi do kretanja naelektrisanih čestica ka elektrodi. Ovo
kretanje dovodi do nagomilavanja čestica i formiranja homogenog sloja na elektrodi. Da bi
elektroforetska depozicija bila uspešna, potrebno je koristiti odgovarajuću suspenziju u kojoj
su čestice dobro dispergovane. Metodom elektroforetske depozicije se mogu deponovati
metali, polimeri, keramika, staklo, kao i odgovarajući kompoziti. Iako postoji veliki broj
tehnika za nanošenje prevlake na metalnim supstratima (kao na primer hemijsko taloženje,
fizičko taloženje, dip - coating itd.), elektroforetsko taloženje se posebno isitče kao aktivna
tehnika zbog svojih prednosti: kratko vreme trajanja procesa, jednostavne aparature
neophodne za rad, mogućnost primene različitih oblika supstrata itd. Zbog ovih i mnogih
dugih prednosti EFD, njena samostalna primena ili primena u kombinaciji sa drugim
tehnikama je dovela do razvoja savremenih biomaterijala, uključujući različite funkcionalne,
nanostrukturne i kompozitne prevlake, zatim porozne biomaterijale, sisteme za transport
lekova, biosenzore, kao i deponovanje biopolimera, bioaktivnih nanočestica, ugljeničnih
nanocevi u nanostrukturne biomaterijale i uređaje visoke tehnologije.
Keramički materijali imaju veliki značaj kao biomaterijali za zamenu ili regeneraciju
koštanog sistema, kao i za primenu u stomatologiji. Na primer, keramika ima široku upotrebu
u saniranju koštanih defekata lobanje i maksilofacijalnoj rekonstrukciji, kao ortopedski i
dentalni implantant. Na osnovu hemijske površinske reaktivnosti, biokeramika se može
svrstati u bioinertni, bioaktivni i bioresorbilni materijal. Biomaterijali zbog svojih
fizičkohemijskih karakteristika imaju poseban značaj zbog njihove sposobnosti da formiraju
hemijske veze sa živim tkivima. Bioaktivnost materijala uglavnom podrazumeva formiranje
sloja apatita na njegovoj površini nakon potapanja u biološkoj tečnosti, čime se ostvaruje
veza implantanta sa okolnim tkivom. Veoma je bitno poznavati uticaj implantanta na tkivo
domaćina kao i uticaj živog tkiva na impalantant, kako bi se izbegle neželjene komplikacije.
Zajednička osobina svih biomaterijala je biokompatibilnost, što znači da ne dovode do
alergijskih, toksičnih reakcija u telu.
Pored tradicionalnih hidroksiapatitinih materijala, neorganski materijali koji sadrže
magnezijum vremenom su dobili veći značaj i našli se u fokusu brojnih istraživanja
biomaterijala. Različiti materijali na bazi Mg-silikate keremike (kao na primer klinoenstatit,
forsterit itd.) su se pokazali veoma pogodnim za biomedicinsku primenu, zbog svoje
biokompatibilnosti i bioaktivnosti. Klinoenstatit je biokeramički materijal, molekulske
formule MgSiO3. Odlikuju ga tri glavna svojstva i čine ga idealnim materijalom za prevlake, i
to: visoka snaga vezivanja, otpuštanje funkcionalnih jona i povoljan osteoimunomodularni
efekat. Magnezijum ima suštinsku ulogu u metabolizmu kostiju i njegova nedovoljna količina
u organizmu može negativno uticati na sve faze skeletnog metabolizma, a silicijum je
element koji se nalazi u tragovima i bitan je za razvoj kostiju jer se smatra da ima direktan
uticaj na promet kolagena, koji je nazastupljeniji protein u kostima. Ove činjenice kao i sva
ostala istraživanja ukazuju na to da i magnezijum i silicijum imaju osteoimunomodulatorni
efekat koji favorizuje osteogenezu. Dokazano je da materijali na bazi Mg-silikatne keramike
promovišu adheziju ćelija, proliferaciju, širenje i diferencijaciju. Prethodne relevantne studije
3
su pokazale da je sastav biokeramike jedan od ključnih parametara koji utiču na
biokompatibilnost, bioaktivnost i biorazgradljivost. Takođe, oslobađanje pojedinih, odnosno
specifičnih elemenata (jona) iz bioaktivnih materijala može izazvati pozitivne efekte u
njihovom biološkom okruženju.
U ovom master radu su predstavljeni i diskutovani optimalni uslovi za elektroforetsko
taloženje Mg-silikatnih prevlaka na podlozi od nerđajućeg čelika. Amorfni Mg-silikat je
sintetisan hidrotermalnim postupkom u autoklavu, na temperaturi od 200 °C i autogenom
pritisku. Iz izopropanolske suspenzije sintetisanog nanodimenzionog praha Mg-silikata, uz
odgovarajuće aditive radi postizanja što veće vrednosti zeta potencijala čestica, istaložene su
prevlake na različitim naponima (10-30 V), za različita vremena taloženja (1-5 min),
variranjem rastojanja između elektroda i ponavljanjem EFD ciklusa. Pokazano je da masa
(debljina) prevlaka zavisi od eksperimentalnih uslova i određeni su optimalni uslovi za
dobijanje prevlaka Mg-silikata najveće mase. Nakon kalcinacije prevlake na temperaturi od
900 °C dobijen je mineral klinoenstatit.
Imobilizacija Mg-slikatnih prevlaka na metalnoj podlozi u obliku tanke prevlake
može biti od značaja za poboljšanje biokompatibilnosti metala kao i za druge posebne
namene.
5
2.1. Kratka istorija elektroforetskog taloženja
Elektroforetsko taloženje je poznato od 1808. godine kada je ruski naučnik Rues
(Ruess) primetio da električno polje uzrokuje kretanje čestica gline u vodi. Međutim,
praktična primena ove tehnike se dogodila 1933. godine kada je izvršeno taloženje čestica
torije (torijum dioksida – ThO2) na platinskoj katodi, u izradi emitera prilikom proizvodnje
elektronskih cevi. Hamaker (Hamaker) je prvi proučavao elektroforetsko taloženje keramike,
a tek je od 1980. godine ovaj proces postao značajan u oblasti keramičkih materijala visoke
tehnologije.
Primena EFD u oblasti biomaterijala je počela verovatno sa razvojem prevlaka od
hidroksiapatita na metalnim supstratima. Od tada je primena EFD u medicini proširena i na
funkcionalno gradijentne keramike, slojevite keramike, multislojevite kompozite,
superprovodnike, ugljenične nanoprevlake, zeolitne membrane nanodimenzija, tanke silika-
filmove, gasne elektrode i senzore itd. [1].
Elektroforetska depozicija se često koristi zbog svojih prednosti u odnosu na druge
tehnike za nanošenje prevlaka zbog niske cene, niske potrošnje energije, sposobnosti da se
nanose prevlake na predmetima složene geometrije, jednostavan scale-up sa jednostavnom
opremom koja se lako održava.
Važne prednosti elektroforetskog taloženja su te da se veliki broj raznovrsnih
materijala, poput čistih metala, legura, kompozita, biopolimera i keramičkih materijala mogu
naneti na supstrat u vidu prevlaka kretanjem suspendovanih čestica u električnom polju, pri
čemu je veličina čestica manja od 100 nm. Materijali sa odgovarajućim elektroforetskim
prevlakama se mogu koristiti u industrijskim uslovima (prevlake cilindara motora, ventili za
visoke pritiske), zatim za muzičke instrumente, auto opremu, medicinske uređaje, u
mikroelektronici, na polju poljoprivrede, nukealrnih nauka itd.
2.2. Elektroforetsko taloženje – teorijske osnove
Elektroforetsko taloženje je tehnika (postupak) za nanošenje prevlaka koja koristi
elektroforetski mehanizam kretanja naelektrisanih čestica suspendovanih u odgovarajućoj
tečnoj fazi, pod uticajem električnog polja, kako bi došle do izabranog supstrata i vezujući se
za njegovu površinu obrazovale film ili prevlaku. To je dobro razrađena tehnika nanošenja
prevlaka koja se obično izvodi u dvoelektrodnoj ćeliji. Na Slici 1. je dat šematski prikaz
jedne dvoelektrodne ćelije i električni potencijal između elektroda, gde je Va primenjeni
napon, ∆Ф1 i ∆Ф2 su padovi napona na granici faza suspenzija/elektroda, ∆Фdep je pad
potencijala kroz formiranu prevlaku i ∆Ф je pad napona u suspenziji. Na datoj slici se takođe
može videti i raspodela potencijala u ćeliji za elektroforetsko nanošenje prevlaka.
6
Slika 1. a) Osnovna dvoelektrodna ćelija za elektroforetsko taloženje sa paralelnim
elektrodama i naelektrisanim česticama u suspenziji koje se kreću/migriraju ka elektrodi na
kojoj se vrši taloženje (depozicija)
b) Električni potencijal između elektroda i raspodela potencijala u ćeliji za
elektroforetsko nanošenje prevlaka
Elektroforetsko taloženje nudi jednostavnu kontrolu nad debljinom i morfologijom
deponovanog filma podešavanjem parametara, kao što su vreme trajanja procesa taloženja i
vrednost primenjenog napona. Elektroforetsko taloženje se znatno razlikuje od
elektrodepozicije koja se odnosi na galvanizaciju i uključuje odvijanje faradejskih procesa u
toku formiranja prevlake na elektrodi. U Tabeli 1. su prikazane razlike između ova dva
procesa [1].
Tabela 1. Karakteristike elektrodepozicionih procesa
Osobine Galvanizacija Elektroforetska depozicija
Pokretne vrste Joni Čvrste čestice
Prenos naelektrisanja Redukcija Nema
Potrebna provodljivost u
tečnom medijumu Visoka Niska
Poželjan medijum Voda Organski
7
Osnovna razlika između elektroforetske depozicije (EFD) i elektrolitičke depozicije
(ELD) je ta da je prvi proces zasnovan na taloženju čestica iz suspenzije u rastvaraču na
supstrat i obrazovanju prevlake, dok je drugi proces zasnovan na elektrohemijskom taloženju
iz rastvora soli, tj. jonskih vrsta [1].
Postoje dva tipa elektroforetske depozicije zavisno od toga na kojoj elektrodi se
dešava taloženje. Kada su čestice pozitivno naelektrisane taloženje se dešava na katodi, a
proces se naziva katodna elektroforetska depozicija–kataforeza (Slika 2.a). Kada su čestice
negativno naelektrisane do taloženja dolazi na anodi, pa se proces naziva anodna
elektroforetska depozicija – anaforeza (Slika 2.b). I jedan i drugi tip elektroforetske
depozicije su mogući.
Slika 2. Šematski prikaz elektroforetskog procesa taloženja. a) Katodna i b) anodna
elektroforetska depozicija
Osnovni mehanizam elektroforetskog taloženja podrazumeva dva koraka:
elektroforeza – električno polje se uspostavlja između dve elektrode, a naelektrisane
čestice suspendovane u pogodnom rastvaraču se kreću prema suprotno naelektrisanoj
elektrodi;
depozicija – čestice nagomilane na površini elektrode se destabilizuju i formiraju
prevlaku na njoj.
Generalno, proces elektroforetskog taloženja za nanošenje prevlaka se može primeniti na bilo
koje čestice čvrste faze u suspenziji, uključujući metale, polimere, keramičke materijale i
stakla.
8
2.2.1. EFD parametri
Parametri se mogu svrstati u dve velike grupe:
parametri koji se odnose na suspenziju
parametri koji se odnose na proces
Što se tiče osobina suspenzija, moraju se uzeti u obzir mnogi parametri, kao što su je
fizičko-hemijska priroda suspendovane čestice i tečnog medijuma, površinske osobine praha,
uticaj vrste i koncentracije aditiva, uglavnom disperzanata. Tu se ubrajaju parametri vezani za
veličinu čestica, zeta potencijal, dielektrična konstanta tečne faze, provodljivost, viskoznost i
stabilnost suspenzije. Parametri vezani za proces su vreme trajanja procesa, primenjeni
napon, koncentracija čvrste faze u suspenziji i provodljivost supstrata.
2.2.1.1. Parametri koji se odnose na suspenziju
Veličina čestica
Iako ne postoji opšte pravilo da se odredi veličina čestica koja je najpogodnija za
elektroforetsko nanošenje, smatra se da je proces elektroforetskog nanošenja efikasan kada je
raspon veličine čestica 1-20 μm [1]. Važno je da čestice ostaju potpuno dispergovane i
stabilne u suspenziji, kako bi se dobila homogena i glatka prevlaka nakon taloženja. Za veće
čestice, glavni problem je u tome što one imaju tendenciju da padaju na dno ćelije za
elektroforetsko taloženje zbog gravitacije.
Slika 3. Sem mikrografija YBa2Cu3O7 filma deponovanog na srebrnoj elektodi iz
suspenzije u acetonu, pri naponu od 10 V u trajanju od 180 s
Film A: srednja veličina čestica je 3 μm, film B: srednja veličina čestica je 0,06 μm
Filmovi su sinterovani na 945 °C u trajanju od 1 h i žareni na 500 °C još 6 h [1]
9
Zeta potencijal
Naelektrisane čestice u suspenziji su okružene jonima suprotnog naelektrisanja u
koncentraciji višoj od koncentracije ovih jona na većim rastojanjima od čestice (u dubini
rastvora), formirajući tzv. električni dvostruki sloj (Slika 4.).
Slika 4. Šematski prikaz dvostrukog električnog sloja
Ovo površinsko naelektrisanje utiče na distribuciju okolnih jona u polarnom medijumu.
