dpto. electrÓnica, automÁtica e informÁtica … · conservación de la energía e. 2-e. 1 =h....
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OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 2
Tema 3 – FotodetectoresCaracterísticas de un fotodetector
ResponsividadRespuesta en frecuenciaDetectividadEficiencia cuánticaRuido en los forodetectoresAbsorción de la luz en un semiconductor
Detectores cuánticosDispositivos fotoemisores.Fotodiodos en vacío.Fotomultiplicadores.Detectores fotoconductores Detectores de unión p-nEl fotodetector P-I-N Fotodiodos Schottky.El fotodetector de avalancha El fototransistor
Detectores formadores de imágenesDispositivos CMOSEl dispositivo acoplado por carga (CCD)
Detectores térmicosBolómetrosDetectores pìroelétricos
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 3
FOTODETECTORES
OBJETIVO
Exponer los principios fundamentales de funcionamiento, conceptos y técnicas para caracterizar, modelizar y aplicar los Fotodetectores
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 5
Requerimientos en fotodetectores
Alta sensibilidad en la longitud de onda de operación
Gran respuesta eléctrica a la señal óptica recibida ⇒alto rendimiento cuántico
Bajo tiempo de respuesta⇒ gran ancho de banda (respuesta temporal corta)
Ruido mínimo
Estable ⇒ independiente de cambios en las condiciones ambientales
Pequeña dimensión (acoplamiento eficaz a la fibra)
Bajo costo
Alta fidelidad ⇒ reproducción exacta de la señal óptica en un amplio margen
Baja tensión de funcionamiento
Fiabilidad
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 7
Esquema básico de detección
Preamplificador provee al circuito siguiente de la señal
adecuada (señal recibida puede ser muy débil)
Ecualización para favorecer frecuencias atenuadas
por el restringido ancho de banda del preamplificador
Control automático de ganancia provee nivel
promedio del señal independiente de la potencia de llegada
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 8
Responsividad
Potencia equivalente al ruido
Detectividad específica
Tiempo de respuesta
Eficiencia cuántica
Características de un fotodetector
[ ] [ ] A/W P
IR o V/W PVR
luzluz== λλ
RINEP o
RVNEP NN
λλ
==
( )NEP
fAD2/1
* Δ=
πτ≅=
21
t35,0fR
dB3
gEch
mRR
ech ⋅
≤⋅=⋅⋅
= λμλλ
η λλ donde
)(24,1.
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 9
Responsividad
Fotodiodo de Ge
00.10.20.30.40.50.60.70.8
0.5 1 1.5 2Longitud de onda (µm)
Responsividad(A/W)
Fotodiodos comerciales de Si
00.10.20.30.40.50.6
200 400 600 800 10001200Longitud de onda (nm)
A B
Responsividad(A/W)
0
0.2
0.4
0.6
0.8
1
800 1000120014001600 1800Longitud de onda (nm)
Responsividad(A/W)
Fotodiodo pin de InGaAs
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 10
ResponsividadResponsividad(A/W)
Longitud de onda (nm)Silicio adecuado para ventana de 0.85 μmGe y InGaAs adecuados para 2a y 3a ventanaGe tiene corriente de obscuridad mayor (0.1 μA @ 20°C, 1 μA @ 40°C) comparado con InGaAsP: corriente de obsc. 0.2 nA
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 11
Detectividad específicaD*
(mHz1/2W-1)Límite de ruido de fondo (300 K)
λ(µm)
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 12
Detectividad específica de Fotodiodos extrínsecos
1011
5
3
2
1010
5
32
2 3 4 5 10 20 30 100
Det
ectiv
idad
cm W
-1H
z1/2
Longitud de onda λ
(μm)
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 13
Eficiencia Cuántica en FotodiodosEf
icie
ncia
cuá
ntic
a η
Longitud de onda λ
(μm)
%
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 15
BERBER = Bit Error Rate = probabilidad de que un ‘1’ esté decodificado
como un ‘0’ y viceversa
Todas las probabilidades de errores de protocolos en niveles
más altos pueden ser deducidos del BER
S/R (Signal to Noise Ratio) está relacionado con el BER pero la
relación es diferente para diferentes tipos de modulación o de receptor
S/R eléctrico igual al doble de SNR óptico
PN : potencia del ruido σi : desviación de corriente a causa del ruido
electelect Nelect N
elect
i
señal
N
opt S/R 21
P
P log 10
21
P
P log 10
I log 10
P
P log 10/ ===== elect
optRSσ