Joni koji uspostavljaju površinski naboj se nazivaju potencijalni određujući joni. To su
uglavnom joni koji ulaze u sastav čvrste faze (čestica) vodonični i hidroksilni joni, zatim joni
sposobni da formiraju komplekse ili nerastvorne soli sa čvrstom fazom. Joni suprotnog
naelektrisanja (kontra joni) bivaju privučeni ka površini, a joni istog naelektrisanja se
odbijaju od površine. Ovo dovodi do formiranja neto naelektrisanja na površini čestice i
obrazovanja dvojnog elekričnog sloja.
Za čestice u razblaženom rastvoru elektrolita zeta potencijal je jednak:
Z= q/2πf(κr) εrε0d (1)
f(κr) – Henry-ev koeficijent. εr – električna permitivnost vakuuma, d – dijametar čestice
10
Kao što je već navedeno, u rastvoru, prisustvo naelektrisanja na čestici utiče na raspodelu
jona koji ga okružuju, dovodeći do povećanja koncentracije kontra jona. Region u kojem
se taj uticaj proteže se zove električni dvojni sloj. Ovaj sloj se može posmatrati kao da se
sastoji od dva odvojena regiona. Unutrašnji region čvrsto vezanih jona se naziva Šternov
sloj, a spoljašnji sloj slabije vezanih jona je difuzioni sloj [1].
Slika 5. Šematski prikaz električnog dvojnog sloja i pada potencijala kroz isti a)
površinsko naelektrisanje b) Šternov sloj c) difuzioni sloj sa kontra jonima
Kako se čestica kreće kroz rastvor, tako se i joni koji se nalazi u neposrednoj blizini
njene površine kreću zajedno sa njom. Međutim, na nekom rastojanju od čestice postoji
granica iza koje se joni ne kreću zajedno sa česticom. Ova granica je poznata kao
hidrodinamička ravan smicanja ili klizna ravan, i postoji negde unutar difuzionog sloja.
Potencijal koji postoji na prokliznoj ravni se definiše kao elektrokinetički ili zeta potencijal
[1]. Zeta potencijal je od ključnog značaja u određivanju stabilnost koloidne suspenzije. Kada
čestice imaju veliki negativni ili veliki pozitivni zeta potencijal doći će do međusobnog
odbijanja čestica, tako da će suspenzija biti stabilna. Ako je zeta potencijal nizak tendencija
flokulacije se povećava. Drugi važan faktor kada je reč o zeta potencijalu je pH. Besmisleno
je govoriti o zeta potencijalu bez naglašavanja pH vrednosti na kojoj je potencijal izmeren.
To je zbog činjenice da za suspenzije većine materijala zavisnost zeta potencijala od pH
pokazuje karakterističnu tačku, poznatu kao izoelektrična tačka. Izoelektrična tačka je
zapravo pH vrednost rastvora na kojoj je neto naelektrisanje na česticama nula. Tada je
suspenzija veoma nestabilna i pojava flokulacije je najverovatnija.
Uspešno elektroforetsko taloženje u velikoj meri zavisi od veličine i uniformne
raspodele površinskog naelektrisanja na suspendovanim česticama. Ukupna stabilnost
sistema zavisi od interakcije između pojedinačnih čestica u suspenziji (elektrostatičke i van
der Valsove sile). Prilikom formiranja depozita čestice se približavaju jedna drugoj pri čemu
se pojačava dejstvo privlačnih van der Valsovih sila. Ako je naelektrisanje čestica nisko,
11
čestice koagulišu čak i pri velikim razdaljinama, što dovodi do nastanka poroznih depozita
nalik na sunđer. A ako čestice imaju veliki naboj pri taloženju doći će do intenzivnijeg
odbijanja čestica zbog čega one u toku formiranja depozita zauzimaju pozicije koje dovode
do gustog pakovanja [1].
Iz tog razloga, zeta potencijal se može kontrolisati raznim aditivima i reagensima kao
što su kiseline, baze i joni koji specifično adsorbuju na površini čestica, kao i
polielektrolitima [1]. Postoje različiti aditivi koji utuču na intenzitet naelektrisanja i njegov
polaritet i deluju različitim mehanizmima. Glavni kriterijumi za izbor aditiva su željeni
polaritet čestica i brzina taloženja čestica na supstratu.
Dielektrična konstanta tečnosti
Veliki broj podataka, koji su uzeti iz literature, ukazuju na to da se dobre prevlake
dobijaju samo iz suspenzija u tečnostima sa relativnom dielektričnom konastantom u opsegu
od 12-25. Sa jako niskom dielektričnom konstantom taloženje se ne dešava zbog nedovoljne
sposobnosti rastvarača da razdvoji naelektrisane čestice u rastvoru, dok sa visokom
dielektričnom konstantom, visoka jonska koncentracija u tečnosti smanjuje debljinu
električnog dvojnog sloja a samim tim smanjuje se i elektroforetska pokretljivost čestica.
Dielektrična konstanta je proizvod relativne dielektrične konstante i dielektrične konstante u
vakuumu. Tabela 2. prikazuje fizičke osobine nekih rastvarača, kao što su viskoznost i
relativna dielektrična konstana [1].
Tabela 2. Fizičke osobine-viskoznost i relativna dielektrična konstanta nekih rastvarača
Rastvarači Viskoznost (cP)=10-3 Nsm-2 Relativna dielektrična
konstanta
Metanol 0.557 32.63
Etanol 1.0885 24.55
n-Propanol 1.9365 20.33
Izopropanol 2.0439 19.92
n-Butanol 2.5875 17.51
Etilen glikol 16.265 37.7
Aceton 0.3087 20.7
Provodljivost suspenzije
Dva naučnika, Ferari (Ferrari) i Moreno (Moreno) su nakon istraživanja došli do
zaključka da je provodljivost suspenzije važan faktor i treba ga uzeti u obzir prilikom
elektroforetske depozicije. Ako je suspenzija previše provodna pokretljivost čestica je veoma
12
niska, a ako je suspenzija vrlo malo provodna smanjuje se stabilnost zato što se česticama
povećava naelektrisanje. Povećanje provodljivosti suspenzije se može ostvariti povećanjem
temparature i povećanjem koncentracije polielektrolita (disperzanata). Treba napomenuti da
nisu sve vrednosti provodljivosti odgovarajuće za elektroforetsku depoziciju. Nađeno je da
postoji uzak opseg provodljivsti za različite koncentracije disperzanata i temperature u kojem
se formira depozit. Provodljivosti koje su van ovog opsega nisu pogodne za elektroforetsku
depoziciju jer je ograničena mogućnost formiranja depozita. Međutim, očekuje se da ova
optimalna oblast provodljivosti bude različita za različite sisteme [1].
Viskoznost suspenzije
U elektroforetskom procesu, željene osobine suspenzije su niska viskoznost, visoka
dielektrična konstanta i niska provodljivost. Zato, elektroforetska pokretljivost suspendovanih
naelektrisanih čestica je uglavnom određena odnosom između dielektrične konstante i
viskoziteta rastvarača.
Stabilnost suspenzije
Elektroforetsko taloženje se javlja kada je rastojanje gde naelektrisanje dvojnog
električnog sloja pada na nulu veliko u odnosu na veličinu čestica. Pod ovim uslovima,
čestice će se kretati u odnosu na tečnu fazu kada se uspostavi razlika potencijala, odnosno
električno polje. Koloidne čestice koje su u prečniku 1 μm ili manje imaju tendeciju da
ostanu u suspenziji duže vreme zbog Braunovog kretanja. Čestice veće od 1 μm zahtevaju
kontinuiranu hidrodinamičku agitaciju da bi ostale u suspenziji. Stabilnost suspenzija
karakteriše se brzinom taloženja čestica na dno suda pod dejstvom gravitacione sile, odnosno
sklonošću suspenzije ka flokulaciji. Stabilne suspenzije ne pokazuju tendenciju da flokulišu,
talože se polako i formiraju guste i snažno adherovane depozite na dnu posude. Nestabilne
suspenzije flokulišu brzo formirajući taloge niske gustine koji slabo prijanjaju na zidove
posude.
Dakle, kada se govori o stabilnosti suspenzija podrazumeva se destabilizacija koja se
dešava spontano pod uticajem sile gravitacije, što podrazumeva odsustvo električnog polja.
Ako je suspenzija previse stabilna, u procesu elektroforetske depozicije odbojne sile između
čestica neće biti nadjačane silama elektičnog polja, pa do depozicije na supstratu (elektrodi)
neće doći. Prema nekim modelima elektroforetskog taloženja suspenzija treba da bude
nestabilna u blizini elektroda [1]. Ova lokalna nestabilnost može biti prouzrokovana
formiranjem jona elektrolizom; ovi joni tada mogu izazvati flokulaciju u blizini površine
elektrode. Poželjno je da se nađu odgovarajući fizički/hemijski parametri koji karakterišu
suspenziju dovoljno dobro kako bi se mogla predvideti sklonost ka obrazovanju prevlake na
supstratu.
13
Većina istraživača koristi zeta potenciijal ili elektroforetsku pokretljivost, ali ove
veličine ne određuju jednoznačno sposobnost suspenzije da obrazuje depozit.
Na primer, u suspenziji aluminijuma u alkoholu dodavanje elektrolita ne izaziva značajnu
promenu zeta potencijala, ali depoziti se mogu dobiti samo u prisustvu elektrolita [1].
Stabilnost suspenzije je očigledno najznačajnije svojstvo, ali je više empirijsko svojstvo nego
što je u vezi sa nekim osnovnim parametrima.
2.2.1.2. Parametri koji se odnose na proces
Uticaj vremena taloženja
Basu (Basu) i saradnici su utvrdili da se brzina depozicije za konstantno električno
polje smanjuje sa povećanjem vremena trajanja depozicije. Na Slici 6. jasno se uočava da je
debljina prevlake u zavisnosti od vremena linearna na početku obrazovanja prevlake na
supstratu, ali kako vreme protiče, brzina taloženja opada a kriva na grafiku dostiže plato pri
veoma dugim vremenima [1]. Kada se potencijalna razlika između elektroda održava
konstantnom, jačina električnog polja se smanjuje (Slika 7.) sa vremenom zbog formiranja
izolaciong sloja keramičkih čestica na površini elektrode [1]. Ali tokom početnog perioda,
generalno, postoji lineran odnos između mase deponovanog materijala i vremena.
Slika 6. Odnos debljine depozita i vremena taloženja za ZnO prevlake na bakarnoj
elektrodi na različitim primenjenim potencijalima
14
Slika 7. Gustina struje u odnosu na vreme taloženja pri elektroforetskom deponovanju
hidroksiapatita na različitim naponima: (a) 50 V; (b) 100 V; (c) 200 V
Primenjeni napon
Masa depozita se povećava sa porastom primenjenog potencijala. Međutim, iako se
keramčki prahovi mogu brže deponovati na većim vrednostima napona, kvalitet depozita
može značajno opasti. Basu i saradnici [1] su utvrdili da se bolji i uniformniji filmovi
dobijaju na umerenim vrednostima električnog polja (25-100 V/cm), dok se kvalitet filma
znatno pogoršava ako se primeni električno polje većeg intenziteta (> 100 V/cm). Pošto je
formiranje filma na elektrodi kinetički fenomen, brzina akumulacije čestica utiče na način
njihovog „pakovanjaˮ u prevlaci.
Za velike vrednosti intenziteta električnog polja, koje mogu da izazovu turbulencije u
suspenziji, kvalitet prevlaka može biti narušen zbog pojačanog strujanja medijuma u
neposrednoj blizini površine supstrata. Pored toga, čestice se mogu tom prilikom kretati
veoma brzo da ne mogu da zauzmu odgovarajuća mesta, tj. najbolje pozicije tokom
formiranja prevlake, pa se ne obrazuje kompaktna struktura prevlake. Takođe, pri visokim
vrednostima napona odnosno električnog polja, lateralno kretanje čestica u već deponovanom
sloju je ograničeno, pošto se pod uticajem jakog električnog polja ostvaruje jak pritisak fluksa
čestica koje se kreću ka elektrodi što dodatno utiče na brzinu depozicije i strukturu depozita.
15
Slika 8. Masa deponovanog hidroksiapatita na Ti6Al4V supstratu u zavisnosti od
primenjenog napona za različita vremena: (a) 30 s i (b) 120 s
Koncentracija suspenzije
Zapreminski udeo čvrste faze u suspenziji igra važnu ulogu, posebno u uslovima
višekomponentnog elektroforetskog taloženja. U nekim slučajevima, iako svaka vrsta čestica
ima znak površinskog naelektrisanja, one mogu da se deponuju različitim brzinama u
zavisnosti od zapreminske frakcije čvrstih materijala u suspenziji. Ako je zapreminska
frakcija svih čvrstih materija visoka, depozicija se odvija istom brzinom. Ako je, međutim,
udeo čvrstih materija relativno mali, čestice se mogu deponovati brzinama srazmerno
njihovoj pojedinačnoj elektroforetskoj pokretljivosti [1].
Provodljivost supstrata
Uniformnost i provodljivost supstrata (elektrode) je važana parameter koji je od
ključnog značaja za kvllitet filma/prevlake. Obično, niska provdljivost podloge dovodi do
neuniformne prevlake i sporog taloženja. Ovo se objašnjava visokom otpornošću (maloj
provodljivosti) supstrata.
2.3. Kinetika elektroforetskog taloženja
Da bi proces elektroforetskog taloženja bio efikasniji, potrebno je poznavati kinetiku
procesa u cilju kontrole i manipulacije brzine taloženja i postizanja fleksibilne manipulacije
mikrostrukture. Hamaker (Hamaker) [1] je prvi pokušao da nađe korelaciju između
parametara elektroforetskog taloženja. Zakon Hamaker-a se može izraziti na sledeći način:
m= μEtSCs (2)
16
gde je m masa depozita po jedinici površine (g/cm2), μ predstavlja elektroforetsku
pokretljivost čestica (cm2/Vs) u električnom polju E (V/cm), t je vreme taloženja i S je
površina elektrode, Cs je koncentracija čvrste faze u suspenziji.
Kako bi se objasnilo nelinerano povećanje mase deponovanog materijala, razvijen je
model pokretne granice za dvokomponentne sisteme.
Treba napomenuti da Hamaker-ova jednačina predviđa lineralno povećanje mase
depozita, m, sa povećanjem koncentracije čestica, Cs, u razblaženim suspenzijama. Proces
elektroforetskog taloženja se može voditi sa konstantnim naponom ili konstantnom strujom,
pri čemu koncentracija suspenzije može biti konstantna sve vreme ili da se neprestano
smanjuje u toku trajanja procesa.
Prema Sarkraru (Sarkar) i saradnicima [1], kinetika elektroforetskog taloženja se
može prikazati šematski kako je dato na Slici 9. Kriva A se odnosi na proces kada su struja i
koncentracija suspenzije konstantni. Kriva B opisuje kinetiku procesa pri konstantnoj struji
uz neprekidno smanjenje koncentracije suspenzije sa vremenom. Kriva C prikazuje kinetiku
pri konstantnom naponu i konstantnoj koncentaraciji suspenzije. Konacno, kriva D se odnosi
na proces kojise odvija pri konstantnom naponu, ali uz neprekidno smanjenje koncentarcije
(iscrpljivanje materijala koji se deponuje iz suspenzije) u toku odvijanja procesa.
Slika 9. Prikaz kinetike elektroforetskog taloženja
Očigledno je da brzina elektroforetskog taloženja opada od A do D. Čak i pri
konstantnoj koncentraciji suspenzije, brzina taloženja je znatno veća pri konstantnoj struji,
nego pri konstantnom naponu. Ovo se dešava zbog toga što deponovani materijal na elektrodi
ima ulogu neke vrste „štitaˮ i izolatora koji ima znatno veći električni otpor nego suspenzija.
Zbog toga, električna pokretačka sila opada sa vremenom, kako debljina prevlake raste.
17
2.4. DLVO teorija i stabilnost suspenzija
Bitnu ulogu u tumačenju procesa taloženja čestica imaju disperziono stanje i
stabilnost suspenzije. Disperzino stanje čestica u suspenziji ili „struktura suspenzijeˮ se može
kontrolisati pažljivim kontrolisanjem sila interakcija između čestica i njihovom interakcijom.
Van der Valsove sile u bilo kom koloidnom sistemu u suštini zavise od skoro svake promene
koja se desi u samom rastvoru (na primer, dodatak elektrolita). Čak i formiranje monosloja na
površini čestice adsorpcijom površinskih aktivnih materija će imati uticaj na jačinu van der
Valsovih sila. Ovo ukazuje na činjenicu da je potrebno izmeniti sile u električnom dvojnom
sloju u cilju promene stabilnosti koloidnog sistema. Agregati čestica se javljaju kada van der
Valsove sile prevaziđu odbojne elektrostatčke sile. Kvantitativna procena stabilnosti
suspenzije u smislu postojanja sila interakcije između koloidnih čestica ili nekih drugih
čvrstih površina koje se nalaze u tečnoj fazi je opisana klasičnom DLVO teorijom koju su
utvrdili Dedžejen (Derjaguin), Landa (Landau), Vervei (Verwey) i Overbik (Overbeek). Po
ovoj teoriji koloidna stabilnost se zasniva na perikinetičkom fenomenu, tj. pretpostavlja se da
je rastvor stacionaran a sudari između čestica se dešavaju zbog Braunovog kretanja.
Pretpostavlja se da je efekat dve sile zbir kombinovanog dejstva elektrostatičkog odbijanja
(VR) i van der Valsovog privlačenja (VA) i ukupna energija interakcije (VT) je predstavljena
izrazom (3) koji je dao Hajemnez (Hiemnez). Iako je teorija zasnovana na jednostavnoj
aditivnosti privlačnih i odbojnih elektrostatičkih interakcija, pokazala se uspešnom u
predviđanju osnovnih svojstava koloida, njihove stabilnosti i fenomena depozicije čestica.
Prema ovoj teoriji, stabilnost koloidnog sistema je određena ukupnom energijom interakcije
koja je data sumom odbojnih sila električnog dvojnog sloja (VR) i van der Valsovih
privlačnih sila (VA).
VTOTAL = VR + VA (3)
Elektrostatička odbojna sila (VR) se može izraziti kao
VR = ln{1+ exp(-κD)} (4)
gde je ε dielektrična konstanta tečnosti, 𝒶 je radijus čestice, Ψδ je površinski potencijal koji se
često naziva zeta potencijal, κ je recipročna vrednost debljine dvostrukog sloja i D je
rastojanje između dve čestice koje interaguju.
Van der Valsova privlačna sila (VA) se može izraziti kao
VA = - ƒ(P) (5)
18
gde je A131 Hamaker-ova konstanta za medijum 1 od kojeg se čestice sastoje, a razdvojene su
tečnom fazom (medijum 3), je data sledećim izrazom:
A131 = ( - )2 (6)
gde su A11 i A33 interakcije 1 i 3, u vakuumu. Jednačina (6) ukazuje na to će interakcija
između sličnih materijala u tečnosti uvek dati pozitivnu vrednost Hamaker-ove konstante,
koje god da su vrednosti A11 i A33. Za različite materijale 1 i 2 u tečnosti 3 (kada je A11 > A33
> A22) postoji mogućnost da vrednosti Hamaker-ove konstante budu negativne i da se jave
odbojne van der Valsove sile. Iako van der Valsovo odbijanje može biti značajno u fenomenu
kvašenja, postoji vrlo malo dokaza za takav efekat u koloidnim disperzijama. Praktično za
sve vodene disperzije, vrednost Hamaker-ove konstante se nalazi u opsegu 0.30-10.0 x 10-20
J. Kada je vrednost konstante veća od 10-20 J može se pretpostaviti da je van der Valsova
interakcija nezavisna od jonske sile rastvora. Biološki materijali i ostali materijali male
gustine imaju niske vrednosti Hamaker-ove konstante [1].
Iako se Hamaker-ov pristup uglavnom koristi za određivanje interakcije između
čestica, često se mora korigovati zbog efekta retardacije koji nastaje zbog elektromagnetnih
karakteristika van der Valsovih disperzionih sila. Sile se mogu tačnije predvideti direktnom
računicom zasnovanom na informaciji o elektromagnetnim svojstvima medijuma koristeći
Lifšicov (Lifshitz) ili makroskopski pristup. Šenkl (Schenkel) i Kičiner (Kitchener) su
predložili jednostavan izraz koji kvantitativno opisuje interakcije, a koji uzima u obzir efekat
retardacije. Član ƒ(P), u izrazu za VA, predstavlja retardacioni faktor i dat je sledećim
izrazom:
ƒ(P) = za P << 0.5 (7)
ƒ(P) = - + za P > 0.5 (8)
Oblik jednačine za ukupnu energiju interakcije je takva da van der Valsova
privlačnost uvek dominira i pri malim i pri velikim rastojanjima između čestica. U slučaju
umerenih rastojanja između čestica, ponašanje zavisi od jonske sile rastvora i koncentracije
elektrolita u medijumu. Grafička zavisnost ukupne potencijalne energije interakcije od
rastojanja između čestica je prikazana na Slici 10 [1]. U zavisnosti od jonske sile rastvora, na
datoj slici se uočavaju četiri vrste oblika sa velikim varijacijama u stabilnosti. Kada su jonske
sile rastvora veoma male, kriva potencijalne energije (kriva A) predstavlja jake odbojne sile
dugog dometa dvosmernih sila dajući kao rezultat potpuno disperzni sistem. Pri nešto jačim
ali i dalje slabim jonskim silama, javlja se primarni minimum i maksimum u ukupnom
interakcionom energetskom profile (kriva B). Interakcija je u osnovi i dalje odbojna.
19
Maksimum u energetskom profilu predstavlja potencijalnu energetsku barijeru između dve
čestice i od velikog je značaja za koloidnu stabilnost.
Glavni aspekti koje treba uzeti u obzir su:
visina energetske barijere i
dubina potencijalne jame (primarni minimum) na maloj udaljenosti.
Slika 10. Ukupna potencijalna energija u zavisnosti od rastojanja između čestica. Prikazna su
četiri različita tipa interakcija između dve čestice: A = spontana disperzija čestica; B = nema
osnovne koagulacije zbog visoke energetske barijere; C, D = slaba sekundarna minimalna
koagulacija; E = brza koagulacija u osnovnu minimalnu
Slika 10. jasno objašnjava da čak i ako je energetski povoljno da dođe do bliskog
kontakta između čestica, dve sudarajuće čestice bi trebalo da poseduju dovoljnu energiju da
prevaziđu ovu energetsku barijeru za formiranje agregata. Visina energetske barijere zavisi
od veličine i od dometa odbojnih sila.
20
Kada je maksimalna potencijalna energija dovoljno velika u odnosu na toplotu
energiju čestica, sistem bi trebalo biti stabilan. Uloga kolagulanta ili polimernih flokulanata je
ili da snize energetsku barijeru smanjivanjem elektrostatičke odbojnosti čime olakšavaju
česticama da se međusobno približe ili da omoguće neke oblike interakcije kojima
destabilizuju suspenziju i tako izazovu razdvajanje čvrste i tečne faze. Čestice koje uspeju da
prevaziđu energetsku barijeru bivaju zadržane u dubokom primarnom minimumu odakle ne
mogu izaći. U principu, van der Valsova privlačnost je beskonačno jaka na kontaktu čestica, i
primarni minimum bi trebalo biti beskonačno dubok. Međutim, blizina do koje čestice mogu
prići jedna drugoj je ograničena zbog odbojnih sila kratkog dometa i stoga vrednost
primarnog minimuma u nekim slučajevima može biti poprilično mala.
Kada je jonska sila srednje jačine, javljaju se primarni minimum, primarni maskimum
i sekundarni minimum (krive C i D). Sekundarni minimum na krivama potencijane energije
je karakteristična osobina koncentorvanih rastvora elektrolita u kome je rastojanje između
čestica relativno veliko. Kada minimum potencijalne energije ima umerene vrednosti u
poređenju sa toplotnom energijom kretanja čestica, dešava se reverzibilna flokulacija.
Ponovna disperzija je tada moguća razblaživanjem rastvora elektrolita. Za male čestice,
visoka vrednost maksimuma potencijalne energije sprečava koagluaciju u primarnom
minimum; sekundarni minimum je takođe nedovoljno dubok da bi se dogodila agregacija.
Međutim, za čestice visokog radijusa i nepravilnog oblika efekat agregacije je izraženiji u
odnosu na savršeno sferne čestice, zbog sekundarnog minimuma. U medijumu sa jakom
jonskom silom rastvora, između koloidnih čestica ne postoje jake odbojne sile, zbog čega se
javlja brza koagulacija i sistem je potpuno nestabilan (duboki primarni minimum -kriva E).
DLVO teorija se može uspesno koristiti za predviđanje koagulacije u primarnom
minimum, dok je za objašnjenje sekundarnog minimum manje uspešna. Kod sistema u
kojima dominira elektrostatičko odbijanje, čestice koje su upale u primarni minimum nije
moguće ponovo dispergovati.
Na visinu primarnog minimuma, odnosno na stabilnost sistema, može se uticati
visinom Vmax i to:
promenom jonske jačine elektrolita i vrstom kontra jona; smanjenje koncentracije
kontra jona dovodi do smanjenja VR smanjenjem debljine dvojnog sloja i obrnuto
promenom površinskog potencijala čestica Ψ, odnosno pH rastvora; povećanje
potencijala povećava VR dok VA ostaje nepromenjena
U radu sa koncentrovanim suspenzijama, moraju se uvesti veće vrednosti odbojne barijere
da bi se sprečila aglomeracija dispergovanih čestica, obzirom na to da se u ovakvim
sistemima razvija veća kinetička energija. Polimerna stabilizacija je jedan od mogućih izbora.
Tako na primer, adsorbovani polielektrolit sa zeta potencijalom od svega 25 mV će biti u
stanju da uspostavi uspešnu stabilizaciju jer adsorbovani sloj obezbeđuje elektro sternu
smetnju između površina čestica [2].
21
U tom slučaju u osnovnu jednačinu DLVO teorije treba uvrstiti i vrednost potencijala koji
potiče od sterne smetnje, VS:
VTOTAL =VR + VA + VS (9)
Korigovana zavisnost ukupne potencijalne energije interakcije od udaljenosti površine
čestica predstavljena je na Slici 11 [2].
Slika 11. Ukupna potencijalna energija interakcije, VT, između dve sterno stabilisane
čestice u zavisnosti od rastojanja njihovih površina, H:
a) u odsustvu elektrostatičkog odbijanja VT = VA + VS
b) sa elektrostatičkim odbijanjem VT = VA + VR + VS
Stabilnost suspenzije se može obezbediti različitim mehanizmima: elektrostatički,
sternom stabilizacijom (adsorpcijom polimera) ili njihovom kombinacijom – elektrosterno,
hidratacionom stabilizacijom (adsorpcijom hidrofilnog filma), maskiranjem van der Valsovih
sila privlačenja (izborom odgovarajućeg disperzionog medijuma) i dodatkom velikih
koncentracija neadsorbujućeg polimera (eng. depletion stabilisation).