dos transmitibits de Númeroerrores de Número BER =
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 16
BER
BER = p(1)Prob(0 /1) + p(0)Prob(1/ 0)p(1): probabilidad a priori que un 1 sea transmitido
Prob(0/1): probabilidad que 0 fue decodificado cuando un 1 está transmitido
p(0) igual a p(1) ⇒ p(0) = p(1) = ½
Si Q≥10; Q= parámetro de calidad ⇒
BER = 10-9 si Q = 6, BER = 10-15 si Q = 8
• Q2 puede ser identificado aproximadamente como SNR de la potencia (ratio señal potencia a ruido de la potencia)
• Para conocer BER, es necesario conocer la corriente promedio y el ruido (ambos dependen de la forma de modulación o del tipo de detector)
π22
2
QeBER
Q−
≈
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 18
Llegada de fotones
La llegada de fotones es discreta y no de forma continua a causa del carácter corpuscular de la luz
El número de fotones que llega en un haz de luz de potencia media constante sigue la distribución Poisson
Probabilidad de que N fotones lleguen en un intervalo T (ritmo promedio r fotones/seg):
( ) ( ) rTN erTNP−
=N!
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 19
Límite Cuántico por ASK
• Límite cuántico: potencia mínima de luz que debe llegar para obtener un cierto BER
• ASK (Amplitude Shift Keying) (simplificado): no luz durante tiempo T de un bit significativo, bit = 0.
• BER = 10-9 ⇒ rT = 20 (20 fotones cada tiempo de un bit T),• i.e. límite cuántico para BER 10-9=20 fotones• De igual manera: límite cuántico para BER 10-15=34 fotones• Potencia requerida sube cuando bit rate sube (vea gráfico)
rT-rT- e21 e
21 ) (0
210)Prob(1/
21 /1)Prob(0
21 BER =+=+=
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 21
Detección de luz generación par electrón-hueco al incidir un fotón
Coeficiente de absorción:
Gap directo Gap indirecto
E
K=0 k
+ ++
- --Fotón
hν
E
ECEg
EV
K=0 k
EC
Eg
EV+ ++
- --
Fotón Fonón
hν
Fl1
=α ( ) ( ) ( ) 21
g 2
23*
r Ehc
m 2 nP)( −νπ
ν=ναh
Absorción de fotones: conservación del momento k2-k1=2π/λ
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 22
1-Generación electrón-hueco libre Transición BV-BC directas e indirectasE ≈
Eg α ≈ 103-104 cm-1
2-Generación electrón-hueco libre Transición BV-BC directas e indirectasE >> Eg α ≈ 105-106 cm-1
3- Generación excitón libre Absorción excitónica
4- Electrón- ión aceptor Absorción por electrones asociados a 5- Ión donador – ión aceptor niveles de impurezas α ≤ 103 cm-1
EC
1 2 3 4 5 Eg
EV
Fotón Cambios de energía
Absorción de fotones: conservación de la energía E2-E1=hν
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 23
Ge Si GaAs
Gap indirecto Gap indirecto Gap directo
Diagrama de bandasDiagrama de bandas
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 24
Frecuencia Longitud de onda Frecuencia Longitud de onda
Visible
Ultravioleta
Infrarrojo
Ultravioleta
Infrarrojo
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 25
Energía y longitud de onda del gap para diversos semiconductores
Infrararrojo Visible Ultravioleta
Respuesta relativa del ojo[ ]
[ ]m 24,1 μλλevEE
hc
ggg ==≤
Eg (eV) 0,2 0,6 1,0 1,4 1,8 2,2 2,6 3,0 3,4 3,6
λ(μm) 6,0 3,0 2,0 1,5 1,0 0,9 0,8 0,7 0,6 0,5 0,45 0,35
InGaAs CdTe CdS GaN
InSb PbS Ge Si GaAs CdSe GaP SiC ZnS
HgCdTe GaAsP
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 26
Longitud de onda (μm)
Energía fotónica (ev)
Coe
ficie
nte
de a
bsor
ción
α(c
m-1
) GaInAsP
InGaAs
VariaciVariacióón del coeficiente de absorcin del coeficiente de absorcióónn
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 27
2
1n1nr ⎟
⎠⎞
⎜⎝⎛
+−
=
νη
= λ
hqPIP
Coeficiente de reflexiónEficiencia cuántica ext
ηe = (1-r)ηi (1-e-αd)
Fotocorriente
naire =1
n semiconductor
Fotones
hν
d
x x
ΦF incidentes
ΦF refractados
ΦF transmitidos
Rayo Rayoincidente reflejado
Rayo refractado
Reflexión y absorción
Efecto de la reflexión y la absorción en la eficiencia cuántica
ΦF (0) =ΦF (1-r)
ΦF (x) =ΦF (1-r) e-αx
Flujo de fotones refractados
λ
ν⋅=η
Ph
qIP
e
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 28
Fotocorriente
Pλ: potencia óptica incidente
r: coeficiente de reflexión en interfaz aire-semiconductor.