U originalnoj DLVO teoriji, razmatrane su samo van der Valsove i elektrostatičke
interakcije. Takođe je pronađeno da pored ovih sila treba razmotriti i druge kategorije fizičkih
interakcija kako bi se dobila kompletna teorija stabilnosti koloida. Stabilizacija koloidnih
disperzija takođe može biti pod uticajem sterne stabilizacije ili strukturnih sila. Ovi
mehanizmi postaju važni kada postoje hidrofilni makromolekuli adsorbovani ili vezani za
površinu čestica. Stabilizacija je izazvana odbijanjem između ovih adsorbovanih
makromolekula.
22
Šematski prikaz elektrostatičke i sterne stabilizacije suspenzije je prikazan na Slici 12.
Sile sterne stabilizacije su uglavnom sile kratkog dometa (< 2 nm) [1]. Prisustvo ovih sila
takođe može promeniti oblik potencijala koji kontroliše interakciju između čestica i supstrata.
Sterno stabilizovane suspenzije za elektroforetsko nanošenje se moraju koristiti oprezno, jer
su osobine površine čestica potpuno promenjene i elektroforetska pokretljivost će se veoma
razlikovati od elektrostatički stabilizovane suspenzije. U ekstremnim slučajevima, kada je
znak naelektrisane površine obrnut zbog adsorbovanog polimera, nanošenje može izostati ili
se može pojaviti na kontra elektrodi.
Slika 12. Šematski prikaz elektrostatičke i sferne stabilizacije suspenzije
a) Elektrostatička stabilizacija; b) Sterna stabilizacija
2.5. Mehanizmi elektroforetskog taloženja
Iako se već dugo godina elektroforetsko taloženje uspešno korsiti za različite vrste
prevlaka, tačni mehanizmi po kojima se formiraju depoziti još uvek nisu sasvim razjašnjeni
[1]. Još uvek ne postoji opšta saglasnost u naučnim krugovima da se čestice isključivo
deponuju usled destabilizacije čestica u blizini površine elektrode. U tom kontekstu, mora se
napomenuti da ne postoji jedan i jedinstveni mehanizam elektroforetskog taloženja.
Kao što postoji nekoliko mehanizama za stvaranje stabilne koloidne suspenzije,
postoji nekoliko mehanizama pomoću kojih čestice mogu da se destabilizuju i da formiraju
prijanjajući depozit na površini elektrode. Čestice putuju ka elektrodi elektroforetskim
mehanizmom, ali ako nema razlika između svojstava suspenzije u dubini suspenzije i na
površini elektrode, čestice će ostati stabilne i do depozicije, odnosno obrazovanja prevlake
neće doći. Prepoznavanjem elektrohemijskih promena koje se dešavaju na elektrodi mogu se
razmatrati nekoliko načina da se izmeni priroda suspenzije u blizini elektrode, tako da čestice
koje se inače odbijaju u dubini suspenzije i ostaju u dispergovanom stanju, bivaju
destabilizovane u neposrednoj blizini supstrata (elektrode). Dakle, taloženje na supstratu se
odvija međusobnim delovanjem raznih elektrohemijskih i agregacionih fenomena.
23
2.5.1. Mehanizam flokulacije nagomilavanjem čestica
Hamaker (Hamaker) i Vervei (Verwey) su predložili mehanizam po kome je
formiranje depozita elektroforezom slično formiranju taloga zbog gravitacije i da je primarna
funkcija primenjenog električnog polja pokretanje čestica i njihova akumulacija u
neposrednoj bliizni elektrode. Pritisak koji vrše dolazeće čestice (fluks čestica) omogućava
česticama koje su blizu depozita da prevaziđu elektrostatičke sile odbijanja između čestica.
Međutim, ovaj mehanizam objašnjava fenomen obrazovanja prevlake kada se depozicija
dešava na poroznim membranama kao što su membrane za dijalizu, a ne na elektrodi [1].
2.5.2. Mehanizam neutralizacije naelektrisanja na čestici
Grilon (Grillon) i saradnici [1] su predložili sledeći koncept formiranja prevlake; kada
se uspostavi električno polje u suspenziji naelektrisanih čestica dolazi do njihove
neutralizacije kada se nađu u kontaktu sa suprotno naelektrisanom elektrodom, pri čemu gube
mogućnost daljeg kretanja i postaju statične. Mehanizam važi za pojedinačne čestice i
monoslojne depozite tokom početnih faza taloženja. Međutim, mehanizam ne važi pod
sledećim uslovima:
kada se proces odvija duže vreme (deblji depozit)
kada su sprečeni procesi na kontaktu čestica-elektroda; na primer,
polupropustljiva membrana izaziva taloženje između elektroda
kada se odvijaju reakcije na elektrodi, pri čemu dolazi do lokalne promene pH
vrednosti.
2.5.3. Mehanizam elektrohemijske koagulacije čestica
Kolmans (Koelmans) [1] je predložio da se odbijanje između čestica smanjuje u
blizini elektrode zbog povećanja koncentracije elektrolita što dovodi do koagulacije i
konsolidacije čestica. U blizini elektrode dolazi do povećanja jonske sile rastvora, koja prema
proračunima dostiže vrednost dovoljnu da se desi flokulacija čestica. Porast koncentracije
elektrolita u blizini elektode-supstrata smanjuje zeta potencijal čestica i izaziva flokulaciju
čestica koje postaju nestabilne i formiraju depozit. Ovaj mehanizam je prihvatljiv kada se
elektrodnim reakcijama generišu OH- joni, na primer, suspenzije koje sadrže vodu.
Mehanizam, međutim, ne važi kada nema povećanja koncentracije elektrolita u blizini
elektrode.
24
2.5.4. Distorzija električnog dvojnog sloja i mehanizam istanjivanja
Široko prihvaćen mehanizam elektroforetskog taloženja koji je zasnovan na distorziji
električnog dvojnog sloja je predložen od strane Sarkara (Sarkar) i Nikolsona (Nicholson)
[1]. Kada se čestice kreću, zajedno sa njima kreću se i kontra joni iz tečnosti, raspoređeni oko
naelektrisanih čestica, koje čine difuzioni deo dvojnog sloja. Međutim, zbog kretanja čestica i
fluida i primenjenog električnog polja dolazi do poremećaja dvojnog električnog sloja na
takav način da postaje tanji napred, a širi iza čestice. Katjoni se takođe kreću ka katodi
zajedno sa pozitivno naelektrisanim česticama. Kontra joni u „repuˮ koji se formira usled
kretanja čestice interaguje sa ovim pratećim katjonima koji se nalaze u neposrednoj blizini i
čija je koncentacija visoka. Kao rezultat ove interakcije, dvostruki sloj oko repa će postati
tanji, tako da nadolazeće čestice (koje imaju istanjeni električni sloj sa prednje strane u
odnosu na smer kretanja) mogu prići dovoljno blizu pri čemu se ostvaruju Londonove i van
der Valsove veze i dolazi do koagulacije i deponovanja na površini elektode-supstrata.
Distorzija električnog dvojnog sloja koja vodi do koagulacije je prihvatljivo objašnjenje
obzirom na to da je visoka koncentracija u blizini elektorde. Najprihvatljiviji mehanizam
koagulacije čestica tokom elektroforetskog taloženja je prikazan na Slici 13 [1].
Slika 13. Distorzija elektičnog dvojnog sloja i mehanizam istanjivanja dvojnog sloja
25
2.5.5. Mehanizam lokalizacije pH
De (De) i Nikolson (Nicholson) su razvili model i teorijskim proračunima koristeći
fundamentalne karakteristike čestica, rastvarača i gustine pokazali da će se koncentracija H+
jona u blizini katode smanjivati zbog elektrohemijske reakcije na elektrodi, čime će se
menjati i lokalna pH vrednost u blizini elektrode. Ako proces prenosa naelektrisanja na
elektrode uključuje H+ jone, onda će njihova koncentracija na granici faza rastvor/elektroda
pasti ispod vrednosti u dubini tečnosti. Međutim, nema dovoljno eksperimentalnih podataka
kojima bi se potvrdio ovaj pristup, zbog teškoća u pouzdanom i reproduktivnom merenju
koncentracije jona (ili pH) u oblastima veoma blizu površini elektrode. Čim vrednost lokalne
pH u blizini katode (granica faza katoda/rastvor) dostigne vrednosti pH izoelektrične tačke
suspenzije, čestice će se spontano aglomerisati zbog jakih van der Valsovih privlačnih sila,
što dovodi do formiranja depozita na katodi.
2.5.6. Mehanizam elektroforetskog taloženja na poroznim neprovodnim
supstratima
Obično, jedan od preduslova za elektroforetsko taloženje je da podloga bude
električno provodljiva. Međutim, mogućnost formiranja depozita na neprovodnim podlogama
je atraktivna sa aspekta primene ovog procesa na razne materijale koji nemaju svojstvo da
provode električnu struju.
Razvijeno je nekoliko pristupa za nanošenje elektroforetskih prevlaka na površinu
neprovodnih materijala. Ovi pristupi uključuju termičke tretmane u redukcionoj atmosferi ili
nanošenje izvesnih provodnih prevlaka na neprovodni supstrat nekom drugom tehnikom, na
primer spaterovanje (raspršivanje) provodne prevlake kao što je platina, da bi se supstrat
učinio elektroprovodnim pre elektroforetskog taloženja [1].
Masuda (eng. Matsuda) i saradnici su koristili tanak sloj provodnog grafita koji je
nanešen na jednoj strani neprovodnog, poroznog supstrata, NiO-YSZ (itrijum oksidom
stabilozovana cirkonija), pre elektroforetskog taloženja.
YSZ je porozan materijal koji omogućava da električno polje deluje na površinu
nasuprot one na kojoj je nanešen grafit i koja je povezana sa izvorom jednosmerne struje.
Dakle, uspostavlja se „provodni putˮ između električnog kontakta i čestica u suspenziji za
datu vrednost primenjenog napona, pri čemu postoji prag poroznosti neprovodnog materijala
ispod kojeg elektroforetsko taloženje ne bi bilo moguće.
26
Slika 14. Površina (a) i poprečni presek SEM snimka YSZ filma (b) koji je deponovan
na NiO-YSZ supstratu, pri naponu od 100 V u trajanju od 3 min i sinterovan na 1400 °C
tokom 2 h
2.6. Industrijska primena procesa elektroforetskg taloženja
Nakon prve upotrebe elektroforeze za nanošenje torije na platinski supstrat 1933.
godine za dobijanje elektronskih cevi, elektroforetsko taloženje je uglavnom korišćeno za
procesiranje tradicionalnih keramičkih materijala. Industrijska primena se uglavnom bazirala
na nanošenje prevlaka glina na metalima u cilju zaštite od korozije, što se pokazalo kao
znatno bolji postupak od dip ili sprej postupka nanošenja prevlaka.
Međutim, poslednjih dvadeset godina interesovanje za elektroforetske procese je
značajno poraslo u industrijskim uslovima, naročito zbog mogućnosti manipulacije
nanomaterijalima i dobijanju struktura koje se nisu mogle dobiti ranije. Elektroforetsko
taloženje se posebno dobro pokazalo u nanošenju fosfora prilikom proizvodnje ekrana na bazi
katodnih cevi (CRT tehnologija).
Elektroforetskim postupkom se dobijaju razni laminarni keramički kompoziti na
metalnim supstratima, kao i kompoziti koji su ojačani vlaknima. Takođe, ovaj postupak se
pokazao korisnim u procesiranju superprovodnika kao što je YBCO i proizvodnji elektroda
za gorivne spregove. Međutim, danas elektroforetski postupak ima poseban značaj u
procesiranju nanomaterijala i biomaterijala. Nanošenje prevlaka elektroforezom je vrlo
zastupljeno u proizvodnji implantata od metala. Na primer, prevlaka hidroksiapatita
27
(Ca10(PO4)6(OH)2) i uopšte prevlake na bazi kalcijum fosfata se koriste za oblaganje
biomedicinskih implantata zbog svoje sličnosti sa koštanim tkivom i mogućnosti da formiraju
direktne hemijske veze sa okolnim tkivom nakon implantacije. Sintetički HAP, osim što se
čvrsto vezuje za koštanu strukturu, istovremeno pospešuje i formiranje ovog koštanog tkiva
na svojoj površini. Stoga, nanošenje HAP prevlake na metalni supstrat obezbeđuje potrebnu
bioaktivnost i biokompatibilnost implantata.
Za nanošenje bioaktivnih prevlaka na medicinske implantate dominantno se koristi
katoforetsko taloženje, jer se izbegava nekontrolisana oksidacija supstrata. Primenom ove
metode mogu se dobiti prevlake različite debljine (1-100 μm). Debljina i morfologija
prevlake se može kontrolisati regulisanjem parametara taloženja, tj. napona i vremena
taloženja. Kompoziti od biostakla i karbonskih nanocevi su još jedan primer gde
elektroforetsko taloženje ima značajnu primenu. Takođe, kompozitne Ag-TiO2 prevlake na
metalnim supstratima se uspešno dobijaju elektroforetskim taloženjem i pored
biokompatibilnog svojstva poseduju i antibakterijski efekat [1].
Elektroforetsko taloženje ima značajnu primenu i u oblasti konverzije solarne energije
i proizvodnje fotosenzitivnih pigmentnih ćelija, fotoanoda, superprovodnika, kompozitnih
prevlaka na bazi karbonskih nanotuba.