Se agrega capa antirreflectante para disminuir r
α: coeficiente de absorción (debe ser alto para una buena conversión de luz a
corriente)
x: distancia que la luz debe recorrer antes de llegar a la región de absorción
d: espesor de la región de absorción
( ) [ ]A e1h
P)r1(qI diP
α−λ −ν
η−=
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 29
Absorción para varios semiconductores
Coe
ficie
nte
de a
bsor
ción
α (m
-1)
0.2 0.4 0.6 0.8 1.2 1.4 1.6 1.8
Longitud de onda (μm)
In0.53Ga 0.47As
Ge
Si
In 0.7Ga0.3As 0.64P 0.36
InPGaAs
a-Si:H
12345 0.9 0.8 0.7
1×103
1×104
1×105
1×106
1×107
1×108
Energía fotónica (eV)
1.0
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 30
Dispositivos fotónicos
Fotoneshν
Dispositivos fotoemisor
Fotodiodo de vacío
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 31
Dispositivos fotoemisores - Fotocátodos
S1 (AgOCs)S11 (SbCsO)S20 (SbNaKCs)
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 32
Cátodo Tablilla Rejilla Cátodo Rejilla Ánodo
a) de persiana b) de caja y rejilla
Cátodo
Cátodo
Ánodo Ánodo
c) enfoque líneal d) enfoque jaula circular
Dispositivos fotónicos - Fotomultiplicadores
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 33
Dispositivos fotónicos - Fotomultiplicadores
La cadena de resistencias actúa como divisor de tensión y mantiene los dinodos a una tensión mayor que el cátodo.
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 34
Dispositivos fotónicos -Fotoconductor
o
V
Fotoneshν
hνElectrodos
Semiconductor
Aislante
L
A Ip
WD
n = n + Δn
Δp = po+ p
ALt
qGIn
p
tt
cLP 1 ⎟⎟
⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛+⎟⎟
⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛=
μμτ
1 ⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛+==
n
p
tt
c
PL
P
tIIG
μμτ
Fotocorriente
Símbolo
Ganancia fotoconductiva
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 36
Fotoconductores intrínsecosUltravioletaGaN, SZn
VisibleCdS, CdSe, CdTe 0,5 a 0,7 μm
InfrarrojoInGaAs/InP 1 a 1,6 μmPbS, PbSe, PbTe 1 a 5 μmInSb 7 μm T = 77 KHgCdTe 5 a 14 μm
Fotoconductores extrínsecosGe 10 a 100 μmimpurificado con: Au, Cu, Hg, Cd, B
Materiales fotoconductores
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 37
Dispositivos fotónicos. Detector de unión p-n
EC
hν
EV
Región dedeplexión
Fotoneshν
np (x)W
GL τn
np0
pn (x)GL τp
pn0
V R
P n
E x
E
Símbolo
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 38
Fotodiodo- Modos de separación de la carga
IS
Modo fotovoltaico
Modo fotoampérico
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 39
Fotodiodo- Modos de separación de la carga
Φe
Corriente de oscuridad, IS
iext
I
IVIII
II
VD
Corriente con luz, iP
RL
Φe iext V
Modo fotoconductor
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 40
Zona de deplexión: 1 genera corrienteZonas de difusión: 2 aumenta la sensibilidadZonas neutras: 3 no genera corriente
Fotoneshν
Intensidad de campo eléctrico E
IP
Ln W Lp
Respuesta del fotodiodo a la generaciRespuesta del fotodiodo a la generacióón de n de pares electrpares electróónn--huecohueco
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 41
Circuito equivalente del fotodiodo.
ip : fotocorrienteD : diodo idealRsh : resistencia a corrientes superficialesCT : capacidad de transiciónRs : resistencia zonas neutras
Modo fotoampérico
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 42
Característica del fotodiodoRs iext RL
iP iD ish ic +Vext
D Rsh Cd V- iext
I
IVIII
II
VD
Φe
Corriente de oscuridad, IS
Corriente con luz, iP
RL
Φe iext Vext
PSext iIi −−=
PS
Sext iKT
IRVqIi −⎥⎦
⎤⎢⎣
⎡−⎟
⎠⎞
⎜⎝⎛ −
= 1)(exp
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 43
Responsividad
0 200 400 600 800 1000 12000
0.1
0.2
0.3
0.4
0.5
0.6
0.7
0.8
0.9
1
Longitud de onda (nm)
Fotodiodo de Si
λ g
Responsividad
(A/W)
Fotodiodo idealQE = 100% (η = 1)
QE: eficiencia cuántica
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 44
p+ n n+
Fotoneshν
Fotodiodo p+ n
⏐V⏐>>V0 y NA >>ND
2/1
D
r0n qN
V2x ⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛ εε=
2/1
2A
Dr0p
qNVN2x ⎟
⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛ εε=
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 45
iFotones
hν
Idif
EC
Idif
Iarrastre EV
AbsorciónEr0 (1-r)
E r0 (1-r)e-αx
x
Diodo p-i-n
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 46
El material depende de la λ a detectarPara alta velocidad gap directoPara λ grandes Ge u otros compuestos Visión nocturna gap muy extrecho; refrigerar
Elegido el material, hay que:Minimizar la reflexión en la superficieMaximizar la absorción en la zona de carga espacialMinimizar la recombinación de portadoresMinimizar el tiempo de transito
SelecciSeleccióón del material en diodo PINn del material en diodo PIN
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 47
Fotodiodos p-i-n de tipo “mesa”Longitud de onda (μm)
Energía fotónica (ev)C
oefic
ient
e de
abs
orci
ón α
(cm
-1)
GaInAsP
InGaAs
InGaAs
λ=1,55μm⇒α=104cm-1
Wi = 2α-1 = 2 μm
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 48
Limitación de la velocidad de respuesta
102 103 104 105
Campo eléctrico (V/cm)
108
107
106
105
Vel
ocid
ad d
e de
spla
zam
ient
o (c
m/s
) In0,53 Ga0,47 As InP
GaAs
Si
T=300 K
In0,53 Ga0,47 As
Ge
Ge
Electrones
Huecos
Tiempo de transito
ttt =W/vsat
vsat =μn. E
Alta velocidad
W pequeña
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 49
Limitación de la velocidad de respuesta
Rs iext RL
iP iD ish icV
D Rsh CT
Capacidad de transición
WACT
ε=
2RC
2tt
2 t τ+=τ
Constante de tiempo
τRC = RL CT
Tiempo de respuesta
Máxima velocidad de respuesta: RCttt τ=
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 50
Ener
gía
del
ele
ctró
n
A
B
D
C
Distancia
ECEg N
EV
1
2
3
P
Fotón
EInyección de portadores
Zona de deplexión
Tiem
po
APD. Multiplicación por avalancha
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 51
Coeficiente de ionización
105
104
103
102
101Coe
ficie
nte
de io
niza
ción
(cm
-1)
Ge
αp Siαn αn
Siαp
1 2 3 4 5 6Campo eléctrico (x105 V cm-1)
Factor de multiplicación
iIIM =
m
BRVV
1
1M
⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛−
=
m=cte, depende del diseño
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 52
Fotodiodo de avalancha. SAM APD
EC
EgEV
n+ p π
p+Fotoneshν
Wav W absAvalancha Absorción
x
Campo eléctrico
E
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 53
Estructuras SAM APD de Si
(
SiO2Anillo de guarda
ElectrodoCapa antireflectante
nn n+
p+
π
p
SubstratoElectrodo
n+
p+
π
p
SubstratoElectrodo
Ruptura por avalanchaa) (b)
(a) Sin anillos de guarda. (b) Con anillos de guardaEvita las corrientes de fuga en el borde de la unión
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 54
Fotodiodo de avalancha. SAM APD
Heterounión
EC
Eg1 p+
EV EC
n+ Eg2EV
hν
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 55
Fotodiodo de avalancha. SAGM APDHeterounión
Aplicado en sistemas de comunicación
Fotoneshν
Contactos p
p+ InPn- InP
n- InGaAsn- InGaAsP
p+ InGaAs
Pasivación
n+ InPn+ InP substrato Contactos n
Tiempo de respuesta
100-200ps
SAGM, separate absortion grading and multiplication
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 56
Estructura de mesa APD SAGM
P+–InP
Substrate
P+–InP
(2-3 μm) Buffer epitaxial
layerN–InP
(2-3 μm) Multiplication
layer.