2.7. Hidrotermalna tehnologija - primena, definicija
Prema japanskom naučniku Seitaro Tsuboi-u, sam termin “hidrotermalno” potiče iz
geologije i prvi ga je uveo britanski geolog ser Roderik Marčison (Roderick Murchison) da bi
opisao dejstvo vode na povišenim temperaturama i pritiscima koje dovodi do promena u
zemljinoj kori i nastanka različitih stena i mineral. Da bi se razumelo nastajanje minerala u
prirodi u uslovima povišenog pritiska i temperature u vodi kao medijumu razvijena je
hidrotermalna tehnika. Prva uspešna komercijalna primena hidrotermalne tehnologije je
počela ekstrakcijom minerala i obogaćivanjem ruda u XIX veku.
Danas je hidrotermalni postupak našao mesto u nekoliko grana nauke i tehnologije,
što je dovelo do pojave niza tehnika koje iz njega proističu. Tako postoje sledeće tehnike:
hidrotermalna sinteza, hidrotermalni rast, hidrotermalna izmena, hidrotermalni tretman,
hidrotermalna dehidratacija, hidrotermalna ekstrakcija, hidrotermalno sinterovanje, i sve
ostale tehnike koje uključuju primenu vode na temperaturi većoj od 100°C i pritiscima većim
od atmosferskog u oblasti materijala, geologije, metalurgije, hemije, biologije. Uspeh
hidrotermalne tehnike se može pripisati brzom razvoju uređaja koji se koriste u
hidrotermalnim istraživajima i takođe, uključivanje velikog broja fiziko-hemičara, koji su
doprineli velikim delom razumevanju hidrotermalne hemije [3].
Uprkos činjenici da je hidrotermalna tehnika dostigla izuzetan napredak, ne postoji
saglasnost oko njene definicije. Termin hidrotermalno, uobičajeno se odnosi na bilo koju
28
heterogenu reakciju u prisustvu rastvarača ili mineralizatora pod visokim pritiskom i
temperaturom koji rastvara i rekristalizuje materijal koji je relativno nerastvoran pod običnim
uslovima.
Većina autora postavlja granice hidrotermalne sinteze iznad 100 °C i 1 atm. Međutim,
postoji ogroman broj publikcija koje se bave hidrotermalnom sintezom pod umerenim
uslovima, tako da su Bajrapa (Byrappa) i Jošimura (Yoshimura) [3] predložili definicju
hidrotermalne reakcije kao „bilo koje heterogene hemijske reakcije u prisustvu rastvarača
(bilo da je voda ili neki drugi) iznad sobne temperature i pritiscima višim od 1 atm u
zatvorenom sistemuˮ. Reaktanti koji se koriste u hidrotermalnoj sintezi se generalno nazivaju
prekursorima, što se odnosi na rastvore, gelove ili suspenzije.
Zahvaljujući specifičnim fizičkim svojstvima, posebno velikoj snazi rastvaranja,
visokoj kompresibilnosti i prenosa mase kod rastvarača na hidrotermalnim uslovima može se
očekivati pojava različitih tipova reakcija kao što su:
Stvaranje novih faza ili stabilizacija novih kompleksa.
Rast kristala nekih neorganskih jedinjenja.
Dobijanje fino usitnjenih materijala i mikrokristalita, sa dobro definisanom veličinom
i morfologijom, pogodnim za određene primene.
Luženje ruda prilikom dobijanja metala.
Razlaganje, korozija, promene, nagrizanje.
2.7.1. Mineralizatori
U bilo kojem hidrotermalnom sistemu ili rekacijama veoma je bitna uloga rastvarača
na određenim temperaturama i pritiscima. Voda je najbitniji rastvarač i široko se koristila kao
hidrotermalni mineralizator u većini ranijih eksperimenata. Međutim, neka jedinjenja nemaju
veliku rastvorljivost u vodi na superkritičnim temperaturama, tako da veličina kristala ili
minerala koji su dobijani u ranijim hidrotermalnim eksperimentima nije prelazila nekoliko
mikrona ili desetina mikrona, tako da su tada počela traganja za pogodnim mineralizatorima.
Različiti vodeni i nevodeni rastvori neorganskih i organskih supstanci su isprobani
radi pripremanja određenog jedinjenja. Pored ovih, mnogi drugi aditivi takođe neorganski i
organski, koriste se da bi poboljšali disperznost čestica ili za kontrolu morfologije kristala.
Znanja dobijena upotrebom nekoliko novih mineralizatora su pomogla u primeni
hidrotermalne tehnike kao efektivne za hemijske sinteze.
Ponašanje rastvarača pod hidrotermalnim uslovima zavisi od promene parametara kao
što su dielektrična konstanta, pH vrednost, viskoznost, koeficijent termičkog širenja, gustina i
drugi koji su funkcija temperature i pritiska [3].
29
2.7.2. Uređaji za hidrotermalno procesiranje
Procesiranje materijala u hidrotermalnim uslovima zahteva posudu pod koja je
otporna na visoko korozivne rastvarače na visokim temperaturama i pritiscima. Projektovanje
pogodnog hidrotermalnog uređaja ili tzv. autoklava (bombi - zatvorenih reaktora pod visokim
pritiskom) je najteži zadatak.
Idealni hidrotermalni autoklav treba da ima sledeće karakteristike:
Inertnost prema kiselinama, bazama i oksidacionim agensima
Lako sastavljanje i rastavljanje uređaja
Dovoljna dužina da bi se postigao željeni temperaturni gradijent
Dobro zatvaranje, bez bilo kakvog curenja u željenom opsegu temperatura i pritisaka
Dovoljno snažan da podnese visoke pritiske i temperature u eksperimentima na duže
periode bez oštećenja tako da nije potreban dodatan tretman ili obrada nakon svakog
eksperimenta.
Imajući u vidu navedene zahteve, autoklavi se izrađuju kao debeli cilindri od stakla,
kvarca ili legura visoke čvrstoće, kao što je nerđajući čelik serije 300 (austenični), gvožđe,
nikal, super legure na bazi kobalta, titanijum i njegove legure. Postoji mnogo vrsta dizajna
autoklava koji se koriste u hidrotermalnom procesiranju. Osnovne parametre koje treba
razmotriti su eksperimentalna temperatura i pritisak, otpor prema koroziji u opsegu pritisaka i
temperatura za određeni rastvarač ili hidrotermalni fluid. Ako se reakcija odvija u posudi,
otpornost prema koroziji je primarni faktor u izboru materijala za reaktor [3].
Uobičajeno korišćeni reaktori u procesiranju savremenih nanomaterijala su:
Autoklavi opšte upotrebe
Šaržni reaktori
Protočni reaktori
Mikrotalasni hidrotermalni reaktori
Reaktori sa mešanjem
Tatlovi (Tuttle) autoklavi sa konusnim zatvaranjem
Slika 15. Autoklav opšte namene za hidrotermalni tretman i sinteze
30
U većini nabrojanih autoklava pritisak se može neposredno meriti korišćenjem
Burdonovog merača vezanog za autoklave. Hidrotermalni reaktori se mogu koristiti za
različite aplikacije kao što je sinteza materijala, rast kristala, proučavanje ravnoteže faza,
hidrotermalnu izmenu, redukciju, stabilizaciju strukture i tako dalje.
Postoji nekoliko novih dizajna reaktora koji su komercijalno dostupni, poznati kao
reaktori sa mešanjem. Na Slici 16. su prikazani reaktori sa mešanjem koji su komercijalno
dostupni.
Slika 16. Komercijalno dostupni reaktori sa mešanjem
Ovi reaktori imaju specijalne mogućnosti kao što je izvlačenje sadržaja iz reaktora
koji se kontinualno meša različitim brzinama, fluid može biti izvučen dok teče hidrotermalni
eksperiment i takođe se može uvesti željeni gas u reaktore. Sa ovakvim mogućnostima lako
se može izvlačiti fluid s vremena na vreme u cilju ispitivanja različitim analitičkim tehnikama
tako da se mogu odrediti intermedijarne faze, čime se može omogućiti razumevanje
mehanizma hidrotermalnih reakcija prilikom pripreme određenih materijala.
Pored ovih postoji i nekoliko uređaja koji se široko koriste za procesiranje materijala
na hidrotermalnim uslovima sa dodatom mikrotalasnom, mehaničkom, elektrohemijskom i
ultrazvučnom energijom, vibrirajući autoklavi, i veliki broj drugih koji doprinose kinetici
hidrotermalnih reakcija. Takođe se koriste i protočni hidrotermalni uređaji različitih
konstukcija.
Bez obzira na to koji se tip reaktora koristi, najbitnija je bezbednost i održavanje.
Procenjeno je da posuda od 100 cm3 pod pritiskom do oko 138 MPa sadrži energiju od oko 20
kJ. Hidrotermalni rastvor bio on kiseo ili alkalan na visokim temperaturama je štetan za ljude
ako reaktor eksplodira. Zato posude treba da imaju diskove koji su kalibrisani tako da dođe
do njihovog loma ukoliko poraste pritisak iznad dozvoljenog. Ovi diskovi su komercijalno
dostupni za različite pritiske pucanja. Najbitnije je u slučajevima prskanja diska da prostorija
bude provetravana tako da se isparenja izbacuju napolje. Takođe je bitan i pogodan štit da bi
se zaštitile osobe koje rade u blizini od korozivnih isparenja [3].
31
2.8. Biomaterijali
Biomaterijali su materijali koji su napravljeni da reaguju sa biološkim sistemima.
Primenjuju se u medicinske svrhe, ili terapeutski (lečenje, pojačavanje, popravljanje ili
zamena funkcija tkiva u telu) ili za dijagnostiku. Treba napraviti razliku između biomaterijala
i biološkog materijala; biološki materijal (na primer kost) nastaje u biološkom sistemu, dok
biomaterijali nastaju u laboratoriji kao rezultat primene savremenih tehnoloških procesa i
angažovanja tima visoko-stručnih ljudi iz različitih naučnih oblasti. Takođe, prilikom
definisanja biomaterijala treba voditi računa o biokompatibilnosti istog jer je primena
specifična. Biomaterijal koji je biokompatibilan ili pogodan za jednu primenu možda neće
biti biokompatibilan za neku drugu primenu. Biokomatibilnost predstavlja sposobnost
materijala da daje odgovor sa odgovarajućim domaćinom u specifičnim situacijama.
Istorija biomaterijala:
1° generacija materijala: zasniva se na zameni tkiva illi zameni funkcije sa što
moguće manjom interakcijom sa okolnim tkivom. Ovi materijali su otporni na
koroziju i poseduju inertnost kada su u kontaktu sa okolnim tkivom.
Metali: SS (nerđajući čelik), Ti, Co-Cr;
Polimeri: UHMWPE (polietilen ultra-visoke molekulske težine), PMMA
(polimetil-metakrilat), PDMS (polidimetil-siloksan);
Keramike: Al2O3
2° generacija materijala: materijali koji su bioaktivni i stimulišu popravku ili rast
tkiva.
Metali: porozni materijali;
Polimeri: biorazgradivi;
Keramike: bioaktivno staklo, hidroksiapatit
3° generacija materijala: inženjerstvo tkiva
Regenerativni biomaterijali u kombinaciji sa živim ćelijama, biološki aktivni
materijali, transformacija i formiranje novih tkiva.
2.9. Tipovi biomaterijala
2.9.1. Metali
Kroz istoriju, metali su imali fundamentalnu ulogu u razvoju tehnologije. Postavlja se
pitanje zašto su metali uspešni kao implanti? Odgovor na ovo pitanje leži u hemijskoj
strukturi metala i načinu na koji oni grade veze. Metali se mogu posmatrati kao pozitivno
naelektrisano jon jezgro koje je okruženo „oblakomˮ slabo vezanih elektrona. Zbog slabih
veza, elektroni se mogu slobodno kretati, dok jon jezgro gradi kubnu ili heksagonalnu
strukturu. Nagrađena kristalna struktura određuje mehaničke osobine metala ili određuje kako
32
će metal reagovati na primenjenu silu. Jake veze sa susednim atomima metalu daju snagu,
dok sposobnost deformacije bez lomljenja daje metalu duktilnost. Metali se koriste kao
različiti implantati u telu. Na primer, platina se efikasno pokazala kao elektroda u ugrađenim
srčanim pejsmejkerima. Takođe, metali se primenjuju u ortopediji da stabilizuju prelome ili
zamene oštećene zglobove. Ovakve vrste primene metala su moguće zahvaljujući tome što
metali imaju visoku zateznu čvrstoću i dobru otpornost na zamor materijala u odnosu na
keramiku i staklo [4].
2.9.2. Keramika
Drugi tip materijala koji se koristi kao biomaterijal je keramika. Korišćenje keramike
ima dugu istoriju, počevši od ranog razvoja grnčarije jos pre hiljadu godina. Keramika je
neorgansko, nemetalno jedinjenje koje se formira između metalnih i nemetalnih elemenata
obrazujući kristalnu strukturu, izuzev stakla koje je amorfne strukture. Jake veze određuju
mehaničke karakteristike. Kada dođe do raskidanja ovih jakih veza u strukturi keramike,
dolazi i do katastrofalnog pucanja materijala. Jednom rečju, keramika je veoma krta. Bez
obzira na ovo, poseduje i druge karakteristike koje je čine korisnom za medicinsku primenu.
Keramika je biokompatibilna, bioinertna, biorazgardiva. Bioinertna keramika teži ka tome da
bude što otpornija na koroziju. Poznato je da se mnogi metali uključujući nerđajući čelik,
legure titanijuma, kobalt-hrom legure, štite od korozije prevlačenjem sloja keramike na
njihovoj površini [4].
2.9.3. Polimeri
Polimeri su molekuli koji se sastoje od velikog broja malih jedinica (monomera) koje
se ponavljaju gradeći duge lance. Širok spektar polimera uključuje neke prirodne materijale,
kao što su celuloza, skrob i dezoksiribonukleinska kiselina (DNK) kao genetski materijal koji
je prisutan u svim živim bićima. Iako su ovi polimeri nesumnjivo interesantni i imaju
mnogobrojnu primenu, ponekad se nađu u senci sintetičkih polimera koji su dostupni danas.
Zadatak biomedicinskog inženjerstva je da odabere biomaterijale sa najsličnijim
karaktersitikama koje su potrebne za posebne primene.
Polimeri mogu biti amorfni ili semikristalni, a nikada ne mogu biti potpuno kristalni
zbog postojanja defekata u rešetki koja formira nestabilni amorfni region. Tendencija
polimera da kristališe se povećava uvođenjem malih grupa u bočnim lanicma. Prisustvo
kristalita u strukturi polimera poboljšava mehanička svojstva, jedinstveno termalno ponašanje
i povećanje zamora. Ove osobine čine semikristalne polimere poželjne za medicinsku
primenu [6].
33
2.10. Mg-silikat i klinoenstatit kao biomaterijali
Mg-silikatni minerali su postali veoma značajni u istraživanju i sintezi biomaterijala
zbog osobina koje poseduju. Osobine, odnosno svojstva biokeramike koja sadrži Mg-silikate,
koje omogućuju primenu u biomedicini jesu mehaničke osobine, bioaktivnost i
biokompatibilnost. Ovi materijali su obećavajući kandidati za primenu u regeneraciji tkiva
kosti i lečenju oštećenja kostiju.
Klinoenstatit, čija je molekulska formula MgSiO3, je biokeramički materijal koji
sadrži Mg i Si. Odlikuju ga tri glavna svojstva koja ga čine idealnim materijalom za prevlake,
i to: visoka snaga vezivanja, otpuštanje funkcionalnih jona i povoljan osteoimunomodularni
efekat. Magnezijum ima suštinsku ulogu u metabolizmu kostiju i njegov utrošak može
negativno uticati na sve faze skeletnog metabolizma [7]. Istraživanja su pokazala da
dvovalentni katjoni (npr. Mg2+) imaju ključnu ulogu u remodeliranju kostiju i razvoju skeleta.
Zbog svoje fundamentalne uloge u ćelijskim procesima i ljudskom metabolizmu, magnezijum
ima veliki značaj za primenu u biomedicine. S druge strane, silicijum je element koji se
nalazi u tragovima i bitan je za razvoj kostiju jer se smatra da ima direktan uticaj na promet
kolagena, koji je nazastupljeniji protein u kostima [7]. Studije su pokazale da oslobađanjem
jonskih proizvoda iz biomaterijala koji sadrži silicijum, se pojačava proliferacija i
diferencijacija osteoblastnih ćelija [7]. Sve to ukazuje da magnezijum i silicijum imaju
osteoimunomodulatorni efekat koji favorizuje osteogenezu.
2.11. Metode karakterizacije
Karakterizacija, kontrola i analiza različitih materijala (metala, keramike,
poluprovodnika, polimera i dr.) danas se ne može zamisliti bez poznavanja njihove
mikrostrukture i mikrostrukturnih konstituenata. Zbog toga su tehnike i metode za analizu
mikrostrukturnih karakteristika materijala od izuzetnog značaja. U takvim istraživanjima
naročito su koriste metode elektronske mikroskopije, od kojih se najviše izdvaja skenirajuća
elektronska mikroskopija (SEM), a koriste se i difrakcione metode radi utvrđivanja
strukturnih svojstava materijala.
2.11.1. Skenirajuća elektronska mikroskopija
Skenirajuća elektronska mikroskopija (SEM) je jedna od najviše korišćenih metoda u
karakterizaciji površine materijala. SEM uređaji rade na uvećanjima od 10 do preko 500 000.
Skenirajući elektronski mikroskop (Slika 17.) ima mogućnost analize vrlo sitnih, finih detalja
u strukturi materijala. Na taj način se može ustanoviti identitet prisutnih faza, njihova
orijentacija, nehomogenost i defekti strukture materijala [8]. Kod skenirajuće elektronske
mikroskopije (SEM) osnovne informacije su morfološke, a takođe se mogu dobiti informacije
o elementarnom hemijskom sastavu EDS analizom. EDS analiza – zasniva se na
karakterističnim eksitacijama talasnih dužina elemenata koji se nalaze unutar datog uzorka).
34
SEM pruža značajne prednosti u odnosu na konvencionalne tehnike i karakteriše ga relativno
laka i brza priprema uzorka i obrada podataka.
Slika 17. SEM mikroskop
Za posmatranje provodnih uzoraka skenirajućom elektronskom mikroskopijom,
potrebna je jednostavna priprema. Pri tome je neophodno samo izbeći kontaminaciju uzorka
ugljovodonicima, jer oni mogu izazvati štetne efekte na proces sekundarne emisije elektrona.
Takođe, iz uzorka je neophodno ukloniti vodu kako bi se sprečilo njeno isparavanje u komori
pod vakuumom.
Nešto složeniju pripremu zahtevaju neprovodni uzorci, jer pri bombardovanju
površine primarnim snopom elektrona dolazi do akumulacije elektrisanja u ovom sloju. Zbog
toga se zahteva posebna priprema ovih uzoraka. Priprema se sastoji u prekrivanju površine
neprovodnog uzorka tankim slojem metala (obično zlatom debljine sloja 10 nm), čime se
eliminiše pojava akumulacije negativnog naelektrisanja na površini uzorka.
Čvrsti uzorci se oblikuju u cilindar prečnika 2,5 cm i debljine 1-2 cm, a ponekad uz
prethodno zatapanje u lako polimerizujuću smolu. Površina uzorka koja je izložena
primarnim elektronima mora biti ravna i glatka. Sa druge strane, priprema uzoraka organskog
i biološkog porekla zahteva posebnu tehniku (npr. zamrzavanje, frakturiranje i dr.).
Prilikom SEM analize uzorak se skenira fokusiranim snopom visokoenergijskih
elektrona, pri čemu bombardovanje površine uzorka snopom elektrona dovodi do pojave
sekundarne emisije. Deo te sekundarne emisije je posledica neelastičnog rasejavanja
primarnih (upadnih) elektrona na slabo vezanim, spoljašnjim elektronima atoma uzorka.
Sekundarno emitovani elektroni se potom detektuju, a signali iz detektora, nakon pojačanja,
služe za kontrolisanje osvetljenja ekrana.
35
Gotovo svi sekundarni elektroni potiču sa površinskih slojeva uzorka s obzirom da
verovatnoća njihovog napuštanja uzorka opada eksponencijalno sa povećanjem rastojanja od
mesta njihovog nastanka do površine. Zbog toga se SEM metoda koristi za ispitivanje
površine pri čemu debljina uzorka nije bitan parametar.
Svi SEM uređaji se sastoje iz: elektronske kolone, koja stvara elektronski snop,
komore za smeštaj uzorka, detektora, koji beleži varijabilnost signala interakcije uzorka i
elektrona i sistema za gledanje, koji pretvara signale u vidljivu sliku.
Komora elektronskog topa, koji generiše elektrone, nalazi se na vrhu elektronske
kolone. U njoj se elektrostatičkim poljem elektroni usmeravaju nakon emisije sa elektrode.
Nakon toga, elektronski top usmerava kretanje elektrona duž komore ka uzorku sa
energijama reda nekoliko stotina do nekoliko desetina hiljada volti. Postoje različiti tipovi
elektronskih topova, ali je za sve njih zajedničko da generišu usmeren i stabilan snop
elektrona. Elektroni se iz topa emituju u vidu divergentnog snopa, a za njegovo fokusiranje
primenjuje se skup magnetnih sočiva i otvora unutar same kolone.
Blizu samog dna kolone postavljen je set skenirajućih elektromagneta pomoću kojih
se elektronski snop fokusira ka zadnjim sočivima, a ona konačno omogućavaju pozicioniranje
snopa u što manju tačku na površini uzorka. Kada snop elektrona padne na površinu uzorka u
komori za uzorak, u interakciji elektrona i atoma uzorka dolazi do predaje energije. Ta
energija se zatim ponovo emituje iz uzorka na nekoliko načina, a svaka emisija predstavlja
potencijalni signal za detektor, koji iz njih kreiraju odgovarajuću sliku.
2.11.2. Digitalni mikroskop (Motic D-EL1)
Digitalni mikroskop je mali, ručni mikroskop koji ima kameru 1,3 MP. Preko USB
konekcije se direktno povezuje na računar, poseduje „Motic” softver čime je omogućena
izrada slika u različitim rezolucijama. Osnovna rezolucija je 1280x1024 pixel-a sa
uvećanjima od 10x do 200x i vidnim poljem od 6mm. Mikroskop poseduje LED osvetljenje
koje omogućava dobru vidljivost i natamnijih delova površine koja se posmatra.
Slika 18. Digitalni mikroskop
36
2.11.3. Difrakcija rendgenskih zraka (XRD)
Ubrzo nakon Rendgenovog otkrića X zraka 1895.godine, došlo je do razvoja
analitičkih tehnika koje se zasnivaju na interakciji materije i rendgenskog zračenja. Najčešće
korišćene analitičke tehnike jesu radiografija, kristalografija i fluorescentna spektrometrija.
Razvoj kristalografije je počeo otkrićem da se kristali ponašaju kao trodimenzionalna rešetka
na kojoj dolazi do difrakcije X zraka usled sličnih dimenzija talasne dužine zračenja i
rastojanja između kristalnih ravni u rešetki. Do difrakcije dolazi usled konstruktivne
interferencije monohromatskog rendgenskog zračenja reflektovanog sa kristalnih ravni
uzorka, koja daje difraktovano zračenje kada je zadovoljen uslov određen Bragovim (William
Lawrence Bragg) zakonom:
nλ = 2d sinθ (10)
Zakon daje vezu između talasne dužine upadnog zračenja, ugla na kome se javlja
difrakcija i međuravanskog rastojanja. Detektovanjem difrakcionog zračenja u određenom
opsegu ugla 2θ sa određenim korakom i ekspozicijom dobijaju se sve moguće refleksije
zračenja sa kristalne rešetke.
Rendgenska analiza je metoda za identifikaciju minerala i mineraloškog sastava
materijala i ona može biti i kvalitativna i kvantitativna. Pored toga, može se odrediti vrste
kristalne rešetke, prisustvo pojedinih faza u sistemu, deformacija kristalne rešetke, veličine
kristala itd.
Svako kristalno jedinjenje ima karakteristične položaje refleksija na osnovu kojih se
može izvršiti identifikacija iz podataka dobijenih merenjem. Ne postoji mogućnost da više
supstanci imaju u potpunosti isti difraktogram. Upoređivanjem difrakcione slike ispitivanog
materijla sa katalogom snimljenih uzoraka (ASTM kartice) vrši se identifikacija nepoznatih
materijala. Kod analize mešavina nekoliko kristalnih supstanci dobija se složeni difraktogram
i njegova analiza je kompleksnija, ali identifikacija se izvodi na isti način [8].
Metoda difrakcije se koristi za:
Identifikaciju monofaznih kristalnih jedinjenja i višefaznih smeša, identifikaciju
keramičkih materijala
Određivanje kristalne strukture identifikovanih materijala
Određivanje stepena kristalnosti u delimično amorfnim materijalima
Kristalografsku analizu strukture i proračun parametara jedinične ćelije
Kvantitativno određivanje prisutnih faza na osnovu odnosa intenziteta pikova
Određivanje veličine kristalita na osnovu širenja pikova
Određivanje oblika kristalita proučavanjem simetrije pikova
Analiza faznih transformacija i proračun termičkog širenja u kristalnoj strukturi
korišćenjem temperaturskih komora za in situ analizu
37
Metoda ima i prednosti i nedostatke. Prednosti metode su pouzdana i brza
identifikacija materijala, u većini slučajeva pouzdana identifikacija, jednostavna priprema
uzorka, dostupnost uređaja i relativno neposredna interpretacija podataka. Ograničenja
metode su takva da je za najpouzdaniju identifikaciju prisutnih faza potrebno da je uzorak
homogen ili jednofazan, zatim potreban je pristup kristalografskim bazama podataka sa
referentnim standardnim fajlovima za neorganska jedinjenja, potrebne su količine materijala
za analizu reda veličine desetine grama, za smeše materijala granica detekcije je oko 2%
uzraka, određivanje parametara jedinične ćelije i indeksiranje refleksija kod neizomerijskih
kristalnih sistema je komplikovanije, zatim može doći do preklapanja pikova koje se uvećava
kod refleksija na većim uglovima zbog širenja pikova [3].
U ovom master radu na sintetisanim uzorcima su urađena difrakciona merenja na
sobnoj temperaturi difraktometrom Simens D500 gde je korišćeno zračenje Cu-Kα1,2
(λ=1.54178 Å).
Slika 19. Difraktometar
39
3.1. Metodološki pristup eksperimentalnoj proceduri
Glavni predmetni problem i cilj u ovom master radu je sinteza biokompatibilnog Mg-
silikatnog materijala i nalaženje optimalnih parametara za njegovu elektroforetsku depoziciju
na supstrat od nerđajućeg čelika (tip 304), u cilju ostvarivanja njegove biokompatibilnosti.