Photon
n–In0.53Ga 0.47As (5-10μm) Absorption
layer
Graded n–InGaAsP
(<1 μm)
Electrode
Electrode
Esquema simplificado de una estructura de mesa APD SAGM
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 57
Comparación entre APD
Parámetro Símbolo Unidad Si Ge InGaAs
Longitud de onda λ µ
m 0.4-1.1 0.8-1.8 1.0-1.7
Responsividad
R A/W 80-130 3-30 5-20
Ganancia APD M -
100-500 50-200 10-40
Corriente de oscuridad Id
nA
0.1-1 50-500 1-5
Tiempo de subida tr ns
0.1-2 0.5-0.8 0.1-0.5
Ancho de banda Δf
GHz
0.2-1.0 0.4-0.7 1-3
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 58
Comparación entre FotodetectoresFotoconductor
Fabricación simple y utilización fácil
Corriente de oscuridad alta⇒ruido térmico
Bajo rendimiento en aplicaciones de comunicación
Fotodiodo PINBuena relación ancho de banda/ sensibilidad
Velocidad de respuesta muy alta
Fotodiodo APDBuena relación ancho de banda/ sensibilidad
Menos rápido que fotodiodo pin y ruidoso
Altos valores de las tensiones de polarización
SAGM-APD mejor rendimiento en los sistemas de comunicación ⇒incompatible con OEIC
Según gráfica el mejor
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 59
Materiales para fotodiodos
Silicio
Germanio
InGaAs GaInAsP
HgCdTeInAs ; InSb
Eg =1,1ev Gap indirecto. Visible e infrarrojo
Altas prestaciones en diodo de avalancha en LAN
No puede trabajar en λ=1,3 y 1,55 μm
Eg =1,1ev Gap indirecto. Visible e infrarrojo
Altas prestaciones en diodo de avalancha en LAN
No puede trabajar en λ=1,3 y 1,55 μm
Gap indirecto. Sensor de infrarrojo
Puede trabajar en λ=1,3 y 1,55 μm
Baja sensibilidad y corriente oscura alta
Gap indirecto. Sensor de infrarrojo
Puede trabajar en λ=1,3 y 1,55 μm
Baja sensibilidad y corriente oscura alta
Gap directo crecidos sobre InP
Puede trabajar en λ=1,3 y 1,55 μm
Utilizados en heterouniones
Gap directo crecidos sobre InP
Puede trabajar en λ=1,3 y 1,55 μm
Utilizados en heterouniones
Gap directo, no crecen sobre InP
Trabaja en λ=1,3 y 1,55 μm , visión nocturna e imágenes térmicas.
Alta corriente de oscuridad, necesita enfriamiento
Gap directo, no crecen sobre InP
Trabaja en λ=1,3 y 1,55 μm , visión nocturna e imágenes térmicas.