Neophodni uslovi koje je potrebno obezbediti radi uspešnog ostvarivanja postavljenih ciljeva
i odvijanja elektroforetskog taloženja su: i) stabilan sol/suspenzija, u kojoj čestice imaju
visoku vrednost zeta potencijala; ii) jonsku provodljivost suspenzije potrebno odražavati na
niskoj vrednosti. Dodatno, važan parametar za dobijanje homogene prevlake je i veličina
čestica Mg-silikata, koje nemaju veliku tendenciju aglomerisanja u suspenziji. Kako bi se
dobio sitnozrni materijal na bazi amorfnog Mg-silikata, korišćen je postupak hidrotermalne
sinteze. Stabilizacija suspenzije je postignuta elektrostatičkim mehanizmom stabilizacije.
Dakle, cilj rada je da se dobije stabilna suspenzija Mg-silikatng materijala u
odgovarajućem rastvaraču iz koje može da se dobije glatka i uniformna prevlaka. Za tu svrhu,
potrebno je izabrati pogodu tečnu fazu kao disperzno sredstvo i odgovarajuće aditive, među
kojima su najvažniji disperzanti. Takođe, ustanovljene su optimalne vrednosti napona i
vremena trajanja elektroforetske depozicije za dobijanje prevlake željene debljine i
morfologije. Nakon kalcinacije prevlake na 900 °C očekuje se formiranje kristalne faze
klinoenstatita, kao konačnog biokomatibilnog materijala na površini čelika. Proces
kalcinacije se mora voditi u takvom temeraturnom režimu da se dobije prevlaka glatke
morfologije koja dobro prijanja za površinu supstrata.
Debljina prevlake je određena optičkom mikroskopijom, a kristalna struktura
rendgenostrukturnom analizom (XRD). Biokompatibilnost prevlake je testirana u simuliranoj
telesnoj tečnosti.
3.2. Pribor, hemikalije i instrumenti
Čaše
Erlenmajer sa šlifovanim zatvaračem
Sahatno staklo
Menzura
Plastične posude za čuvanje uzorka
Ahatni avan
Katoda od čeličnog lima (tip 304)
Anoda od Ti
Mg(NO3)2 ∙ 6H2O
Na2SiO3 ∙ 5H2O
dejonizovana voda
Izopropanol
Aceton
40
0.5 M rastvor oksalne kiseline
Mg-silikat
Simulirana telesna tečnost (SBF rastvor)
Sito 150 meša
Ahatni avan
Bihnerov levak
Magnetna mešalica
Analitička vaga
Kadica za elektroforezu
Ultrazvučno kupatilo
Autoklav
Sušnica
Peć za kalcinaciju
Digitalni mikroskop Motic D-EL1
Skenirajući elektronski mikroskop JEOL JSM-6610LV
Difraktometar Siemens D500
3.3. Sinteza materijala
Za sintezu Mg-silikata su korišćene soli Mg(NO3)2 ∙ 6H2O i Na2SiO3 ∙ 5H2O u
molskom odnosu 1:1. Izmerene su potrebne mase, nakon čega su i jedna i druga supstanca
rastvorene u 35 ml dejonizovane vode. Dodavanjem rastvora Na-metasilikata u rastvor Mg-
nitrata uz intenzivno mešanje na magnetnoj mešalici tokom 30 min dobijena je bela
suspenzija. Tako dobijena mlečno-bela suspenzija je prebačena u autoklav od nerđajućeg
čelika, koji je zagrevan u peći 8 h na 200 °C, pod autogenim pritiskom od 19 bara, bez
mešanja. Na kraju tretmana, autoklav je postepeno ohlađen do sobne temperature. Formirana
čvrsta faza je filtrirana kroz Bihnerov levak na vakuumu i ispirana dejonizovanom vodom, a
zatim ostavljena da se suši 3 h na 120 °C. Nakon sušenja izvršeno je usitnajvanje materijala u
ahatnom avanu i prosejavanje kroz sito 150 meša (otvor sita 105 µm). Ovako dobijen
materijal je korišćen za elektroforetsko deponovanje na provodnoj podlozi od nerđajućeg
čelika.
3.4. Elektroforetsko taloženje materijala
3.4.1. Priprema suspenzije
Nakon velikog broja probnih eksperimenata, kao disperzni medijum je izabran
izopropanol koji sadrži 1 % vode, a kao dodatak (aditiv) za elektrostatičku stabilizaciju
suspenzije Mg-nitrat. Aditiv za stabilizaciju je dodat u izopropanol koji sadrži 1 % vode i
vršeno je mešanje na magnetnoj mešalici 15 min u cilju potpunog rastvaranja i dobijanja
homegenog rastvora. Nakon toga je izmerena potrebna masa prethodno usitnjenog Mg-
41
silikata (> 105 μm) i dadata u pripremljen rastvor. Dobijena suspenzija je prenešena u
erlenmajer sa šlifovanim zapušačem i ostavljena tokom 30 min. u ultrazvučnom kupatilu,
kako bi se dobio što finije dispergovani sistem. Provodljivost suspenzije na temperaturi od
25.2 °C je iznosila 11.42 μS/cm.
3.4.2. Priprema supstrata za EFD
Kao radna elektroda je korišćena pločica od nerđajućeg čelika (tip 304), čija je
dimenzija 78x25x0.4 mm, a kao kontra elektroda je koršćena pločica istih dimenzija od Ti.
Radna elektorda je predstavljala suspstrat na kome su deponovane Mg-silikatne nanočestice i
ona je zajedno sa kontra elektrodom stavljena u ćeliji za elektroforezu. Pre izvođenja
eksperimenta, elektode su mehanički polirane i isprane dejonizovanom vodom i etanolom.
Nakon toga je izvršeno elektrohemijsko nagrizanje u 0.5 M rastvoru oksalne kiseline u
trajanju od 15 min, koristeći konstantu struju jačine 0.5 A.
3.4.3. Uticaj različitih parametara EFD procesa
Uticaj napona
Potrebna zapremina pripremljene suspenzije Mg-silikata je prebačena u kadicu
(ćeliju) za elektroforezu i uronjene su elektrode do visine od 38 mm. Radna elektroda je
koršćena kao katoda, a kontra elektroda kao anoda. Elektode su povezane sa izvorom
napajanja preko klema. Elektroforetska depozicija je izvođena pri konstantnom naponu
jednosmerne struje od 10 V, 20 V i 30 V, dok je vreme trajanja procesa 5 min. Jačina struje je
u svim eksperimentima iznosila 0.01 A, a rastojanje između elektroda 0.7 cm. Za nanošenje
prevlake na naponima jačine 10 V i 20 V, korišćena je ista suspenzija, zbog veoma male
mase koja se iscrpljuje iz rastvora, pa se može smatrati da je koncentracija suspenzije
konstantna, dok je za napon jačine 30 V korišćena sveže pripremljena suspenzija. Između
svakog narednog nanošenja suspenzija je bila podvrgavana ultrazvučnom tretmanu u trajanju
od 3 min u cilju dobijanja što uniformnije prevlake na supstratu od nerđajućeg čelika.
Dobijane prevlake na supstratu su sušene na sobnoj temparaturi, a njihova masa je dobijena iz
razlike masa čelične pločice posle i pre elektroforetske depozicije.
Kinetika elektroforetskog taloženja Mg-silikatnih prevlaka na konstantnom naponu
U daljem eksperimentalnom radu, suspenzija Mg-silikata je pripremljena na
prethodno opisan način, ali su menjano vreme kao parametar procesa elektroforetske
depozicije. Nanošenje prevlake na supstratu od nerđajućeg čelika je izvođeno pri
konstantnom naponu od 30 V na svaki 1 minut ukupno 5 puta, a između svakog EFD ciklusa
suspenzija Mg-silikata je mešana upotrebom ultrazvučnog kupatila u trajanju od 5 min. Masa
deponovane Mg-silikatne prevlake na supstratu je dobijena iz razlike masa posle i pre
elektroforetske depozicije, a na kraju deponovana prevlaka na nerđajućem čeliku termički
tretirana 2 h na 900 °C u inertnoj atmosferi azota.
42
Uticaj broja EFD ciklusa
Uticaj broja EFD ciklusa na masu deponovanog materijala je ispitivan pri
konstantnom naponu od 30 V, konstantnom rastojanju između elektroda i vremenu trajanja
procesa od 5 min. Proces elektroforetske depozicije je sukcesivno ponavljan 3 puta, pri čemu
je između svakog EFD ciklusa suspenzija podvrgavana ultrazvučnom tretmanu u trajanju od
5 min. Na kraju, deponovana prevlaka na nerđajućem čeliku je termički tretirana
(kalcinisana) 2 h na 900 °C u inertnoj atmosferi azota. Brzina zagrevanja je 7.5 °C/min. Kao
rezultat kalcinacije se formira kristalna faza klinoenstatita, kao konačnog biokomatibilnog
materijala na površini nerđajućeg čelika.
Uticaj rastojanja između elektroda
Naredni ispitivani parametar elektroforetske depozicije je promena rastojanja izmedju
katode i anode, dok su jačina napona i vreme trajanja procesa konstantni i iznose 30 V i 5
min. Proces je vršen na tri različita rastojanja između elektroda: 2.5 cm, 1.8 cm i 1.1 cm.
Priprema suspenzije Mg-silikata, kao i proces koji sledi nakon elektroforetskog nanošenja
prevlake na supstratu je vršen na isti, prethodno opisan način.
3.5. Karakterizacija materijala
Mikrostruktura kalcinisane prevlake na nerđajućem čeliku kao supstratu je ispitivana
pomoću digitalnog mikroskopa Motic D-EL1. Prevlake i prahovi su analizirani difrakcijom
zraka koristeći Simens D500 difraktometar. Mikrostrukturna karakterizacija uzorka je
izvršena skenirajućom elektronskom mikroskopijom, pri čemu je korišćen elektronski
mikroskop JEOL JSM-6610LV.
3.6. Ispitivanje biokompatibilnosti
Simulirana telesna tečnost (Simulated body fluid - SBF) je rastvor koji sadrži jone sa
istim ili približno istim koncentarcijama kao što su koncentracije tih jona u ljudskoj krvnoj
plazmi, čuva se pod blagim uslovima pH i na identičnoj fiziološkoj temperaturi. Kokubo
(eng. Kokubo) i saradnici su prvi izveli eksperiment sa SBF rastvorom u cilju ispitivanja
promena na površini bioaktivne staklene keramike. Da bi se veštački materijal vezao za živu
kost, od veoma velike važnosti je formiranje sloja apatita na površini implantanta. SBF
rastvor se može koristiti za in vitro testiranje kako bi se predvidela bioaktivnost implantata sa
kostima in vivo. Potrošnja jona kalcijuma i fosfora, koji su prisutni u SBF rastvoru, je rezultat
formiranja apatitnih jedara nalik kostima, na površini biomaterijala in vitro. Dakle, formiranje
apatita i kristalnih fosfatnih faza na površini biomaterijala, koji je natopljen u SBF rastvoru,
je pokazatelj u kojoj meri material interaguje sa okolinom kada se nađe u organizmu
[9,10,11].
43
Tabela 3. Koncentracije jona u SBF rastvoru i ljudskoj krvnoj plazmi (mmol/dm3)
Jon
SBF rastvor Ljudska krvna plazma
Na+ 142.0 142.0
K+ 5.0 5.0
Mg2+ 1.5 1.5
Ca2+ 2.5 2.5
Cl- 147.8 103.0
HCO3- 4.2 27.0
HPO42- 1.0 1.0
SO42- 0.5 0.5
Temperatura SBF rastvora mora biti 36,5 - 37 °C, a pH između 7.25 i 7.40. Vrednost
pH se podešava koristeći 50 mmol/dm3 TRIS (trihidroksi-metil-aminometan) i 45 mmol/dm3
HCl. Kada sposobnost formiranja apatita nije mnogo visoka, onda pH vrednost može iznositi
7.40.
Priprema SBF rastvora
Tabela 4. Reagensi za pripremu SBF
Reagens Iznos
1 NaCl 0.7996 g
2 NaHCO3 0.035 g
3 KCl 0.024 g
4 K2HPO4 0.0174 g
5 MgCl2·6H2O 0.0305 g
6 HCl 40 ml
7 CaCl2 0.0278 g
8 Na2SO4 0.0071 g
9 (CH2OH)3CNH2 0.6057 g
10 HCl Odgovarajući iznos za
podešavanje pH
44
Najpre oprati sve boce i posude rastvorom razblažene hlorovodonične kiseline,
sterilizacionim agensom i ultra čistom vodom, ovim redom. Boce ne moraju biti potpuno
suve. Nakon toga sipati 75 ml ultra čiste vode u boci (idealna je polietilenska boca) i vršiti
mešanje i zagrevanje do temperature od 37 °C na mešalici sa grejačem. Dodavati reagense
redom kao što su dati u Tabeli 4, sve do devetog reagensa. Deveti reagens dodavati malo po
malo da bi se izbeglo lokalno povećanje pH rastvora. Pre dodavanja nove količine reagensa,
potrebno je da se prethodno dodata količina dobro rastvori kako ne bi došlo do pojave taloga.
Zbog toga je pre svakog dodavanja reagenasa rastvor mešan 3 min i konstantno zagrevan na
temperaturi 36,5 – 37 °C. Posle dodavanja svih reagenasa potrebno je izmeriti pH i
temperaturu rastvora. Kao što je već navedeno, temperatura rastvora mora biti 36.5 - 37 °C i
na toj temperaturi se meri vrednost pH metrom. Na 37 °C pH otprilike iznosi 7.5,
dodavanjem rastvora hlorovodonične kiseline pH se podešava na vrednost između 7.25 i
7.40. Pripremljen rastvor prebaciti u staklenu bocu i mućkati, a nakon toga rastvor opet vratiti
u polietilensku ili polistirensku bocu.
Slika 20. Priprema SBF rastvora
Potrebno je izvršiti proveru pripremljenog rastvora. Mala zapremina SBF rastvora se
sipa u polistirenskoj boci i stavi u inkubator na 37 °C. Posle 2-3 dana se proverava da li se u
rastvoru stvorio talog ili ne. Ukoliko se stvori talog, rastvor se ne sme koristiti za dalje
eksperimente. Takođe, treba imati u vidu da je stabilnost rastvora konstantna 30 dana, nakon
čega rastvor nije više u upotrebi usled destabilizacije. Uspešno pripremljen i proveren SBF
rastvor je korišćen u daljem eksperimentu. Izmerena masa od 0,5 g sintetisanog
klinoenstatita, koji je u obliku belog praha, dodata je u 50 ml SBF rastvor i ostavljena u
inkubatoru 7 dana na 37 °C.
46
4.1. Uticaj parametara na masu deponovanog Mg-silikata
Optimalni parametri koji se odnose na suspenziju (dielektrična konstanta, zeta
potencijal, veličina čestica, provodljivost itd.) su postignuti korišćenjem izopropanola koji
sadrži 1% vode, koji je predstavljao disperzni medijum, a Mg2+ je korišćen kao aditiv za
elektrostatičku stabilizaciju. Promena mase deponovanog Mg-silikata na površini supstrata u
funkciji primenjenog napona tokom procesa elektroforetske depozicije je prikazana na Slici
21. Kao što se može videti na datoj slici, masa deponovanog Mg-silikata se povećava sa
povećanjem primenjenog napona.
Slika 21. Masa deponovanog Mg-silikata na površini supstrata od nerđajućeg čelika u
funkciji od primenjenog napona
Brzina migracije koju čestice mogu postići je linearno zavsina od primenjenog električnog
polja, odnosno napona. Ta zavisnost je data sledećim izrazom:
(11)
gde je E jačina primenjenog električnog polja, η je viskoznost suspenzije, r je poluprečnik
čestice, a z je naelektrisanje čestice.
47
Kada se čestice dovoljno približe katodi, dolazi do koagulacije/taloženja na povšini suspstrata
od nerđajućeg čelika pod uticajem električnog polja i kinetičke energije kretanja čestica, pri
čemu se formira prevlaka. Prema prethodno navedenom izrazu, povećanje primenjenog
napona povećava brzinu migracije čestica, samim tim se posledično povećava masa depozita
i debljina prevlake za određeno vreme trajanja procesa od 5 min. U cilju dobijanja završne
prevlake na površini odabranog supstrata, elektroforetska depozicija se sukcesivno ponavlja
tri puta pri naponu od 30 V.
Između svakog EFD ciklusa se vrši sušenje prevlake na sobnoj temperaturi. Povećanje
mase depozita na površini supstrata nakon svakog ciklusa je prikazano na Slici 22.
Slika 22. Masa deponovanog Mg-silikata na površini supstrata od nerđajućeg čelika u
funkciji od broja ponovljenih EFD ciklusa
Na visokom naponu brzina deponovanja se značajno smanjuje. Ovo može značiti da debljina
prevlake povećava električnu otpornost radne elektrode, što dovodi do smanjenja protoka
struje i smanjenja količine deponovanog materijala.
Na Slici 23. je prikazan izgled završne prevlake na površini supstrata od nerđajućeg čelika
nakon tri sukcesivno ponovljene elektroforetske depozicije, pri konstantnom naponu od 30 V.
48
Slika 23. Izgled završne prevlake na površini supstratne pločice pre kalcinacije
Promena mase deponovanog Mg-silikata na površini supstrata od nerđajućeg čelika u
funkciji od rastojanja između elektroda tokom procesa elektroforetske depozicije je prikazana
na Slici 24. Sa slike se može uočiti da se masa deponovanog Mg-silikata smanjuje sa
povećanjem rastojanja između elektroda.
Slika 24. Masa deponovanog Mg-silikata na površini supstrata od nerđajućeg čelika u
funkciji od rastojanja između elektroda
Kada su elektrode postavljene na većoj udaljenosti, dejstvo električnog polja koje se javlja
između njih je slabije, samim tim se čestice materijala iz suspenzije sporije kreću i
elektroforetska depozicija je manje efikasna. Posledica smanjene efikasnosti procesa
depozicije je smanjenje mase deponovanog materijala.
49
Zavisnost mase istaloženog materijala na pločici od nerđajućeg čelika u funkciji
vremena taloženja predstavljena je na Slici 25. Kao što se može videti, masa istaloženog
materijala se približno linearno povećava sa povećanjem vremena, a optimalna prava je
dobijena koristeći metod najmanje kvadratne greške. Nagib prave iznosi 0,00163 i daje masu
istaloženog materijala na elektrodi u jedinici vremena, a odgovara proizvodu μEtS u
Hamaker-ovoj jednačini. Pošto se radi o približno linearnoj zavisnosti, prema Sarkaru i
saradnicima, proces se odvijao u uslovima konstantne struje i konstantne koncentracije
suspenzije, što potvrđuju i eksperimentalna zapažanja u toku odvijanja procesa EFD. U toku
elektroforetskog taloženja je zabeležena konstantna struja od 0.01 A, pri konstantnom naponu
od 30 V.
Slika 25. Masa deponovanog Mg-silikata u funkciji vremena trajanja elektroforetske
depozicije
4.2. Morfološke karakteristike mikropovršine supstrata
Na Slici 26. su upoređene morfološke karakteristike supstrata od nerđajućeg čelika,
elektrohemijski urezanog supstrata, deponovanog Mg-silikata u svom prirodnom obliku u
vidu prevlake i prevlake Mg-silikata nakon kalcinacije na 900 °C.
Slika 26. Mikropovršina a) supstrat od nerđajućeg čelika, b) elektrohemijski poliran supstrat,
c) prevlaka Mg-silikata deponovana elektroforetskom depozicijom na nerđajućem čeliku tip
304, d) prevlaka Mg-silikata na supstratu nakon kalcinacije na 900 °C
50
Na Slici 26.a je prikazan supstrat od nerđajućeg čelika koji ima neuniformnu površinu
na kojoj se vide tragovi mehanički nanešenih oštećenja u vidu brazdi. Nakon kontrolisane
korozije, tokom elektrohemijskog nagrizanja, metalna površina postaje polirana, što se može
videti na Slici 26.b. Manji oblik hrapavosti površine supstrata može pružiti dobru osnovu za
nanošenje prevlake elektroforetskom depozicijom. Nakon tri sukcesivno ponovljena procesa
elektroforetske depozicije, dobija se glatka i homogena površina Mg-silikatne prevlake bez
vidljivih pukotina (Slika 26.c). Nakon kalcinacije (Slika 26.d) deponovani slojevi prevlake
pokazuju diskretna zrna skoro iste veličine, što je uobičajno imajući u vidu da tokom
kalcinacije i sinterovanja dolazi do kristalizacije i formiranja klinoenstatitne faze. Supstrat
neće značajno promeniti svoju dimenziju.
Pomoću digitalnog mikroskopa Motic D-EL1, ustanovljeno je da je debiljina Mg-
silikatne prevlake 75 μm.
4.3. XRD analiza
XRD analizom Mg-silikatnog praha dobijenog hidrotermalnom metodom je otkriveno
da postoje oštri difrakcioni pikovi koji ukazuju na amorfnu strukturu materijala. Međutim,
kalcinacija praškastih i površinskih prevlaka na 900 °C dovodi do formiranja samo jedne
kristalne faze, a to je klinoenstatitna faza. Na XRD dijagramu kalcinisanog uzorka nisu
uočeni difrakcioni pikovi koji potiču od nečistoća, što potvrđuje da je dobijeni produkt jedina
kristalna faza u uzorku (Slika 27.)
Slika 27. XRD dijagram klinoenstatita
Svi difrakcioni pikovi klinoenstatita su navedeni u Tabeli 5. Glavni pikovi u XRD
djagramu pripisuju se kristalnoj fazi klinoenstatita u skladu sa podacima iz baze JCPDS (broj
kartice 19-769).
51
Tabela 5. Lista pikova
Nakon interakcije klinoenstatita sa simuliranom telesnom tečnošću u
rendgenostrukturnom dijagramu se ne zapažaju vidljivi pikovi koji potvrđuju prisustvo novih
faza, što je u skladu sa literaturom, i ukazuje na malu sposobnost Mg silikata da gradi
apatitne i kristalne fosfatne faze. Međutim, treba imati u vidu da novonastale kristalne ili
amorfne faze mogu biti prisutne u uzorku ali se zbog njihovog malog udela ne mogu opaziti
na rendgenostrukturnom dijagramu kao odgovarajući pikovi. Za ovu vrstu analize je potrebno
primeniti znatno osetljivije kvantitativne i kvalitativne metode.
Br. 2 ϴ (°) Intenzitet (cps) FWHM (°)
1 13.92 101.9 0.90
2 19.99 197 0.44
3 26.94 342 0.90
4 28.02 841 0.34
5 29.90 383 3.13
6 30.99 1464 0.28
7 35.55 533 1.40
8 39.67 63.8 0.90
9 42.3 64 3.2
10 45.07 193.1 0.90
11 51.03 204.6 0.90
12 52.83 190.7 0.90
13 55.48 131.5 0.90
14 57.23 287 0.53
15 60.68 108 0.47
16 63.07 207 1.06
17 68.82 74 1.11
53
U ovom master radu su predstavljeni rezultati eksperimenata koji su vršeni u cilju
nalaženja optimalnih parametara za elektroforetsku depoziciju Mg-silikatnog materijala na
supstart od nerđajućeg čelika (tip 304), kako bi se postigla njegova biokompatibilnost.
Takođe, ispitani su uticaji tih parametara na masu deponovanog Mg-silikata, kao i ponašanje
formirane kristalne, klinoenstatitne faze nakon interakcije sa simuliranom telesnom tečnošću
(SBF).
Na osnovu izloženih rezultata i njihove diskusije, izvedeni su sledeći zaključci:
Amorfni Mg-silikatni materijal je sintetisan hidrotermalnim postupkom u autoklavu
na temperaturi od 200 °C i autogenom pritisku od 19 bara;
U cilju dobijanja kvalitetne prevlake, kao disperzni medijum je korišćen izopropanol
koji sadrži 1% vode, a kao aditiv za elektrostatičku stabilizaciju suspenzije
nanočestica je korišćen magnezijum nitrat. Pomoću digitalnog mikroskopa je
utvrđeno da je Mg-silikatna prevlaka na nerđajućem čeliku glatka, homogena i
kompaktna, bez pukotina.;
Nakon procesa kalcinacije na 900 °C na prevlaci se pojavljuju blage neravnine i
zrnasta struktura, koja je posledica sinterovanja na primenjenoj temperaturi. Pojava
blagih neravnina i malih pukotina se može izbeći dodatkom određenih aditiva, što je
predmet daljeg istraživanja na ovom polju;
Proces kalcinacije je rezultirao formiranjem kristalne faze klinoenstatita, što dokazuje
da se nakon kalcinacije/dehidratacije Mg-silikat može vrlo lako transformisati u
klinoenstatit;
Prevlake najboljeg kvaliteta su dobijene nakon tri uzastopna EFD ciklusa pri naponu
od 30 V, pri čemu se između svakog ciklusa elektroforetske depozicije prevlaka sušila
na sobnoj temperaturi. Ovim postupkom je dobijena kompaktna prevlaka,
ujednačnene debljine, dobre adhezije i glatke morfologije. Zapaža se da je povećanje
mase deponovanog materijala sa brojem ciklusa približno linearno;
U većem broju ponovljenih EFD ciklusa, količina deponovanog materijla se značajno
smanjuje u svakom sledećem ciklusu;
Povećanje primenjenog napona povećava brzinu migracije čestica, samim tim se
posledično povećava masa depozita i debljina prevlake;
Masa deponovanog Mg-silikata na površini supstrata raste sa smanjenjem rastojanja
između elektroda;
Masa deponovanog materijala se linerano povećava sa povećanjem vremena
taloženja;
Prisustvo novih faza nakon interakcije klinoenstatita sa SBF-om nije potvrđeno XRD
metodom koja je korišćena za određivanje strukturnih karakterisitka prevlake i
praškastih materijala.
55
[1] Laxmidhar Besra, Melin Liu, A review on fundamentals and applications of
electrophoretic deposition (EPD), 2006, 3-15, 24-29, 37-38.
[2] Ljiljana S. Živković Granična površina čvrsto - tečno: fenomeni i značaj, 2014, 52-54.
[3] Zoran Stojanović, Hidrotermalna sinteza nanostrukturnih oksidnih prahova i njihova
karakterizacija, Magistarski rad, Beograd, 2009, 11-13, 25-28, 57-58.
[5] Eileen Gentleman, Michael D. Ball, Molly M. Stevens, Biomaterials, London, 4-5, 7-8.
[6] B. D. Ratner, A. S. Hoffman, An introduction to Materials in Medicine, 50-51.
[7] C. Wu et al. Biomaterials, 2015, 35-37.
[8] Terzić et al, Primena instrumentalnih metoda za ispitivanje svojstava i mikrostrukture
konstrukcionih betona, Beograd, 2008, 261, 257-258.
[9] https://en.wikipedia.org/wiki/Biocompatibility#cite_note-IUPAC1-5
[10] http://mswebs.naist.jp/LABs/tanihara/ohtsuki/SBF
[11] https://en.wikipedia.org/wiki/Simulated_body_fluid