Alta corriente de oscuridad, necesita enfriamiento
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 60
Tipo Fotodiodo Planar Diodo Pin
DiodoAvalan
cha
Unida des
Material Si Ge GaAsP InAS InSb Si Si -
Espectro 0,19- 1,1 0,7-2 0,3-
0,760,5- 4,5
0,5- 5,5 0,3-1,1 0,4-1 μm
Respues ta max
0,56- 0,98 1,5-1,8 0,64-
0,71 3,5 5,3 0,8- 0,96 0,8 μm
Respons ividad
0.3- 0.6 1.0 0.3-
0.4 10 200 0.5-0.6 40-100 A/W
Tiempo de
respuest0.1-1 0.05 0.5-
10 0.5 10 0.002- 0.02
0.3x10-3- 9x10-3 μs
Aplicación
A,B,C D,E E A,B,F C C A,D A,D,F
A – Radiometría en general B – Fotometría C –Células solaresD – comunicaciones E – Sensores en IR F – Sensores en ultravioleta
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 61
Fototransistor
hν +VCC
colector
base (no conectada) emisor
V0
RL
Ganancia como el APD , pero más ruido.Tiempo de respuesta muy limitadoBuena sensibilidad.Menor linealidad.Mucha variación con la temperatura
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 62
Emisor Base Colector
hν
IE IC
E ICO C
αF IE
VCC IB RL
B
Fototransistor. Energía de bandas y representación de corrientes
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 63
Estructuras de un Fototransistor
(a)
Fototransistor
de silicio
(b) Fototransistor
n-p-n hecho con una heterounión
InGaAs/InP
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 64
Detector CCD
CCD son las siglas de Charge CoupledDevice (dispositivo de carga acoplada)que hace referencia a una matriz dedetectores como los que hemos descritoCada uno de los elementos fotosensiblesdel sensor se denomina pixel (pictureelement). El número de píxeles delsensor se suele medir en millones depíxeles (o megapíxeles, Mpx)Los píxeles suelen llevar un pequeñofiltro en la parte superior de forma quesólo permite pasar luz del rojo, verde oazul. El color de un pixel se obtiene aposteriori por software mediantealgoritmos de interpolación
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 65
CCD
Semiconductor(Silicio dopado ) p
ÓxidoMetal
+ VContactoeléctrico
portadoresminoritarios
Barrera deseparaciónde canales
Barrera deseparaciónde canales
Zona vaciada
Matriz CCD 10×10. Fotodetector.
Elemento Espesor
(μm)Electrodo 1 - 2
Zona de vaciamiento 5Óxido 1 - 2
Semiconductor 50
La base de los dispositivos CCD son los capacitores MOS
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 66
+ VFotón
par e
-- h+-
CCD: generación de la señal
La carga acumulada es proporcional al número de fotones incidentes y al tiempo de exposición
Al llegar fotones al condensador, si éste está a potencial positivo, se generan pare e-h que quedan atrapados en un pozo de potencial ya que a los dos lados otros condensadores están colocados a potencial negativo: los fotoelectrones se acumulan en una región definida
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 67
CCD Transferencia de cargaUna vez confinados los paquetes de carga hay que transferirlos hasta un sensor para convertir su distribución espacial en una señal eléctrica
sensor de carga
V t( )
I x( )
Q x( )
La transferencia puede ser:• Dos fases• Tres fases• Cuatro fases
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 68
CCD de tres fases. Transferencia de carga
1 1 12 2 23 3 3 PUERTASt t= 1
t t= 2
t t= 3
t t= 4
pote
nci a
l
Mal control del potencial de superficie.Problemas con las transferencias
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 69
CCD de cuatro fases. Transferencia de carga
1 4 32 1 43 2 1 PUERTASt t= 1
t t= 3
t t= 4
t t= 2
pote
nci a
l
La CCD de cuatro fases presenta los siguientes problemas:Barrera de potencial doble entre paquetes durante todo el procesoEstructura solapada entre puertas, no hay espacio entre puertas
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 71
Inconvenientes y ventajas de los CCD
VENTAJAS INCONVENIENTES
Alto grado de integración Problemas asociados al rango dinámico.
Gran sensibilidad Saturación, Blooming (emborronado)
Linealidad Posibilidad de Crosstalk(un fotón puede provocar un par
e-h en una zona no deseada)Robustez
Alta eficiencia en la transferencia de carga Corriente de oscuridad ( se puede solucionar
enfriando el dispositivo)Salida fácilmente adaptable a formatos estándar
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 72
CCD Arquitectura
Sensor de imagen líneal
La imagen se saca muy poco a poco (cada ciclo de reloj llevauna línea hacia abajo y luego hay que extraer la línea completa). Para hacerlo más rápido hay dos soluciones:
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 73
CCD Arquitectura
Δx
Δyφ1
φ2
φ3
Barreras aislantes
Sección de formación de imagen
Sección de almacenamiento de cargaZona ópticamente aislada
salida
Registro de lectura de salida
Matriz detección
Sensor de imagen superficial: CCD de transferencia de imagen
Toda la matriz se descarga de una vez a una matriz igual
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 74
CCD de transferencia de imagen (frame transfer)
Principio de funcionamiento
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 75
Línea par
Línea impar
Puertas de transferencia Registros de transferenciaópticamente aisladosΔx
Δy
salida
Registro de lectura de salida
Matriz detección
Sensor de imagen superficial: CCD de transferencia interlineal
CCD Arquitectura
Es la más rápida, pues en un único ciclo de reloj setransfiere toda la matriz. La desventaja es que no puede tener tanta resolución pues se necesita espacio para las máscaras entrelíneas
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 76
CCD de transferencia interlineal (interline transfer)
Principio de funcionamiento
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 77
Comparación entre la transferencia de imagen y la transferencia interlineal
Transferencia de imagen Transferencia interlineal
Tiempo deintegración
20 μs CCIR16.7 μs NTSC
40 μs CCIR100 μs NTSC
Tiempo detransferencia 300-500 μs 1-3 μs
Factor dellenado 100 % 20-40 %
#pixels 500x500 – 2000x2000
Respuesta afrecuenciasespacialeselevadas
MALA BUENA
Aliasing,Moire POCO MUY RESALTADO
500x500 – 4000x4000
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 80
CCD con filtros de color
Los captadores son los mismos que para una imagen en blanco y negro pero se añade un filtro en la zona donde llega la luz.
Un filtro verde, un azul y un rojo dejan pasar cada uno una única longitud de onda que corresponde a su color. La cantidad de píxeles verdes es doble debido a la sensibilidad del ojo humano
Filtro de Bayer
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 83
Imagen entrelazada Lectura progresiva (progresive scan)
Ahora la imagen esta más nítida
Lectura progresiva (progresive scan)
Imagen entrelazada
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 84
Aplicaciones de los dispositivos CCDCámaras digitales (foto, vídeo y vídeo profesional (3 CCDs))
Cámaras de IR (cooled CCDs)
Fototometría, sensores, espectroscopía en el UV
Fotografía astrofísica (técnicas de tracking y alta velocidad)
Escáner-fax-fotocopiadoras (CCD’s lineales)
Registro de imágenes de patrones de franjas
Caracterización de haces Láser
Registro de imágenes de fuentes muy débiles
Registro de imágenes de rayos X
ΔV= 10kV
Detector CCD
Cátodo fotoemisivo
e-
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Detectores termoeléctricos
Bolómetro en un puente de Wheatstone
Circuito de polarización del bolómetro
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 86
Ejemplo 1
Sobre un fotodiodo pin de silicio con una región intrínseca de anchura 10 μm, incide la luz de un laser de GaAs con energía de 1,43 eV. La potencia óptica por superficie es de 1 W/cm2. Calcular la densidad de fotocorriente en el detector, suponiendo que no hay perdidas por reflexión.
Solución
El flujo de fotones incidentes por superficie sobre el detector es
El coeficiente de absorción para el Si para una energía de 1,43 eV es ≈
700x102 cm-1
J =q(NP /A) [1-exp-(αW)]=1,6 10-19x4,37 10-18 [1-exp-(700 102x1010-4)]=0,352A/cm2
12-1819 cm 1037,4
106,143,11 −
− === sxxxh
AP
ANP
ν
OPTOELECTRÓNICA-ELAI Tema 3 87
Ejemplo2Considérese un fotodiodo de avalancha típico con los parámetros siguientes:
Potencia óptica incidente P=50 mW Eficiencia cuántica η=90%
Frecuencia óptica ν=4,5 10 14 Hz Voltaje de ruptura VBR =35 V
Voltaje del diodo V=34 V Corriente de oscuridad IS =10nA
Parámetro m para la multiplicación 2
Calcular: a) el factor de multiplicación, b)el flujo de fotones y c) la fotocorriente
Solución
a) El factor de multiplicación
b) El flujo de fotones
c) La fotocorriente no multiplicada
IL =ηqNP =0,9x1,6x10-19x1,68x1017 = 24,16 mA
Como IS <<IL , la corriente multiplicada ITOTAL es
ITOTAL =M IL = 16,67x24,16=0,4A
67,1635341
VV1M
121m
BR=
⎥⎥⎦
⎤
⎢⎢⎣
⎡⎟⎠⎞
⎜⎝⎛−=
⎥⎥
⎦
⎤
⎢⎢
⎣
⎡⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛−=
−−
1171434
3
1068,1105,41095,6
1050 −−
−
=== sxxxx
xhPN p ν